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本实用新型涉及环保技术领域，具体而言，涉及一种冷却结构及处理装置。背景技术在日常生产生活中会产生大量的固体废弃物，例如垃圾、炉渣、污泥、农林废弃物等，为了减少固废对环境的污染，需对固废进行处理，常规的处理方法主要有：物理填埋、热处理、回收等

本实用新型涉及废气处理技术领域，尤其涉及一种废气处理装置。背景技术在现代的化工领域之中，产生的废气则需要进行处理，防止排出造成污染，国家方面也十分重视废气处理，则对废气排放严格控制，对此化工厂在对废气排放时，则需要废气进行酸碱废气处理、异味

本实用新型涉及自动化加工设备技术领域，特别设计一种自动化锁附装置。背景技术目前，在将物料锁附在物体上时，通常需要人工将物料放置在物体上的适当位置或透过振动盘加直挀将钣金送至工作位，然后通过螺丝紧固连接，使得物料固定在物体上。例如，在电脑机箱

本实用新型涉及回转窑冷却技术领域，具体涉及一种白刚玉深加工用冷却窑炉。背景技术回转窑是白刚玉深加工的重要装置，回转窑工作时会产生大量的热，物料温度较高，需要将物料快速冷却，保证产品的合格率，同时回转窑本身温度较高容易影响使用寿命，因此需要使

本实用新型涉及焦炉尾气导流技术领域，具体涉及一种用于焦炉尾气处理的导流装置。背景技术焦炉是用来生产焦炭和焦炉煤气的一种装置，在焦炉煤气的使用过程中，焦炉煤气中含有大量含硫氧化物，含硫氧化物在排放到外界对大气环境有很大的危害。而现有焦炉尾气处

本实用新型涉及隧道炉技术领域，尤其涉及一种加热隧道炉热风循环系统。背景技术隧道炉用途非常广泛，适用于烘烤有化学性气体及食品加工行业的欲烘烤物品、基板应力的去除、油墨的固化、漆膜的烘干等。广泛使用于电子、电机、通讯、电镀、塑料、五金化工、食品

本实用新型属于一种半导体元件吸取机构技术领域，具体涉及一种具有弹性缓冲的半导体元件吸取机构。背景技术如图1及图2所示，分别为现有技术中半导体元件吸取机构的立体图及剖面图。传统的吸取机构包括吸嘴基座11、套筒12、连接件13及弹簧14。吸嘴基

本实用新型属于污染物减排领域，更具体的说，涉及一种脱硫塔内降低氨法脱硫气溶胶排放的装置。背景技术近年来，随着人们对环境的关注度日益提高，环保标准逐渐严格，对污染物减排工作的研究日益深入。其中，氨法脱硫工艺因其气液、气气反应速度快、脱硫率高、

本实用新型涉及陶瓷烧结设备技术领域，具体为一种陶瓷彩砂用烧结设备。背景技术烧结，是指把粉状物料转变为致密体，将预成型品加热至熔点327摄氏度以上，并在此温度下保持一定时间，使聚合物分子由结晶形逐渐转变为无定型，使分散的树脂颗粒通过相互熔融扩

本实用新型属于耦光设备技术领域，涉及一种全自动反射镜耦光系统用自动取料机构。背景技术全自动反射镜耦光系统在实践中具有广泛的应用，藕光系统在生产中需要通过胶水将反射镜与相应的基座进行固定连接。在实践中，是将需要连接的基座放置于料盘的工位中，然

本实用新型涉及废气净化技术领域，特别是涉及一种环保型工业废气净化装置。背景技术工业废气，是指企业厂区内燃料燃烧和生产工艺过程中产生的各种排入空气的含有污染物气体的总称。这些废气有：二氧化碳、二硫化碳、硫化氢、氟化物、氮氧化物、氯、氯化氢、一

相先关申请的交叉引用本专利申请要求2019年3月11日提交的意大利专利申请no.102019000003481的优先权，其全部公开内容通过引用合并于此。本实用新型涉及一种用于烧制陶瓷制品的设备和燃烧器。特别地，本实用新型在陶瓷制品的烧制中发

本实用新型涉及脱硝设备技术领域，具体的，涉及一种水泥厂用脱硝设备。背景技术脱硝是指燃烧烟气中去除氮氧化物的过程，喷淋塔就是脱硝工艺中诸多步骤的的一种，而喷雾塔又称喷淋塔，塔内无填料或塔板，但却设置有喷嘴的吸收塔，液体由塔顶进入，经过喷嘴被喷

本实用新型涉及陶瓷生产技术领域，更具体的，涉及一种流水线用陶瓷保护装置。背景技术流水线又称为装配线,一种工业上的生产方式，指每一个生产单位只专注处理某一个片段的工作，以提高工作效率及产量；按照流水线的输送方式大体可以分为：皮带流水装配线、板

本实用新型涉及无机非金属材料生产设备技术领域，具体为高硅氧玻璃纤维布烧结设备。背景技术高硅氧纤维是高纯氧化硅非晶体连续纤维的简称，其氧化硅含量96–98%，连续耐温摄氏1000度，短暂耐温摄氏1400度，其制成品主要包括连续纱、绳带、套管、