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一种新型控制柜散热装置的制作方法
本技术涉及控制柜,具体为一种新型控制柜散热装置。背景技术、控制柜在进行使用时,控制柜内部的电气设备会产生较多的热量,热量大量堆积会影响电气设备的使用寿命,并存在较大的隐患。、现有技术中,公开号为cnu的中国专利一种控制柜用散热装置,采用了“
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7天前
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一种永磁铁氧体成型模具的制作方法
本发明涉及模具制造,尤其是涉及一种永磁铁氧体成型模具。背景技术、永磁铁氧体模具主要是由模架、凹模、上模、下模组成。其中模架、上模、下模为强导磁材料,凹模为弱导磁材料。模具成型时在外加磁场作用下,磁力线主要经过模架、下凸模、成型坯体、上模及液
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7天前
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头盔蓝牙的制作方法
本技术涉及蓝牙,特别涉及头盔蓝牙。背景技术、众所周知,头盔车载蓝牙通常都是安装在驾驶员的安全头盔侧壁上,它利用蓝牙技术可在机车行驶过程中与手机连接并进行免提通话,达到了解放驾驶员双手,降低交通肇事隐患的目的。、现有技术中的头盔蓝牙的贴片卧式
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7天前
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挠度测量装置的制作方法
本申请涉及测量装置领域,尤其涉及一种挠度测量装置。背景技术、挠度是指在变形时其轴线上各点在该点处轴线法平面内的位移量。光伏柔性支架用于安装光伏板的结构,一般包括立柱、支撑梁和钢丝绳,钢丝绳上用于安装光伏组件,钢丝绳的挠度值决定了光伏组件安装
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7天前
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检测方法及检测装置、设备和存储介质与流程
本发明涉及光学检测,尤其涉及一种检测方法及检测装置、设备和存储介质。背景技术、随着技术的不断发展,精密加工被用到越来越多的领域,同时,对于加工精度也有越来越高的要求。为了满足加工精度的需求,提高产品的合格率,需要对产品进行在线检测(例如,通
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7天前
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一种防水涂料制备用可控下料的配料罐的制作方法
本技术属于防水涂料制备,具体涉及一种防水涂料制备用可控下料的配料罐。背景技术、丙烯酸防水涂料是以纯丙烯酸聚合物乳液为基料,加入其他添加剂而制得的单组份水乳型防水涂料。防水涂料经固化后形成的防水薄膜具有一定的延伸性、弹塑性、抗裂性、抗渗性及耐
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7天前
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一种终端天线的制作方法
本申请涉及天线,尤其涉及一种终端天线。背景技术、电子设备可以通过其中设置的天线,提供无线通信功能。随着电子设备的发展,对无线通信质量要求越来越高,同时电子设备集中度越来越高,留给天线的设计空间越来越有限。那么就需要电子设备中的天线能够提供更
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7天前
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一种瓦楞纸箱印刷机的加热处理装置的制作方法
本技术涉及纸箱印刷机,尤其涉及一种瓦楞纸箱印刷机的加热处理装置。背景技术、纸箱印刷机是能够将所需的文字、图案及其它信息印至纸箱箱体表面的印刷设备,它一般包括装版、涂墨、压印、输纸等工艺流程。纸箱印刷一般有单一印刷、印刷带开槽模切、印刷开槽
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7天前
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电子装置以及用来在电子装置中进行时钟门控的方法与流程
本发明涉及时钟门控,特别涉及一种电子装置以及用来在该电子装置中进行时钟门控的方法。背景技术、根据低功耗的要求,现有的芯片典型地会具备多个时钟开关电路来控制是否致能对应的低功耗电路。然而,在对一待测电路进行测试时,上述低功耗电路需要被致能才可
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7天前
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一种虚拟仿真训练用的消化内镜的制作方法
本技术涉及医用器械,具体是一种虚拟仿真训练用的消化内镜。背景技术、为了训练医务人员的消化内镜操作技巧,通常需要医务人员通过虚拟仿真训练设备进行长期的训练,而在这个过程中需要为了避免医务人员一直手持着消化内镜而感到劳累,因此,通常训练用的消化
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7天前
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一种扬声器组件及其制备方法、扬声器与流程
本申请涉及扬声器,具体涉及一种扬声器组件及其制备方法、扬声器。背景技术、扬声器是一种将音频电信号转换为声信号的换能器,亦即将声音电信号转换为机械振动的设备,传统的扬声器有电动式(即动圈式)、电磁式(即舌簧式)等,传统的扬声器产品结构庞大,重
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7天前
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一种自带上料挖斗移动破碎站的制作方法
本技术属于破碎机,具体涉及一种自带上料挖斗移动破碎站。背景技术、目前我国使用的移动破碎站,主要有轮胎牵引式和履带自行式两种,履带自行式移动破碎站是将受料斗、喂料机、破碎机、胶带输送和柴油发动机安装在履带底盘上,通过自身的动力可实现作业内短距
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7天前
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一种用于中空玻璃生产的可调式多功能处理工装的制作方法
本发明涉及中空玻璃生产设备,尤其涉及一种用于中空玻璃生产的可调式多功能处理工装。背景技术、现有的中空玻璃在进行生产时,通常需要相关工作人员对两片玻璃之间的距离进行确认,而对两片玻璃的间距进行确认时的操作方式,大多数是由相关的工作人员手动对两
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7天前
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一种水泥砂浆填缝装置的制作方法
本技术涉及填缝装置,具体为一种水泥砂浆填缝装置。背景技术、道路桥梁一般由路面、路基、桥梁、隧道工程和交通工程等几部分组成,其中路面是最容易受损的,由于多种原因极易产生裂缝。修建时因温度、施工工艺不正确等原因,以及在投入使用后因货车超载碾压等
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7天前
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光学邻近修正方法与流程
本发明涉及半导体制造,尤其涉及一种光学邻近修正方法。背景技术、光刻技术是半导体制作技术中至关重要的一项技术,光刻技术能够实现将图形从掩膜版中转移到硅片表面,形成符合设计要求的半导体产品。光刻工艺包括曝光步骤、曝光步骤之后进行的显影步骤和显影
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