本发明涉及半导体技术领域，特别是涉及一种含al氮化物半导体结构、器件及制备方法。背景技术含al氮化物属于第三代宽禁带半导体材料，具有禁带宽度高，电阻率高，击穿电场高，热导率高，介电系数小，电子饱和速率高以及抗辐射能力高等优点，是优异的高温高

本发明涉及机械切割技术领域，具体为一种弧刀式切桑机的刀片机构。背景技术机械切割是对板材粗加工的一种常用方式，属于冷切割，其实质是被加工的金属受剪刀挤压而发生剪切变形并减裂分离的工艺过程，机械切割是常用的一种切割方法，随着火焰切割、电弧切割等

本发明涉及人防工程技术领域，具体为一种人防工程地坪漆的施工系统及使用方法。背景技术人防工程在建造时，为了降低建造成本以及加快施工效率，在施工时，在地面涂覆一层地坪漆，地坪漆由多种不同物质经混合、溶解、分散等许多道生产工艺制造而组成。地坪漆具

本发明涉及碳化硅制备技术，尤其是一种提高碳化硅外延薄膜生长质量的方法。背景技术近些年，碳化硅(sic)外延材料和器件正在稳步而快速增长，在某些领域其正在逐步替代传统的硅和砷化镓材料。相对于硅和砷化镓来说，碳化硅具有更好的材料特性。例如4h-

本发明涉及生物质燃料处理技术领域，具体为一种可利用太阳能自行驱动的生物质燃料用预处理装置。背景技术生物质能是可再生能源的重要组成部分，在各种可再生能源中，由于核能、大型水电具有潜在的生态环境风险，风能和地热等区域性资源制约，大力发展遭到限制

本公开涉及半导体技术领域，具体而言，涉及一种半导体器件、硬掩膜结构及硬掩膜结构的制造方法。背景技术硬掩膜(hardmask)，主要用于多重光刻工艺中，具体而言，可先将多重光刻胶图像转移到硬掩膜上，再通过硬掩膜将最终图形刻蚀转移到衬底。碳薄膜

本发明涉及建筑施工领域，具体是涉及一种用于建筑墙面全自动高效抹灰设备。背景技术墙体抹灰是房屋建设工程中必不可少的工序，现在的操作一般是人工操作，费时费力，大大延长了施工周期和施工进度，不管是混凝土墙还是砌墙，在主体施工完成之后都要进行抹灰工

本发明涉及生物质粒技术领域，更具体的说，涉及一种生物质粒制粒装置。背景技术质粒广泛存在于生物界，从细菌、放线菌、丝状真菌、大型真菌、酵母到植物，甚至人类机体中都含有。从分子组成看，有dna质粒，也有rna质粒；从分子构型看，有线型质粒、也有

本发明涉及半导体技术领域，特别是涉及一种改善隧穿氧化层可靠性的方法。背景技术作为隧穿氧化层的氮氧化硅，必须要有较好的薄膜特性和工艺可控性，所以一般工艺是先形成一层致密的、高质量的二氧化硅层，然后通过对二氧化硅氮化来实现。issg(原位蒸汽生

本发明涉及抹灰施工领域，具体为一种墙体抹灰工艺及施工设备。背景技术建筑行业的墙面抹灰工程基本都是由泥瓦工手工完成，其劳动强度大、效率低。为降低作业人员的工作强度，同时提高工作效率，现有出现了自动抹灰机问世，以求解决传统人工抹灰出现的问题，如

本发明涉及食品加工技术领域，具体为一种肉块粉碎挤压系统。背景技术肉馅是一道常见的家常菜，营养美味，老少皆宜，肉馅通常指整块肉经过加工后所成肉末。肉馅最常见的用途是用来做饺子或包子。饺子或包子好不好吃全看肉馅怎么样。但是肉馅在制作过程中需要将

本发明涉及一种用化学机械抛光组合物选择性化学机械抛光钴、氧化锆、多晶硅和二氧化硅膜的方法，所述化学机械抛光组合物含有水，苄基三烷基季铵化合物，钴螯合剂，腐蚀抑制剂，胶体二氧化硅磨料，任选地杀生物剂和任选地ph调节剂，并且ph大于7，并且所述

本发明涉及墙体彩绘技术领域，具体涉及多功能墙体彩绘一体机。背景技术墙体装饰的变革是时代发展的必然，现代人有90％以上的时间在室内度过，所面对和直接接触的就是墙面，千篇一律的大白墙早已经让人厌倦，单一的色彩墙面让人很容易产生视觉疲劳；再者室内

本发明涉及粉碎机技术领域，具体是一种低粉尘的饲料粉碎机。背景技术饲料粉碎机主要用于粉碎各种饲料和各种粗饲料，饲料粉碎的目的是增加饲料表面积和调整粒度，增加表面积提高了适口性，且在消化边内易与消化液接触，有利于提高消化率，更好吸收饲料营养成分

本发明涉及碳化硅蚀刻技术领域，具体涉及一种金属辅助电化学的p型绝缘型碳化硅蚀刻方法。背景技术sic做为新一代半导体材料，具有优异的材料特性，如与硅材料相比,三倍的能量带宽度、10倍高绝缘耐电场能力、2倍的饱和电子速度和3倍的优异导热性；其