• 本实用新型涉及监测设备技术领域,具体为一种水质监测设备。背景技术水质监测,是监视和测定水体中污染物的种类、各类污染物的浓度及变化趋势,评价水质状况的过程,监测范围十分广泛,包括未被污染和已受污染的天然水及各种各样的工业排水等,主要监测项目可
      专利2022-7-11
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    • 本实用新型涉及齿轮加工设备领域,特别涉及一种齿轮清洗装置。背景技术在齿轮生产的过程中,因为需要在齿轮加工时对齿轮进行冷却,所以需要使用到冷却液,或者是油等,这样会使加工出来的齿轮上粘满了油或冷却液,而且铁屑和灰尘都会粘在上面,齿轮会很脏,所
      专利2022-7-11
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    • 本实用新型大体上涉及真空镀膜机技术领域,更具体地,涉及镀膜机转架。背景技术镀膜机转架是卷绕式真空镀膜机中的重要组成部件,其主要由主动轴、从动轴以及转架框架组成。需要镀膜的卷材卷绕在从动轴上。通常情况下,在镀膜机转架工作前,先将从动轴上的卷材
      专利2022-7-11
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    • 本实用新型涉及水质检测仪技术领域,具体涉及一种水质检测装置。背景技术水质检测仪,用于分析水质成分含量的专业仪表,测量水中:bod、cod、氨氮、总磷、总氮、浊度、ph、溶解氧等项目的仪器,市面上比较常见的水质检测仪一般为类似于笔杆状的检测笔
      专利2022-7-11
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    • 本实用新型涉及无线耳机技术领域,尤其涉及一种无线耳机清洗设备。背景技术无线耳机,特别是无线蓝牙耳机,因无需设置连接线而避免了导线缠绕的问题,便于用户的使用。入耳式的无线耳机在使用一段时间后会存在音质降低的情况,导致其音质降低的原因通常为无线
      专利2022-7-11
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    • 本实用新型涉及化学气相沉淀镀膜设备技术领域,具体为极光化学气相沉淀镀膜设备。背景技术在不远的将来,合成钻石很可能取代天然钻石,预计到2026年,合成钻石市场将增至2000万克拉,美国零售巨头沃尔玛和沃伦巴菲特拥有的珠宝零售商赫尔茨伯格钻石只
      专利2022-7-11
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    • 本实用新型涉及水质监测技术领域,具体为一种基于物联网的河道水质监测装置。背景技术水质监测,是监视和测定水体中污染物的种类、各类污染物的浓度及变化趋势,评价水质状况的过程。监测范围十分广泛,包括未被污染和已受污染的天然水(江、河、湖、海和地下
      专利2022-7-11
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    • 本发明涉及一种清洗装置,特别涉及一种在空心胶囊的生产中对使用的配液桶进行全自动清洗的清洗线系统及其清洗方法。背景技术空心胶囊的生产制备过程为:溶胶、蘸胶、干燥、拔壳、切割、整理,其中的干燥环节是在烘干系统中进行的,在烘干系统的干燥箱中设置有
      专利2022-7-11
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    • 本发明涉及一种防热裂的分段式防护圆环,属于高温炉技术领域。背景技术cvd是chemicalvapordeposition的简称,是指高温下的气相反应,例如,金属卤化物、有机金属、碳氢化合物等的热分解,氢还原或使它的混合气体在高温下发生化学反
      专利2022-7-11
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    • 本实用新型属于水质检测技术领域,特别涉及一种水质检测装置。背景技术当今社会中水扮演着不可或缺的作用,目前随着社会工业上的发展,越来越多的水资源收到了污染,为了使用水质合格的水资源需要对水源进行检测,目前的水质检测装置在使用结束后需要工作人员
      专利2022-7-11
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    • 本实用新型涉及实验教具技术领域,具体为一种教学实验刀具清洁装置。背景技术实验,指的是科学研究的基本方法之一,根据科学研究的目的,尽可能地排除外界的影响,突出主要因素并利用一些专门的仪器设备,而人为地变革、控制或模拟研究对象,使某一些事物(或
      专利2022-7-11
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    • 本实用新型涉及镀膜技术领域,特别涉及一种镀膜腔体及粉末镀膜装置。背景技术粉体颗粒表面功能化是材料表面工程技术的重要组成部分,尤其对提高颗粒的原有性能具有重要意义。通过在粉体颗粒表面包覆层,即镀膜,可实现对粉体颗粒的表面功能化。原子层沉积技术
      专利2022-7-11
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    • 本实用新型涉及光学镜片生产加工辅助设备技术领域,尤其涉及一种光学镜片清洗装置。背景技术光学镜片需要经过打磨、抛光、镀膜、清洗等工艺进行加工,在成为最终产品前,要保证光学镜片的清洁,在生产过程中一般采用超声波进行清洗,具有良好的清洗效果。但是
      专利2022-7-11
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    • 本实用新型涉及水质监测技术领域,具体涉及一种便携式水质监测仪。背景技术水质监测,是监视和测定水体中污染物的种类、各类污染物的浓度及变化趋势,评价水质状况的过程。监测范围十分广泛,包括未被污染和已受污染的天然水(江、河、湖、海和地下水)及各种
      专利2022-7-11
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    • 本实用新型涉及一种喷淋板,属于ald设备技术领域。背景技术ald设备在镀膜时,喷淋板表面容易沉积工艺粉末,影响产能,以镀三氧化铝为例,三氧化铝通过三甲基铝同水或臭氧反应,三甲基铝和水通过ald设备上的喷淋板向真空腔体内喷射,在190℃到25
      专利2022-7-11
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