• 本实用新型涉及换药交换机领域,特别涉及一种生产中可快速切换药液的交换机。背景技术生产中可快速切换药液的交换机是一种进行生产药液交换的支撑设备,在进行生产的时候可能也需要对药液进行更换,快速切换不同药液,达到电镀工艺效果目的,由旋转盘自动交换
      专利2022-7-11
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    • 本实用新型涉及检测试剂盒技术领域,具体为一种便携式排卵检测试剂盒。背景技术排卵试纸则是通过检测黄体生成激素(lh)的峰值水平,来预知是否排卵。可用于定性检测人尿液中黄体生成素(lh),从而确定排卵时间及妇女月经周期中的“安全期”,达到选择受
      专利2022-7-11
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    • 本实用新型涉及产品仓储的技术领域,特别是涉及一种产品仓储自动清洁除杂机。背景技术众所周知,产品仓储自动清洁除杂机是一种用于产品仓储自动清洁除杂的辅助装置,其在产品仓储的领域中得到了广泛的使用;现有的一种产品仓储自动清洁除杂机包括支撑台、支撑
      专利2022-7-11
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    • 本实用新型涉及电镀设备领域,具体为一种电镀线摇摆驱动偏心轮组。背景技术电镀线摇摆驱动偏心轮组是使用者在工作时给使用者提供辅助工作,早期的设备使用的过程中可能因误操作导致设备反向转动,导致设备磨损减少设备的使用寿命,而且也有可能设备运行过度或
      专利2022-7-11
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    • 本实用新型属于清洁空心物品的装置技术领域,具体是指一种瓶体清洗设备。背景技术在现有技术中,瓶类一般都是通过超声波发生器清洗或喷淋清洗设备等进行清洗的,例如喷淋清洗设备,清洗前需要把瓶体倒放在喷淋清洗设备的清洗喷头上,清洗冲洗瓶体的内壁和外壁
      专利2022-7-11
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    • 本实用新型涉及电子封装电镀领域,具体是一种可换装多种镀件的阵列镀具。背景技术在集成电路封装技术领域,为满足零部件之间的焊接需求,同时满足防腐性(如抗盐雾能力)、电讯性能、气密性,需要对各封装零部件如盖板、热沉板、金属化陶瓷基板进行预先电镀镍
      专利2022-7-11
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    • 本实用新型属于维生素b7检测技术领域,具体涉及一种维生素b7分辨荧光定量检测卡。背景技术维生素b7是合成维生素c的必要物质,是脂肪和蛋白质正常代谢不可或缺的物质。是一种维持人体自然生长、发育和正常人体机能健康必要的营养素。是20世纪30年代
      专利2022-7-11
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    • 本实用新型涉及表面清理装置技术领域,具体为一种厨余垃圾处理用缓存池的表面清理装置。背景技术厨余垃圾是指居民日常生活及食品加工、饮食服务、单位供餐等活动中产生的垃圾,包括丢弃不用的菜叶、剩菜、剩饭、果皮、蛋壳、茶渣、骨头等,其主要来源为家庭厨
      专利2022-7-11
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    • 本实用新型涉及管件电镀技术领域,具体为一种移动灵活的行车装配体。背景技术管件电镀是指在管件表面镀上一层薄膜金属或合金的过程,传统管件电镀的过程中,要么只能实现管件的全部电镀,要么自动化程度低,且不精准,难以精确化对管件实现部分电镀,具有一定
      专利2022-7-11
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    • 本实用新型属于核燃料后处理技术领域,具体涉及一种自动分析定位系统。背景技术核燃料后处理过程需要对各工艺段的放射性样品进行分析,放射性样品通常具有放射性强、毒性大等特点,对其分析检测的操作方式包括非自动分析和自动分析。非自动分析操作繁琐、分析
      专利2022-7-11
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    • 本实用新型涉及发酵罐清洁技术领域,尤其涉及一种发酵罐的清洗装置。背景技术发酵是通过利用微生物和有活性的离体酶的某些功能为人类生产有用生物产品的一种方法,发酵过程中主要的设备为发酵罐;现代社会,发酵罐被广泛用于精细化工、生物工程、食品、饮料、
      专利2022-7-11
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    • 本实用新型涉及电镀的技术领域,具体为一种电镀生产线用循环镀铬机构。背景技术电镀就是利用电解原理在某些金属表面上镀上一薄层其它金属或合金的过程,是利用电解作用使金属或其它材料制件的表面附着一层金属膜的工艺从而起到防止金属氧化,提高耐磨性、导电
      专利2022-7-11
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    • 本实用新型涉及分析化学领域,特别是涉及一种带有量程切换装置的流动注射分析系统。背景技术流动注射分析技术自1975年(ruzickaj,hanseneh,flowinjectionanalysis,wiley,newyork,1981)提出以
      专利2022-7-11
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    • 本实用新型涉及电镀技术领域,具体为一种电镀旋转悬挂治具。背景技术电镀就是利用电解原理在某些金属表面上镀上一薄层其它金属或合金的过程,是利用电解作用使金属或其它材料制件的表面附着一层金属膜的工艺从而起到防止金属氧化,提高耐磨性、导电性、反光性
      专利2022-7-11
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    • 本实用新型涉及一种反应釜清洗领域,具体是一种化学反应釜清洗装置。背景技术化学反应釜在完成一定次数的反应后,会在反应釜内部留下很多的化学反应残留物,如果不能及时的清理干净,将会影响到后续的化学反应过程,因此对反应釜内部的清洁要求较高。但是现有
      专利2022-7-11
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