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    注册 2022-07-06
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    • 本发明涉及机器视觉测量技术领域,尤其是涉及一种基于图像处理技术的水准泡气泡长度测量方法。背景技术在众多工业制造生产活动中,人们常常需要对物体表面进行水平度和垂直度的检测,因此通常会借助一些带有水准泡的计量器具(例如:水平尺等)来完成此类精密
      专利2022-7-8
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    • 本发明涉及管道连接件加工领域,尤其涉及一种液压管道连接件加工用电镀设备。背景技术管道连接件是用于连接管道的部件,目前对管道连接件进行加工时,需要使用到电镀设备对其进行电镀,然而,目前的电镀设备在使用的过程中,其上的物件容易掉入电镀池内,不方
      专利2022-7-8
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    • 本发明涉及海洋技术领域,具体涉及一种远海珊瑚礁水下表面积反演重建的方法及装置。背景技术全球气候和环境变化对热带及亚热带海洋影响巨大,近一、二十年来世界范围内珊瑚礁生态系统处于严重退化之中,几乎所有发育珊瑚礁的海域都出现珊瑚大量死亡和珊瑚礁生
      专利2022-7-8
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    • 本发明涉及单片机控制领域,尤其涉及一种单片机控制的实验室器具除菌系统。背景技术实验室器具包括多种,通常是中空的瓶类器具。瓶类器具,如烧杯、试管、碘量瓶等需要多次且重复使用。保存食品检验瓶类用具时需要尽可能做到无菌。现有技术中多为将实验室人员
      专利2022-7-8
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    • 本发明涉及电镀生产技术领域,具体为电镀生产智能精准在线加药系统。背景技术在金属表面处理生产线上,常常以工件在工艺槽内进行电化学反应为主要工艺原理,这就要求进行电化学反应的工艺槽需保持足够的化学药液浓度,且化学药剂的浓度可能并非单一成分。随着
      专利2022-7-8
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    • 本发明涉及电解清洗剂和金属的清洗方法。背景技术近年来,随着汽车、火车、飞机、机床等零部件市场的全球化,低价格的零部件出现在市场上,零部件制造商和材料制造商面临激烈的成本竞争。因此,各个公司为了保持竞争力,都在材料和零部件的制造过程中采取了各
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    • 本发明涉及三维成像领域,尤其是涉及一种三维成像方法、装置和三维成像系统。背景技术现有的三维成像方法往往利用投影设备将条纹图像投射到待测物上,产生不同调制的结构光图像,通过摄像设备获取带有调制信息的结构光图像并进行解调,得到物体的三维信息,实
      专利2022-7-8
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    • 本发明涉及环境保护技术领域,尤其涉及一种臭氧发生器的控制方法及系统。背景技术臭氧被称作“最清洁的氧化剂和消毒剂”。因此,可以应用在医疗产业、公共交通、餐饮、环保等领域。臭氧用于治理空气污染时,可分解有机化合物气体,比如,能够降低室内pm2.
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    • 本发明涉及水热法晶体生长技术领域,具体为位于高压釜晶体生长区与原料溶解区间的内挡板。背景技术水热温差法是一种广泛应用的晶体生长技术,该技术主要原理是在密封的高压釜内模仿自然界矿物生成的物理和化学条件,利用高压和特定温度下水和相应浓度的化学试
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    • 本发明涉及医疗消毒设备技术领域,特别涉及一种防护服全面消毒装置。背景技术在医疗消毒设备技术中,防护服是目前化工行业、医药行业中常用的一种人体防护装备。目前对防护服的消毒设备通常无法对防护服进行全面消毒,常常难以同时对防护服的正反两面同时消毒
      专利2022-7-8
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    • 本发明涉及到一种水下动态场景光学混合三维成像方法,可广泛用于水下目标识别、水下管线及设备监测、水下生物研究、水下文物探测以及水下潜航器定位导航等领域。背景技术随着各国对海洋探索研究和资源开发的重视,水下三维成像已成为国内外海洋探测研究的热点
      专利2022-7-8
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    • 本发明属于日用化工技术领域,具体地说,涉及一种具有十二香香味且持久留香的香氛香薰蜡烛。背景技术香水作为化妆品之一在生活中得到广泛应用,香水能散发出持久、愉悦的香气,是一种混合香精、保香剂和乙醇的液体,香水主要可分为三种不同的形式,即酒精液、
      专利2022-7-8
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    • 本发明涉及拉晶炉技术领域,具体涉及一种拉晶炉。背景技术生产单晶硅棒时,在石英坩埚内填充多晶硅,熔化多晶硅,通过种子结晶与熔液面接触生长单晶晶棒。在石英坩埚中充填多晶硅后,把坩埚安装在炉室内,然后熔化多晶硅,在熔化过程中产生很多氧化物,产生的
      专利2022-7-8
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    • 本公开涉及计算机技术领域,尤其是一种相机外参标定方法、装置、相机外参标定系统、计算机可读存储介质及电子设备。背景技术相机标定是机器视觉检测、摄影几何测量等中最为关键的部分,相机标定的目的是通过从相机获取的二维图像信息出发,计算出物体的三维位
      专利2022-7-8
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    • 本发明涉及晶体生长技术领域,具体而言涉及一种用于晶体生长的反射屏装置。背景技术随着集成电路(integratedcircuit,ic)产业的迅猛发展,器件制造商对ic级硅单晶材料提出了更加严格的要求,而大直径单晶硅是制备器件所必须的衬底材料
      专利2022-7-8
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