本发明涉及雷射膜，特别是涉及一种具有光固化涂层的高透无版缝雷射膜及制备方法。
背景技术：
1、pe光固化涂料可直接印刷高透无版缝雷射聚酯薄膜，是目前高端包装发展趋势。目前市场上普通的无版缝雷射聚酯薄膜存在以下缺陷：
2、第一，通常无法做到高透效果，或者是具有高透效果的同时就无法连续性进行模压；
3、第二，生产过程过于繁琐，容易刮伤、塞版、粘版，过多的工艺流程使得雷射层被过多的覆盖，雷射防伪的呈现效果明显减弱，同时也会导致生产成本过高。
技术实现思路
1、本发明主要解决的技术问题是提供一种具有光固化涂层的高透无版缝雷射膜及制备方法，可采用pe光固化涂料直接压印，能够解决是高透就没法模压和用pe光固涂料直接压印、可模压就无法实现高透的瓶颈，有效的节约成本，提高效益；高透其防伪效果突出，立体感强烈，可以达到雷射效果高透情况下，实现生产过程无刮伤、塞版、粘版的要求。
2、为解决上述技术问题，本发明采用的一个技术方案是：提供一种具有光固化涂层的高透无版缝雷射膜，包括：
3、基材层，所述基材层为pe薄膜；
4、光固化涂层，所述光固化涂层为光固化涂料，该光固化涂料被均匀涂覆在基材层表面；
5、雷射信息层，先将雷射涂层均匀涂覆在光固化涂层表面，然后进行至少一次模压形成雷射信息层。
6、在本发明一个较佳实施例中，所述光固化涂料的各组分按重量分数计如下：
7、树脂10-20份，异丙醇5-15份，乙酸乙酯25-38份，乙酸正丁酯30-48份，助剂0.03-0.06份。
8、在本发明一个较佳实施例中，所述树脂包括聚酯改质丙烯酸酯聚合物和丙烯酸酯共聚合物的混合物，所述树脂中各组分按重量分数计为：聚酯改质丙烯酸酯聚合物32-45份，丙烯酸酯共聚合物36-70份。
9、在本发明一个较佳实施例中，所述助剂包括光氧化稳定剂0.01-0.03份、流平剂0.01-0.02份和消泡剂0.01-0.05份。
10、在本发明一个较佳实施例中，所述光氧化稳定剂为二苯基三乙酰基氧基丙基三硅氧烷或二氟卡因中的至少一种，所述流平剂为聚硅氧烷流平剂、聚酯流平剂或聚氨酯流平剂中的至少一种，所述消泡剂为有机硅氧烷或聚醚改性有机硅中的至少一种。
11、为解决上述技术问题，本发明采用的一个技术方案是：提供一种具有光固化涂层的高透无版缝雷射膜的制备方法，包括如下步骤：
12、s1、制备光固化涂层
13、将树脂、异丙醇、乙酸乙酯、乙酸正丁酯按配比加入高速分散釜中，在50-80℃下高速搅拌20-40min后，加入对应配比的光氧化稳定剂、流平剂和消泡剂，高速分散10-20min过滤后备用；
14、s2、涂覆光固化涂层
15、将步骤s1所制备的光固化涂层试样均匀涂布于基材上，先在40-60℃下红外流平3-8min，然后在uv固化机上进行uv固化，制得pe光固化基材膜；
16、s3、形成雷射信息层
17、先在步骤s2的pe光固化基材膜上涂布雷射涂层，然后进行一次模压：一次模压用硬压单版模压机，模压胶辊压力可控制在40-50kg/cm2，模压温度控制在150-190℃。
18、在本发明一个较佳实施例中，步骤s3还可以为：先在步骤s2的pe光固化基材膜上涂布雷射涂层，然后进行两次模压：
19、第一次模压用硬压单版模压机，模压胶辊压力可控制在40-50kg/cm2，模压温度控制在150-190℃；
20、第二次模压用双压无版缝模压机模压，模压胶辊压力可控制在20-25kg/cm2，模压温度控制在120-140℃。
21、在本发明一个较佳实施例中，所述基材层厚度为15-30μm，所述光固化涂层厚度为10-30μm，所述雷射信息层厚度为2-10μm。
22、在本发明一个较佳实施例中，所述步骤s2中uv固化机的uv固化光源紫外线光谱范围为210-420nm。
23、在本发明一个较佳实施例中，所述步骤s3模压胶辊周长至少为520mm。
24、本发明的有益效果是：可采用pe光固化涂料直接压印，彻底解决了是高透就没法模压和用pe光固涂料直接压印、可模压就无法实现高透的瓶颈，有效的节约成本，提高效益；高透其防伪效果突出，立体感强烈，可以达到雷射效果高透情况下，实现生产过程无刮伤、塞版、粘版的要求。
1.一种具有光固化涂层的高透无版缝雷射膜，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的具有光固化涂层的高透无版缝雷射膜，其特征在于，所述光固化涂料的各组分按重量分数计如下：
3.根据权利要求2所述的具有光固化涂层的高透无版缝雷射膜，其特征在于，所述树脂包括聚酯改质丙烯酸酯聚合物和丙烯酸酯共聚合物的混合物，所述树脂中各组分按重量分数计为：聚酯改质丙烯酸酯聚合物32-45份，丙烯酸酯共聚合物36-70份。
4.根据权利要求1所述的具有光固化涂层的高透无版缝雷射膜，其特征在于，所述助剂包括光氧化稳定剂0.01-0.03份、流平剂0.01-0.02份和消泡剂0.01-0.05份。
5.根据权利要求1所述的具有光固化涂层的高透无版缝雷射膜，其特征在于，所述光氧化稳定剂为二苯基三乙酰基氧基丙基三硅氧烷或二氟卡因中的至少一种，所述流平剂为聚硅氧烷流平剂、聚酯流平剂或聚氨酯流平剂中的至少一种，所述消泡剂为有机硅氧烷或聚醚改性有机硅中的至少一种。
6.一种具有光固化涂层的高透无版缝雷射膜的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：
7.根据权利要求6所述的制备方法，其特征在于，步骤s3还可以为：先在步骤s2的pe光固化基材膜上涂布雷射涂层，然后进行两次模压：
8.根据权利要求6所述的制备方法，其特征在于，所述基材层厚度为15-30μm，所述光固化涂层厚度为10-30μm，所述雷射信息层厚度为2-10μm。
9.根据权利要求7所述的制备方法，其特征在于，所述步骤s2中uv固化机的uv固化光源紫外线光谱范围为210-420nm。
10.根据权利要求6所述的制备方法，其特征在于，所述步骤s3模压胶辊周长至少为520mm。
