手动双面同心调节平台的制作方法

    专利2026-01-27  8


    本技术属于光刻机,具体涉及一种手动双面同心调节平台。


    背景技术:

    1、光刻机作为集成电路的核心制造装备,其生产过程中的制造精度是保障芯片成品率的关键。在双面曝光光刻中,在进行曝光之前,需要调节上对位镜头和下对位镜头使其同心,然后进行对位标记,对位完成后才能进行曝光操作,上对位镜头和下对位镜头的同心调节平台有自动和手动两种调节方式,手动调节时虽然可以通过标定尺等辅助工具进行调节,但目前手动调节平台的结构设计不尽合理,在x轴和y轴的调节不方便,操作比较繁琐。


    技术实现思路

    1、本实用新型旨在至少在一定程度上解决上述技术问题。为此,本实用新型目的在于提供一种手动双面同心调节平台。

    2、本实用新型所采用的技术方案为:

    3、一种手动双面同心调节平台,包括底座,底座上竖直安装有安装座,安装座上设有水平设置的支撑座和竖直设置的直线导轨,直线导轨上滑动安装有下调节机构和上调节机构,下调节机构上安装有下对位镜头,上调节机构上安装有y轴微调平台,y轴微调平台上安装有x轴微调平台,x轴微调平台上安装有上对位镜头,上对位镜头和下对位镜头分别位于支撑座的上下两侧,支撑座上设置有标定尺。

    4、优选地,所述支撑座上设置有xy轴载物台,标定尺安装在xy轴载物台上。

    5、优选地,所述下调节机构上安装有支撑板,支撑板通过螺钉安装有压板,下对位镜头安装在支撑板和压板之间。

    6、本实用新型的有益效果为:

    7、本实用新型所提供的手动双面同心调节平台,使用时将标定尺放在xy轴载物台上,标定尺作为基准,可以方便的调节上对位镜头和下对位镜头,使上对位镜头和下对位镜头同心。



    技术特征:

    1.一种手动双面同心调节平台,其特征在于:包括底座(1),底座(1)上竖直安装有安装座(2),安装座(2)上设有水平设置的支撑座(4)和竖直设置的直线导轨(6),直线导轨(6)上滑动安装有下调节机构(3)和上调节机构(7),下调节机构(3)上安装有下对位镜头(12),上调节机构(7)上安装有y轴微调平台(9),y轴微调平台(9)上安装有x轴微调平台(10),x轴微调平台(10)上安装有上对位镜头(8),上对位镜头(8)和下对位镜头(12)分别位于支撑座(4)的上下两侧,支撑座(4)上设置有标定尺(11)。

    2.根据权利要求1所述的手动双面同心调节平台,其特征在于:所述支撑座(4)上设置有xy轴载物台(5),标定尺(11)安装在xy轴载物台(5)上。

    3.根据权利要求1所述的手动双面同心调节平台,其特征在于:所述上对位镜头(8)和下对位镜头(12)均与显示器电性连接。

    4.根据权利要求1-3任一所述的手动双面同心调节平台,其特征在于:所述下调节机构(3)上安装有支撑板(13),支撑板(13)通过螺钉安装有压板(14),下对位镜头(12)安装在支撑板(13)和压板(14)之间。


    技术总结
    本技术属于光刻机技术领域,公开了一种手动双面同心调节平台,包括平台,平台上竖直安装有安装座,安装座上设有水平设置的支撑座和竖直设置的直线导轨,直线导轨上滑动安装有下调节机构和上调节机构,下调节机构上安装有下对位镜头,上调节机构上安装有Y轴微调平台,Y轴微调平台上安装有X轴微调平台,X轴微调平台上安装有上对位镜头,上对位镜头和下对位镜头分别位于支撑座的上下两侧,支撑座上设置有标定尺。本技术的手动双面同心调节平台,使用时将标定尺放在XY轴载物台上,标定尺作为基准,可以方便的调节上对位镜头和下对位镜头,使上对位镜头和下对位镜头同心。

    技术研发人员:张其文,扶小莲,刘阳波,陈正洪
    受保护的技术使用者:四川鸿源鼎芯科技有限公司
    技术研发日:20230925
    技术公布日:2024/4/29
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