一种多功能X射线分析装置及其数据采集方法与流程

    专利2025-11-06  4


    本发明涉及x光成像,特别涉及一种提供x射线衍射分析、x射线锥形束成像、x射线双能正交成像、x射线相衬成像等多种测量模式的桌面式多功能x射线分析装置及其数据采集方法。


    背景技术:

    1、随着基础研究战略地位的提高,对新材料和物质结构的探索也越来越深入,x射线成像技术也在这方面也发挥了越来越重要的作用。并且,随着平板成像探测器的发展与普及,x射线成像技术也越来越数字化。需求的增加和技术的进步,促使不同的x射线测量模式,如x射线衍射分析、x射线锥形束成像、x射线双能正交成像、x射线相衬成像等等,也不断被广泛应用。

    2、其中,x射线透视成像直接利用x射线对物质的穿透作用,可以直接观察待测物质的内部结构的损伤。x射线衍射(x-raydiffraction),利用x射线在晶体中的衍射现象来获得衍射后x射线信号特征,经过处理得到衍射图谱。利用谱图信息不仅可以实现常规显微镜的确定物相,并拥有“透视眼”来看晶体内部是否存在缺陷(位错)和晶格缺陷等。x射线穿过物体后,不仅强度发生了衰减,其相位也发生了改变。x射线相衬成像利用的就是这一原理,通过纪录穿过物体的x射线相位的改变,来反映物体内部电子密度的分布,也即物体内部结构。x射线锥形束ct是利用锥形束x射线源和平面矩阵探测器实现三维成像的一种成像方式,相比于传统的螺旋ct,锥形束ct具有扫描速度快、空间分辨率高、射线利用率高、辐射剂量小等优点。

    3、但是,目前要实现以上所有功能,需要购买几种不同功能的设备才能满足要求。而这种方案占用空间大,配置成本高,需要占用大量的空间资源和科研经费。不仅如此,控制这些设备也需要配备不同的控制室,又会占用大量的空间资源。


    技术实现思路

    1、针对上述技术问题,本发明提供了一种多功能x射线分析装置,所述装置将x射线衍射、相衬和锥形束ct功能集成在同一成像研究平台,并配套设计了一套完整的数据采集方法。

    2、为实现上述目的,本发明采用如下技术方案:

    3、一种多功能x射线分析装置,包括:

    4、短光路,所述短光路包括衍射分析用x射线源111、衍射分析用探测器112、锥形束成像用平板探测器121、锥形束成像用x射线源122、载物台1 131、载物台2 132、衍射分析用x射线源基座141、燕尾槽1 142、二维滑台1 143、转盘连接板1 144、锥形束成像用平板探测器基座145、衍射分析用探测基座151、燕尾槽2 152、二维滑台2 153、转盘连接板2 154、锥形束成像用x射线源基座155、传动机构1 161、传动机构2 162;

    5、长光路,所述长光路包括小焦点x射线源211、小焦点x射线源三轴位移平台212、非晶硅平板探测器213、平板探测器三轴位移平台214、光栅基座1 221、光栅三轴位移滑台1222、光栅基座2 231、光栅三轴位移滑台2 232;

    6、基座31及上部框架32。

    7、在一些实施例中,所述的一种多功能x射线分析装置,所述衍射分析用x射线源基座141、燕尾槽1 142、二维滑台1 143和转盘连接板1 144,在传动机构1 161的驱动下,做对称旋转运动或者非对称旋转运动。

    8、在一些实施例中,所述的一种多功能x射线分析装置,所述锥形束成像用平板探测器基座145、衍射分析用探测基座151、燕尾槽2 152、二维滑台2 153、转盘连接板2 154,在传动机构2 162的驱动下,做对称旋转运动或者非对称旋转运动。

    9、在一些实施例中,所述的一种多功能x射线分析装置,所述二维滑台1 143和二维滑台2 153用于调整锥形束成像用平板探测器121和锥形束成像用x射线源122的相对位置;所述小焦点x射线源三轴位移平台212和平板探测器三轴位移平台214用于调整小焦点x射线源211和非晶硅平板探测器213的相对位置。

    10、在一些实施例中,所述的一种多功能x射线分析装置,所述载物台1 131和载物台2132根据被测物体尺寸和成像要求调整升降高度水平面的位置,带动被测物体旋转。

    11、在一些实施例中,所述的一种多功能x射线分析装置,光栅基座1221在光栅三轴位移滑台1 222进行二维运动,光栅基座1 221用于安装光栅;光栅基座2 231在光栅三轴位移滑台2 232进行二维运动,光栅基座2 231用于安装光栅。

    12、在一些实施例中,所述的一种多功能x射线分析装置,所述多功能包括:x射线衍射分析、x射线锥形束成像、x射线双能正交成像、x射线相衬成像。

    13、在一些实施例中,所述的多功能x射线分析装置,所述数据采集方法执行x射线衍射分析的步骤如下:

    14、(1)将长光路的小焦点x射线源211、非晶硅平板探测器213、光栅基座1 221、光栅基座2 231移动到距离短光路最远处且最高处;

    15、(2)待相应的位置传感器将到位信号传送至控制电脑后,将短光路的x射线衍射分析光路旋转至于装置的正面,且与长光路平行状态;

    16、(3)将待测物体放至载物台1 131,完成待测条件初始化;

    17、(4)启动扫描软件开始数据采集;

    18、(5)采集完毕后,依次将衍射分析用x射线源111、衍射分析用探测器112调至水平状态;将短光路旋转至与长光路垂直状态;将长光路的小焦点x射线源211、非晶硅平板探测器213、光栅基座1 221、光栅基座2 231移动到距离短光路最远处且最低处;

    19、(6)关闭系统。

    20、在一些实施例中,所述的数据采集方法,所述数据采集方法执行x射线锥形束成像测量包括:短光路x射线锥形束成像、长光路x射线锥形束成像。

    21、在一些实施例中,所述的数据采集方法,所述数据采集方法执行所述短光路x射线锥形束成像的步骤如下:

    22、(1)将长光路的小焦点x射线源211、非晶硅平板探测器213、光栅基座1 221、光栅基座2 231移动到距离短光路最远处且最高处;

    23、(2)待相应的位置传感器将到位信号传送至控制电脑后,将短光路的微焦点x射线锥形束成像光路旋转至于装置的正面,且与长光路平行状态;

    24、(3)将待测物体放至载物台2 132上,调整载物台2 132的高度和水平位置;

    25、(4)通过二维滑台1 143和二维滑台2 153调整锥形束成像用平板探测器121和锥形束成像用x射线源122的相对位置;

    26、(5)启动扫描软件开始数据采集;

    27、(6)采集完毕后,将短光路旋转至与长光路垂直状态;将长光路的小焦点x射线源211、非晶硅平板探测器213、光栅基座1 221、光栅基座2 231移动到距离短光路最远处且最低处;

    28、(7)关闭系统。

    29、在一些实施例中,所述的数据采集方法,所述数据采集方法执行所述长光路x射线锥形束成像的步骤如下:

    30、(1)将长光路的小焦点x射线源211、非晶硅平板探测器213、光栅基座1 221、光栅基座2 231移动到距离短光路最远处且最高处;

    31、(2)待相应的位置传感器将到位信号传送至控制电脑后,将短光路旋转至与长光路垂直状态;

    32、(3)将待测物体放至载物台2 132上,调整载物台132到适当高度和水平位置;

    33、(4)通过小焦点x射线源三轴位移平台212和平板探测器三轴位移平台214调整小焦点x射线源211和非晶硅平板探测器213的相对位置;

    34、(5)启动扫描软件开始数据采集;

    35、(6)采集完毕后,将长光路的小焦点x射线源211、非晶硅平板探测器213、光栅基座1 221、光栅基座2 231移动到距离短光路最远处且最低处;

    36、(7)关闭系统。

    37、在一些实施例中,所述的数据采集方法,所述数据采集方法执行x射线双能正交成像的步骤如下:

    38、(1)将长光路的小焦点x射线源211、非晶硅平板探测器213、光栅基座1 221、光栅基座2 231移动到距离短光路最远处且最高处;

    39、(2)待相应的位置传感器将到位信号传送至控制电脑后,将短光路旋转至与长光路垂直状态;

    40、(3)通过二维滑台1 143和二维滑台2 153调整锥形束成像用平板探测器121和锥形束成像用x射线源122的相对位置;

    41、(4)将待测物体放至载物台2 132上,调整载物台2 132的高度和水平位置;

    42、(5)通过小焦点x射线源三轴位移平台212和平板探测器三轴位移平台214调整小焦点x射线源211和非晶硅平板探测器213的相对位置;

    43、(6)分别设置锥形束成像用x射线源122和小焦点x射线源211的管电流和管电压;

    44、(7)启动扫描软件开始数据采集;

    45、(8)采集完毕后将长光路的小焦点x射线源211、非晶硅平板探测器213、光栅基座1221、光栅基座2 231移动到距离短光路最远处且最低处;

    46、(9)关闭系统。

    47、在一些实施例中,所述的数据采集方法,所述数据采集方法执行x射线相衬成像的步骤如下:

    48、(1)将长光路的小焦点x射线源211、非晶硅平板探测器213、光栅基座1 221、光栅基座2 231移动到距离短光路最远处且最高处;

    49、(2)待相应的位置传感器将到位信号传送至控制电脑后,将短光路旋转至与长光路垂直状态;

    50、(3)将待测物体放至载物台2 132上,调整载物台2 132的高度和水平位置;将成像配套光栅分别放至光栅基座1 221和光栅基座2 231;

    51、(4)通过小焦点x射线源三轴位移平台212和平板探测器三轴位移平台214调整小焦点x射线源211和非晶硅平板探测器213的相对位置;

    52、(5)分别通过光栅三轴位移滑台1 222和光栅三轴位移滑台2 232,将光栅基座1221和光栅基座2 231移动到满足实验要求的相对位置;

    53、(6)分别设置小焦点x射线源的管电流和管电压;

    54、(7)启动扫描软件开始数据采集;

    55、(8)采集完毕后将长光路的小焦点x射线源211、非晶硅平板探测器213、光栅基座1221、光栅基座2 231移动到距离短光路最远处且最低处;

    56、(9)关闭系统。

    57、本发明的有益效果是:

    58、本发明创新的将x射线衍射分析、x射线锥形束成像、x射线双能正交成像、x射线相衬成像四种测量模式高度集成在一个平台上,降低了设备的成本;桌面式结构占用空间小,降低了对安装场地的要求。用户可以在四种测量模式的基础之上,灵活的选择实验组合,探索物质在不同测量模式下的各种性质。


    技术特征:

    1.一种多功能x射线分析装置,其特征在于,包括:

    2.根据权利要求1所述的一种多功能x射线分析装置,其特征在于,所述衍射分析用x射线源基座(141)、燕尾槽1(142)、二维滑台1(143)和转盘连接板1(144),在传动机构1(161)的驱动下,做对称旋转运动或者非对称旋转运动。

    3.根据权利要求1所述的一种多功能x射线分析装置,其特征在于,所述锥形束成像用平板探测器基座(145)、衍射分析用探测基座(151)、燕尾槽2(152)、二维滑台2(153)、转盘连接板2(154),在传动机构2(162)的驱动下,做对称旋转运动或者非对称旋转运动。

    4.根据权利要求1所述的一种多功能x射线分析装置,其特征在于,所述二维滑台1(143)和二维滑台2(153)用于调整锥形束成像用平板探测器(121)和锥形束成像用x射线源(122)的相对位置;所述小焦点x射线源三轴位移平台(212)和平板探测器三轴位移平台(214)用于调整小焦点x射线源(211)和非晶硅平板探测器(213)的相对位置。

    5.根据权利要求1所述的一种多功能x射线分析装置,其特征在于,所述载物台1(131)和载物台2(132)根据被测物体尺寸和成像要求调整升降高度水平面的位置,带动被测物体旋转。

    6.根据权利要求1所述的一种多功能x射线分析装置,其特征在于,光栅基座1(221)在光栅三轴位移滑台1(222)进行二维运动,光栅基座1(221)用于安装光栅;光栅基座2(231)在光栅三轴位移滑台2(232)进行二维运动,光栅基座2(231)用于安装光栅。

    7.根据权利要求1所述的一种多功能x射线分析装置,其特征在于,所述多功能包括:x射线衍射分析、x射线锥形束成像、x射线双能正交成像、x射线相衬成像。

    8.一种数据采集方法,应用于权利要求1-7任一项所述的多功能x射线分析装置,其特征在于,所述数据采集方法执行x射线衍射分析的步骤如下:

    9.根据权利要求8所述的数据采集方法,其特征在于,所述数据采集方法执行x射线锥形束成像测量包括:短光路x射线锥形束成像、长光路x射线锥形束成像。

    10.根据权利要求9所述的数据采集方法,其特征在于,所述数据采集方法执行所述短光路x射线锥形束成像的步骤如下:

    11.根据权利要求9所述的数据采集方法,其特征在于,所述数据采集方法执行所述长光路x射线锥形束成像的步骤如下:

    12.根据权利要求8所述的数据采集方法,其特征在于,所述数据采集方法执行x射线双能正交成像的步骤如下:

    13.根据权利要求8所述的数据采集方法,其特征在于,所述数据采集方法执行x射线相衬成像的步骤如下:


    技术总结
    本发明公开了一种多功能X射线分析装置及其数据采集方法,其中,所述装置包括短光路,长光路,基座及上部框架。所述装置将X射线衍射分析、X射线锥形束成像、X射线双能正交成像、X射线相衬成像四种测量模式高度集成在一个平台上,极大的降低了设备的成本;桌面式结构占用空间小,极大的降低了对安装场地的要求;与所述装置配套的数据采集方法使得用户可以在四种测量模式的基础之上,灵活的选择实验组合,探索物质在不同测量模式下的各种性质。

    技术研发人员:陈安东,宋佑新
    受保护的技术使用者:合肥盖特环保技术有限责任公司
    技术研发日:
    技术公布日:2024/4/29
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