本申请涉及金刚石薄膜制备的，尤其涉及一种化学气相沉积金刚石的装置。
背景技术：
1、金刚石，是一种由碳元素组成的矿物质，是石墨的同素异形体，化学式为c，也是常见的钻石的原身。金刚石是自然界中天然存在的最坚硬的物质；石墨可以在高温、高压下形成人造金刚石，而随着技术的发展，可通过采用微波等离子形式进行气相沉积生产金刚石，而微波等离子气相沉积金刚石的设备则是合成金刚石极为重要的设备。
2、目前，气相沉积生产金刚石主要是在反应炉中进行，反应炉内设置有反应腔，反应腔内设置有沉积基片台，反应腔内与沉积基片台相对应位置设置有环形管，环形管上设置有气孔，反应炉的外侧设置有输气管，通过输气管能向反应炉内输送反应源气，在微波的作用下，反应源气发生分解反应，并沉积在基板的表面形成金刚石薄膜。
3、然而，上述装置中环形管以及沉积基片台一般是固定的，导致电离后的碳无法均匀地沉积在基板的表面，金刚石沉积的效果较差。
技术实现思路
1、本申请旨在至少在一定程度上解决相关技术中的技术问题之一。
2、为此，本申请的一个目的在于提出一种化学气相沉积金刚石的装置，能够使金刚石均匀地沉积在基板表面，提高了金刚石沉积的效果。
3、为实现上述目的，本申请第一方面实施例提出了一种化学气相沉积金刚石的装置，包括支撑板、立板、底板、密封套、转筒、基片台、驱动组件和进气组件，其中，所述立板固定设置在所述支撑板上，且所述立板的侧壁上设有滑台模组，所述密封套通过连接板与所述滑台模组的滑台固定连接；所述底板固定设置在所述支撑板的上表面；所述底板的上表面开设有密封槽，所述密封套的下表面设置在所述密封槽的内部，且所述底板和所述密封套构成反应室；所述底板的上表面开设有滑槽，所述转筒与所述滑槽滑动连接；所述基片台通过支撑轴可转动地设置在所述底板上；所述驱动组件设置在所述转筒的内部，且所述驱动组件分别与所述基片台和所述转筒相连，其中，所述驱动组件用于驱动所述基片台和所述转筒进行同步转动；所述进气组件设置在所述反应室的内部，且所述进气组件与所述转筒相连。
4、本申请实施例的化学气相沉积金刚石的装置，通过驱动组件能够驱动基片台和转筒进行转动，使金刚石均匀地沉积在基板表面，提高了金刚石沉积的效果。
5、另外，根据本申请上述提出的化学气相沉积金刚石的装置还可以具有如下附加的技术特征：
6、在本申请的一个实施例中，所述驱动组件包括转轴、第一齿轮、第二齿轮和齿环，其中，所述转轴可转动地设置在所述底板上；所述第一齿轮和所述第二齿轮分别设置在所述转轴和所述支撑轴上，且所述第一齿轮和所述第二齿轮之间啮合连接；所述齿环设置在所述转筒的内壁上，且所述齿环与所述第一齿轮啮合连接。
7、在本申请的一个实施例中，所述进气组件包括主管、多个副管和多个气体通道，其中，所述密封套的上表面设有气泵，所述主管的一端与所述气泵连通设置，所述主管的另一端分别与多个所述副管连通设置；所述转筒的内壁上设有多个第一凹槽，多个所述气体通道分别嵌入安装在对应的所述第一凹槽内，且多个副管分别与对应的所述气体通道连通设置，所述气体通道上均匀设有多个进气孔。
8、在本申请的一个实施例中，所述基片台的上表面设有多个第二凹槽，所述基片台的内部设有多个吸气通道，所述吸气通道的一端与所述第二凹槽连通设置。
9、在本申请的一个实施例中，所述密封槽的内部设有气囊，所述气囊包裹在所述密封套的底部，所述密封套和所述底板的连接处设有密封圈，所述密封圈分别与所述密封套和所述底板螺纹连接。
10、在本申请的一个实施例中，所述密封套上设有第一抽气管，所述第一抽气管与所述反应室连通设置。
11、本申请附加的方面和优点将在下面的描述中部分给出，部分将从下面的描述中变得明显，或通过本申请的实践了解到。
1.一种化学气相沉积金刚石的装置，其特征在于，包括支撑板、立板、底板、密封套、转筒、基片台、驱动组件和进气组件，其中，
2.根据权利要求1所述的化学气相沉积金刚石的装置，其特征在于，所述驱动组件包括转轴、第一齿轮、第二齿轮和齿环，其中，
3.根据权利要求1所述的化学气相沉积金刚石的装置，其特征在于，所述进气组件包括主管、多个副管和多个气体通道，其中，
4.根据权利要求1所述的化学气相沉积金刚石的装置，其特征在于，所述基片台的上表面设有多个第二凹槽，所述基片台的内部设有多个吸气通道，所述吸气通道的一端与所述第二凹槽连通设置。
5.根据权利要求1所述的化学气相沉积金刚石的装置，其特征在于，所述密封槽的内部设有气囊，所述气囊包裹在所述密封套的底部，所述密封套和所述底板的连接处设有密封圈，所述密封圈分别与所述密封套和所述底板螺纹连接。
6.根据权利要求1所述的化学气相沉积金刚石的装置，其特征在于，所述密封套上设有第一抽气管，所述第一抽气管与所述反应室连通设置。
