【】本发明涉及计算光刻，具体涉及一种光刻规则检查结果整理方法、系统以及存储介质。
背景技术
0、
背景技术：
1、光刻规则检查(lrc)是指实施光刻工艺前，通过光刻成像模型提前获知该芯片将来可能面临的可制造性问题，从而尽可能降低集成电路失败的概率。通过光学临近效应修正(opc)后，对全芯片光掩膜版图进行快速准确的规则热点检测，发现可能出现的版图错误，减少后期生产工艺流程中的器件发生故障风险。检查结果常包括：版图缺陷图像，缺陷坐标，关键工艺窗口尺寸，缺陷尺寸，曝光成像条件等。
2、一般计算机系统中存储的检查结果数据都是结构化的存储在后台数据库中，以及版图文件中，现有检测报告都需要工程师手动整理，将原始检测数据经转化后按照固定格式手动录入到检测报告，不仅流程繁琐导致降低了工作效率，而且大量的重复工作也会使得准确性较低。
技术实现思路
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技术实现要素：
1、为解决现有技术中对光刻规则检测结果进行整理流程繁琐以及准确性低的技术问题，本发明提供一种光刻规则检查结果整理方法、系统以及存储介质。
2、本发明解决技术问题的方案是一种光刻模型建立方法，包括以下步骤：
3、提供一版图，对该版图进行光刻规则检查生成数据库，所述数据库包括该版图的所有缺陷及对应的缺陷信息；
4、基于缺陷信息对缺陷进行筛选，得到初始缺陷文件；
5、基于初始缺陷文件中对应的缺陷信息在版图中获取对应的缺陷图像；
6、创建一文本文件，将初始缺陷文件中的缺陷与对应的缺陷图像关联后保存到文本文件中，得到目标缺陷文件。
7、进一步的，所述该版图进行光刻规则检查生成数据库包括：
8、对版图进行光刻规则检查，获取版图中所有的缺陷以及缺陷对应的缺陷信息；
9、基于缺陷信息获取缺陷所在的版图范围，在所述版图范围内包括多个线段；
10、计算所有线段相对于的缺陷所在线段中点的位置并排序，得到缺陷的哈希值；
11、基于缺陷的哈希值对所有缺陷进行分组，得到多个缺陷组，并对所有缺陷进行标识，得到缺陷标识，所有缺陷组以及缺陷对对应的缺陷标识组成数据库。
12、进一步的，所述缺陷信息包括缺陷坐标、线宽测量标识、横截长度、间距、负曝光剂量以及缺陷误差值。
13、进一步的，所述获取对缺陷进行筛选，得到初始缺陷文件具体包括：
14、基于每个缺陷的缺陷误差值对同一缺陷组中的所有缺陷由大到小进行排序；
15、获取所有缺陷组中前n个值的缺陷信息以及缺陷标识并进行保存，得到初始缺陷文件，所述n≥1，且n为自然数。
16、进一步的，所述基于初始缺陷文件中对应的缺陷信息在版图中获取对应的缺陷图像具体包括：
17、基于缺陷坐标在版图中获取对应的缺陷区域；
18、设定一预设区域，所述预设区域完全覆盖所述缺陷区域；
19、将所述预设区域渲染为缺陷图像。
20、进一步的，所述得到目标文件后还包括：
21、提供一可读接口，将目标缺陷文件中所有缺陷对应的缺陷标识、缺陷信息以及缺陷图像调用可读接口得到可读文件。
22、进一步的，所述可读文件包括ppt、excel、docx以及pdf中的任一种。
23、本发明为解决上述技术问题还提供一种光刻规则检查结果整理系统，包括：
24、数据生成模块：用于提供一版图，对该版图进行光刻规则检查生成数据库，所述数据库包括该版图的所有缺陷的缺陷信息；
25、计算模块：用于基于缺陷信息对缺陷进行筛选，得到初始缺陷文件；
26、图像获取模块：用于基于初始缺陷文件中对应的缺陷信息在版图中获取对应的缺陷图像；
27、储存模块：用于创建一文本文件，将初始缺陷文件以及对应的缺陷图像保存到文本文件中，得到目标缺陷文件。
28、进一步的，一种光刻规则检查结果整理系统还包括转化模块，所述转化模块包括可读接口，所述转化模块用于获取目标缺陷文件并调用可读接口得到可读文件。
29、本发明为解决上述技术问题还提供了一种存储介质，包括存储器、处理器及存储在存储器上并可在处理器上运行的计算机程序，所述处理器执行所述计算机程序时，实现上述的光刻规则检查结果整理方法。
30、与现有技术相比，本发明提供的涉及一种光刻规则检查结果整理方法、系统以及存储介质具有以下优点：
31、1、本发明实施例中提供的一种光刻规则检查结果整理方法，包括以下步骤，提供一版图，对该版图进行光刻规则检查生成数据库，数据库包括该版图的所有缺陷及对应的缺陷信息，基于缺陷信息对缺陷进行筛选，得到初始缺陷文件；需要说明的是，由于数据库中的缺陷数据较多，因此，通过对缺陷进行筛选，可以简化数据，便于工程师优化；进一步的，基于初始缺陷文件中对应的缺陷信息在版图中获取对应的缺陷图像，需要说明的是，相比于现有技术中的通过工程师手动截图进行保存，本发明通过自动获取缺陷所在版图中的缺陷图像，减轻了工程师的负担，并且提高了工作效率，进一步的，创建一文本文件，将初始缺陷文件中的缺陷与对应的缺陷图像关联后保存到文本文件中，得到目标缺陷文件，将缺陷对应的缺陷信息以及缺陷图像进行保存，便于工程师查阅。
32、2、本发明实施例中提供的一种光刻规则检查结果整理方法中，对版图进行光刻规则检查生成数据库包括，对版图进行光刻规则检查，获取版图中所有的缺陷以及缺陷对应的缺陷信息；基于缺陷信息获取缺陷所在的版图范围，版图范围包括多个线段；计算所有线段相对于的缺陷所在线段中点的位置并排序，得到缺陷的哈希值，基于缺陷的哈希值对所有缺陷进行分组，得到多个缺陷组，并对所有缺陷进行标识，得到缺陷标识，需要说明的是，通过这种方式对缺陷进行分组，同一缺陷组的缺陷类型以及缺陷周围的环境相同，从而便于工程师查阅和查找。
33、3、本发明实施例中提供的一种光刻规则检查结果整理方法中，缺陷信息包括缺陷坐标、线宽测量标识、横截长度、间距、负曝光剂量以及缺陷误差值，通过获取有关缺陷的所有信息，便于工程师基于缺陷信息对缺陷进行优化修改。
34、4.本发明实施例中提供的一种光刻规则检查结果整理方法中，获取对缺陷进行筛选，得到初始缺陷文件具体包括：基于每个缺陷的缺陷误差值对同一缺陷组中的所有缺陷由大到小进行排序；获取所有缺陷组中前n个值的缺陷信息以及缺陷标识并进行保存，得到初始缺陷文件，n≥1，且n为自然数。需要说明的是，通过这样的方式，筛选出对最终的光刻结果影响较大的缺陷，便于工程师在后续中对该缺陷进行优化，从而提高了工作效率。
35、5.本发明实施例中提供的一种光刻规则检查结果整理方法中，基于初始缺陷文件中对应的缺陷信息在版图中获取对应的缺陷图像具体包括：基于缺陷坐标在版图中获取对应的缺陷区域；设定一预设区域，预设区域其完全覆盖缺陷区域；将预设区域渲染为缺陷图像，需要说明的是，相比于通过工程师进行手动查找并截图保存，本发明提供的方法极大的提高了工作效率，减轻了工程师的工作量。
36、6.本发明实施例中提供的一种光刻规则检查结果整理方法中，得到目标文件后还包括：获取目标文件中所有缺陷；提供一可读接口，将缺陷对应的缺陷标识、缺陷信息以及缺陷图像调用可读接口得到可读文件；需要说明的是，可读文件包括ppt、excel、docx以及pdf中的任一种，通过将目标缺陷文件进一步审查可读文件，更加有利于工程师查阅，从而节约了工程师查阅的时间，进而提高了工作效率。
37、7.本发明实施例中提供的一种光刻规则检查结果整理系统，包括：数据生成模块：提供一版图，对该版图进行光刻规则检查生成数据库，数据库包括该版图的所有缺陷的缺陷信息；计算模块：基于缺陷信息对缺陷进行筛选，得到初始缺陷文件；图像获取模块：基于初始缺陷文件中对应的缺陷信息在版图中获取对应的缺陷图像；储存模块：创建一文本文件，将初始缺陷文件以及对应的缺陷图像保存到文本文件中，得到目标缺陷文件，具有与上述的一种光刻规则检查结果整理方法相同的有益效果，此处不做赘述。
38、8.本发明实施例中提供的一种存储介质，包括存储器、处理器及存储在存储器上并可在处理器上运行的计算机程序，处理器执行计算机程序时，实现一种光刻规则检查结果整理方法，具有与上述的一种光刻规则检查结果整理方法相同的有益效果，此处不做赘述。
1.一种光刻规则检查结果整理方法，其特征在于，包括：
2.如权利要求1所述的一种光刻规则检查结果整理方法，其特征在于，所述对该版图进行光刻规则检查生成数据库包括：
3.如权利要求2所述的一种光刻规则检查结果整理方法，其特征在于，所述缺陷信息包括缺陷坐标、线宽测量标识、横截长度、间距、负曝光剂量以及缺陷误差值。
4.如权利要求3所述的一种光刻规则检查结果整理方法，其特征在于，所述获取对缺陷进行筛选，得到初始缺陷文件具体包括：
5.如权利要求4所述的一种光刻规则检查结果整理方法，其特征在于，所述基于初始缺陷文件中对应的缺陷信息在版图中获取对应的缺陷图像具体包括：
6.如权利要求5所述的一种光刻规则检查结果整理方法，其特征在于，所述得到目标文件后还包括：
7.如权利要求6所述的一种光刻规则检查结果整理方法，其特征在于，所述可读文件包括ppt、excel、docx以及pdf中的任一种。
8.一种光刻规则检查结果整理系统，其特征在于，包括：
9.如权利要求8所述的一种光刻规则检查结果整理系统，其特征在于，还包括转化模块，转化模块用于获取目标缺陷文件并调用可读接口得到可读文件。
10.一种存储介质，包括存储器、处理器及存储在存储器上并可在处理器上运行的计算机程序，其特征在于，所述处理器执行所述计算机程序时，实现如权利要求1-7中任一项一种光刻规则检查结果整理方法。
