本申请要求德国专利申请de102019213904.3的优先权，其内容通过引用并入本文中。本发明涉及用于检测物体结构的方法。本发明还涉及实行上述方法的设备。
背景技术：
：：从wo2016/012426a1已知检测光刻掩模的结构的方法和相应的设备。后来，在对布置在物平面中的光刻掩模成像期间，三维空间像测量发生在像平面附近的区域中。技术实现要素：本发明的目的是设计以给定准确度检测不灵敏和/或稳健的物体结构(特别是光刻掩模的结构)的方法和设备，关于方法，该目的根据本发明通过具有下文指定的特征的方法来实现。一种检测物体结构的方法，包括以下步骤：-以来自至少一个优选的照明方向的至少部分相干光源的照明光照明物体的至少一个部分，-通过对在检测平面中由照明的部分所衍射的照明光的衍射强度进行空间分辨检测，记录照明的部分的至少一个衍射图像，-通过迭代方法从至少一个记录的衍射图像重构物体结构的至少一个部分，在所述迭代方法中，从迭代起始值开始，计算出原始物体结构的迭代衍射图像，并且在每一次迭代步骤中将所述原始物体结构与所述记录的衍射图像进行比较，-其中，通过从要检测的所述物体结构的原始物体结构开始，采取所述迭代起始值，所述原始物体结构由与剩余检测方法无关的迭代起始值确定方法获得。根据本发明，已确认单独获得的原始物体结构(从该物体结构开始采取迭代起始值)可以促进、改进或加速迭代重构的收敛。应由该方法检测其结构的物体可以是光刻掩模或光掩模。要检测的光刻掩模的结构可以是掩模结构自身，该掩模结构要在投射曝光期间成像。结构检测方法然后例如以wo2016/012426a1中的计量系统的样式用于评价掩模资格。替代地或额外地，要检测的结构可以是光刻掩模上的位置标记物。然后，结构检测方法可以用在配准工具中，该配准工具例如非常准确地测量结构在光刻掩模上的位置。在该方法中，可以在不将光学单元插设在光刻掩模与检测平面之间的情况下，整体地实现衍射图像。替代地，可以使用光学单元，其中，对该光学单元提出的需求通常小于成像结构检测方法中对成像光学单元提出的需求。迭代方法可以是叠层成像方法(ptychographicmethod)。使用原始物体结构重构的物体结构部分可以是例如无法充分照明的结构部分。检测方法还可以用于降低或消除未充分照明的物体结构部分的影响，其对感兴趣的物体结构的整个重构具有消极影响。当实行检测方法时，借助于已知的cdi(相干衍射成像)技术可以实现照明和记录。与检测方法无关的迭代起始值确定方法例如可以在不记录衍射图像的情况下完成，或者在至少不具有截面物体照明的情况下完成，或者在不具有检测方法的重构步骤的情况下完成。可以借助于模拟、借助于测量或借助于模拟和测量的组合，生成迭代起始值。可以通过基于物体设计对物体进行空间像模拟来生成迭代起始值。特别地，该空间像模拟可以使用与测量(即，与衍射图像记录)相同的成像参数。对于物体结构关于制造工艺的信息可以用在空间像模拟中。替代地或额外地，可以借助于也被称为起始测量的物体测量，生成迭代起始值。可以直接使用或者可以处理起始测量。对起始测量的测量结果的此类处理的目的可以是将起始测量的成像参数与衍射图像记录的成像参数匹配。起始测量的结果还可以用作随后模拟的输入。起始测量还可以用作神经网络的输入变量。这样的神经网络可以被训练成将起始测量映射到衍射图像记录的结果，特别是cdi结果。可以用光学方法、借助于电子显微镜、借助于原子力显微镜或其他已知的方法，生成起始测量。检测方法使得可以将从迭代已知的算法用于通过迭代方法从至少一个记录的衍射图像中重构物体结构以达到物体结构的重构结果，所述重构结果的准确度或分辨率优于衍射图像检测的像素分辨率。使用检测方法，可以提高重构质量，使得可以用高准确度测量结构位置、结构高度或强度和结构对比度。这在光掩模检查和/或光掩模计量的范围内是特别有利的。例如，由模拟方法获得所述迭代起始值。上述的模拟方法的结果可以是理想设计的物体的模拟空间像。替代地，可以由单独测量方法或者由不同的单独确定方法来获得迭代起始值。出于获得迭代起始值的目的，还可以遵循原始物体结构的修改。在此，例如可以使用中间结果的台阶式近似版本，例如二进制版本。例如，当实行所述模拟方法时，使用对物体成像的模拟。上述的物体成像的模拟已经证实了其用于指定迭代起始值的价值。例如，在所述模拟期间使用所述物体成像的成像参数，所述物体成像的成像参数对应于照明和/或重构期间所使用的物体成像的成像参数。使用上述的成像参数可以提高确定方法的稳定度。替代地或额外地，可以从测量，即特别是从衍射图像记录中导出成像参数。作为示例，物体照明的光源的波长以及在照明和/或衍射图像记录期间使用的照明侧和/或检测侧的数值孔径因此可以在模拟期间使用。相同成像参数可以首先在重构期间并且其次在记录衍射图像期间使用。例如，从测量方法出发，获得所述迭代起始值。上述的方法有助于细化迭代起始值的规范。测量方法可以是光学测量方法。替代地，测量方法可以是非光学方法、例如探针方法或其他机械或非机械的测量方法。还可以借助于电子显微镜、借助于原子力显微镜或其他已知的方法，获得迭代起始值。从坐标测量机中已知的技术可以在测量方法中使用。测量过程与例如随后模拟的组合可以用于获得迭代起始值。在此，例如可以模拟附加的扰动效应，诸如光学成像中的扰动。例如，在所述模拟方法中包括对物体制造的模拟。上述的模拟物体制造是实践导向的。在此，可以实现例如用于指定物体边缘圆化的蚀刻和/或显影工艺的模拟，其他结构影响的蚀刻和/或显影效应的模拟。作为对物体制造的模拟的替代，关于物体制造的知识可以包括在模拟方法中，例如经验判断物体结构的某些边缘实际上不是尖锐的而是圆的。本发明还涉及一种实行上文所述的方法的设备，该设备：-包括提供所述照明光的光源，-包括空间分辨检测器，其布置在所述检测平面中，用于当记录所述衍射图像时检测衍射强度，-包括掩模保持件，所述掩模保持件是可移位的，以在所述光刻掩模(5)要照明的部分之间进行改变。上述的设备的优点对应于参考结构检测方法在上文已经解释的那些优点。设备可以用作限制掩模资格的测量系统或者配准工具。设备的光源可以确保照明恰好来自一个照明方向。光源例如可以实现为弧灯、激光器(特别是准分子激光器)、同步加速器、hhg(高次谐波生成)或fel(自由电子激光器)。替代地，波长范围为euv或uv的其他光源也是可能的。通过一照明光波长可以实现光刻掩模的结构检测，该照明光波长对应于在光刻掩模的光刻投射曝光期间同样用于半导体部件的制造的光波长。这还称为光化结构检测。然而，这种波长对应性不是强制的，所以结构检测方法还可以通过与投射曝光相比较不同的照明光波长来实现。薄膜可以被施加在光刻掩模上，以便保护光刻掩模。设备可以包括干涉测量装置，以测量光刻掩模上照明的部分的位置。设备可以包括结构生成器，以生成照明光的束的结构。可以选择这样的结构，以便优化照明强度在记录的照明图像上的分布，特别地用于利用空间分辨的检测器的可使用的动态范围。附图说明在下文参考附图更详细地解释本发明的示例性实施例。附图中：图1在具有垂直于入射平面的观看方向的俯视图中高度示意性示出了通过检测至少一个衍射图案检测光刻掩模的结构的测量系统，用于测量作为要检测的物体结构的反射式光刻掩模，以透射方式测量具有物体结构的物体；图2示出了使用从要检测的物体结构的原始物体结构开始的迭代起始值来检测物体结构的方法的示意性流程图，该物体结构的原始物体结构由与剩余检测方法无关的原始物体结构确定方法(例如模拟方法)来获得，其中可选方法步骤由空心箭头表示；图3是在x和y两个维度上绘制的示例性迭代起始值的振幅表示，其中阐明相应振幅值的比例尺在右边再现，迭代起始值是自网格状的原始物体结构开始使用的；图4以与图3类似的图示示出了自根据图3的迭代起始值开始，使用检测方法重构的物体结构的一部分的振幅；图5以与图3类似的图示示出了强度误差，作为根据图4的重构的物体结构部分的强度与物体结构在重构的部分中的实际强度之间的差异；图6至8以与图3至5类似的图示示出了迭代起始值(图6)、重构的物体部分(图7)和强度误差(图8)，其中在检测方法中使用不同边界条件，特别是增加重构的物体结构部分的面积；以及图9以与图1类似的图示示出了替代的测量系统，其配置为以反射的方式测量物体。具体实施方式图1以与子午截面对应的视图示出了检查或测量物体5的计量系统2中的euv照明光或成像光1的束路径，该物体5布置在物平面4中的物场3中、形式为用euv照明光1的掩模母版或光刻掩模。计量系统2用于分析衍射图案并且用于检测物体结构，特别是光刻掩模的结构，该光刻掩模继而在euv投射曝光期间用来制造半导体部件。由计量系统2检测的掩模结构然后例如可以用于由投射曝光设备内的投射光学单元确定光刻掩模的性质对光学成像的影响。计量系统2以与从wo2016/012426a1已知的系统类似的方式可以是限制掩模资格的系统。在这种情况下，光刻掩模5的要检测的结构是自身要被成像的掩模结构。替代地或附加地，光刻掩模5的要检测的结构可以是光刻掩模5上的位置标记物或使用的结构。这样的位置标记物或使用的结构的检测可以用于在光刻掩模5上检测或测量多个位置标记物相对于彼此的确切位置，或多个使用的结构相对于彼此的确切位置，或者(一个或多个)使用的结构相对于(一个或多个)位置标记物的确切位置。这是计量系统2的可能应用之一，作为配准工具。替代地，配准工具可以用于测量使用的结构并且确定其配准误差。一种配准工具以商标名称而知名。照明光1的测量波长可以对应于实际投射曝光波长。为了便于位置关系的演示，在下文中使用笛卡尔xyz坐标系。图1中，x轴垂直于附图的平面并从附图平面伸出。图1中，y轴向上延伸。图1中，z轴向左延伸。物平面平行于xy平面。在物体5处反射并衍射照明光1。照明光1的入射平面平行于yz平面。取决于计量系统2的实施例，后者可以用于反射式物体或透射式物体5。透射式物体的一个示例是相位掩模。由光源6生成euv照明光1。这可以是在可见光范围中、在近紫外、中紫外或远紫外范围中或在euv范围中的光源。光源6可以是激光等离子体源(lpp；激光产生的等离子体)或放电源(dpp；放电产生的等离子体)。还可以使用基于同步加速器的光源，或自由电子激光器(fel)。光源6可以包括生成基本波长的高次谐波的装置(高次谐波生成，hgg)。euv光的使用的波长例如可以是在5nm和30nm之间的范围中。然而，较长或较短的波长也是可能的。原则上，在计量系统2的变型的情况下，其他使用的光波长的光源还可以用来代替光源6，例如uv或duv使用的波长为193nm的光源。光源6为至少部分相干光源。计量系统2的照明光学单元7(没有更详细地示出)布置在光源6和物体5之间。图1中示意性图示的照明光学单元7包括光阑7a。照明光学单元7用于以在物场3上的限定的照明强度分布并且同时以限定的照明角度或限定的照明角度分布来照明要检查的物体5，用该限定的照明角度或限定的照明角度分布来照明物场3的场点。由于光刻掩模5布置在物场3中，物场3同时构成光刻掩模5的照明部分。在穿过物体5(根据图1计量系统2的变型)透射或在物体5处(根据图9计量系统2的变型)反射之后，衍射的照明或成像光1照射在计量系统2的空间分辨检测单元或检测装置8上。引导到物体5的照明光由图1中的1a指示，并且由透射式物体5衍射的照明光由图1中由1b表示。图1和9由zf表示的中间焦点可以位于照明光在光阑7a与物场3之间的束路径中。例如，检测装置8设计为ccd或cmos检测器。通过对应的像素划分，出现传感器或检测器9、10的空间分辨率。检测装置8的空间分辨的检测器可以用方形或矩形形式定界。ccd或cmos检测器布置在检测平面8a中。在对光刻掩模5的衍射图案进行记录期间，检测装置8检测衍射强度。如图1所指示，偏转和/或束影响光学单元9可以布置在物体5和检测装置8之间。然而，这不是强制的。换言之，在物体5和检测装置8之间不布置光学元件和/或束影响元件也是可能的。将检测装置8信号连接到数字图像处理装置10a。由掩模或物体保持件10承载物体5。该掩模或物体保持件可以通过位移驱动器11一方面平行于xy平面移位并且另一方面垂直于该平面(也就是说在z方向上)例如以δz增量进行移位。掩模保持件10是在x方向和/或y方向上可移位的，以在要照明的光刻掩模5的部分之间切换。掩模保持件10附加地可以实施为可绕x轴倾斜和/或绕y轴倾斜。位移驱动器11以及计量系统2的整体操作由中央控制装置12控制，没有以更具体详细的方式图示出将该中央控制装置16信号连接到要控制的部件。照明光1以照明侧主光线和物平面4的法线之间的主光线角cra来照射在物场3上。物场3呈现为照明光1的照明斑。特别是，主光线角cra的范围可以在3°和9°之间。较小主光线角也是可能的，例如图1和9中示出的主光线角为0°。作为示例，特别是，可以通过部分透射式反射镜来实现0°的入射角cra。从物场3出发，照明光1的零级衍射以像侧主光线角传播，该像侧主光线角位于像侧主光线和法线之间，继而具有入射侧主光线角cra的值。在像侧上，检测装置8具有彼此间隔最远的两个外部边缘光线之间的检测角。为了不将照明光1的光线以垂直方式入射在物场3上，检测角呈现在最靠近法线的内边缘光线和与法线距离最大的外部边缘光线之间。各种照明情景之间应存在区别，其中至少一部分物体5在各个情况下是以来自至少一个优选的照明方向的照明光1照明的。作为示例，可以恰好以一个限定的照明角、例如恰好沿着物侧主光线crao照明物场3。在这种情况下，照明强度仅在照明光瞳的中心，即在照明光1在物场3上的照明角分布中，在物侧主光线的相交点处。替代地，可以以照明光瞳内存在的各种照明角的分布来照明物场3。出于照明物场3的目的，可以同时或顺序地用这些各种照明角。照明光瞳和检测光瞳(即照明光1由物场3衍射的检测角范围)以圆形方式各自定界并且具有相同直径。替代地，照明光瞳和/或检测光瞳的边界例如可以偏离圆形形式并且可以是椭圆的。椭圆的主轴线可以沿着x方向或者沿着y方向延伸。照明光瞳和检测光瞳可以具有不同尺寸。由物场3衍射的照明光的检测的数值孔径为0.0825，该照明光从检测光瞳出现。检测侧数值孔径的范围可以在0.05与0.8之间，取决于检测装置8的实施例，特别是因为使用了插设的光学单元9。检测侧数值孔径的范围对于euv照明波长可以在0.0625与0.21之间并且当使用duv波长时还可以更大，并且甚至可以大于0.8。基于图2描述用于检测光刻掩模5的结构的方法。图2示出了当通过迭代傅里叶变换算法(ifta)工作时的基本步骤。第一步骤15中，用光源6的照明光1以如上所述的限定的照明方向或限定的照明方向分布来照明光刻掩模5的一部分，即与物场3重合的部分。照明15可以以叠层成像测量(ptychographicmeasurement)的形式来实现。借助于检测装置8，通过对在检测平面8a中由光刻掩模5的照明的部分所衍射的照明光1的衍射强度进行空间分辨检测，记录照明的部分的衍射图案。特别是，可以借助于光学单元9实现远场成像。为了表示衍射图案，光学单元9因此可以生成成像光瞳的像。光学单元9可以实施为至少一个bertrand透镜元件或至少一个bertrand反射镜。然而，还可以简单地省略光学单元，并且可以通过在照明的光刻掩模和传感器之间的某一距离来实现远场成像。然后对于光刻掩模5的其他部分实行光刻掩模5的照明。为此，光刻掩模5在xy平面上相对于照明光1的照明斑移位，这是借助于掩模保持件10来实现的。因此，这导致物场3在光刻掩模5上的对应的相对移位。光刻掩模5上相邻的照明的部分在各个情况下在重叠区域中重叠。所述重叠区域的区域范围相当于光刻掩模5的两个照明的部分中的较小的照明的部分的至少5％。如果如在所描述的示例性实施例的情况下，照明的部分各具有相同大小并且具有物场3的范围，则重叠区域相当于5％的物场3的面积。在结构检测方法的变型中，重叠区域可以相当于至少10％、至少20％、至少30％、至少40％、至少50％、至少60％、至少70％、至少80％或至少90％的物场3的面积。通过迭代方法实现从记录的衍射图案对光刻掩模5的结构的重构16a。为此，最初使用以迭代起始值16的形式对光刻掩模的结构的近似。迭代起始值16从要检测的物体5的结构的原始物体结构17中得出。借助于模拟方法、例如借助于空间像模拟18，从原始物体结构17获得迭代起始值16。这可以是物体关于其结构使用理想设计的模拟空间像。替代地，迭代起始值还可以由单独确定或测量方法从原始物体结构获得。出于获得空间像模拟18的目的，还可以修改原始物体结构17。这样的可选的修改步骤在图2中在19处图示。作为空间像模拟18的结果的空间像的修改也是可能的。这样的空间像修改步骤在图2中在20处图示。物体制造方面可以包括在空间像模拟18和/或修改步骤19、20中，例如用于指定物体边缘圆化的蚀刻和/或显影工艺的模拟，或者其他结构影响的蚀刻和/或显影效应。测量过程与获得迭代起始值16的随后模拟的组合也是可能的，例如具有在物体成像的范围内的附加扰动效应的模拟。中间结果的指定光栅化或逐步表示也是可能的，例如以生成迭代起始值的二进制变量。因此，空间像修改步骤20可以以强度的二值化形式来实现。在空间像模拟18的范围内，可以使用与当照明15时和/或可选地当重构16a时所使用的成像参数对应的成像参数。在重构16a中，在一个部分中照明迭代起始值16，并且借助于模拟计算衍射图像。在这种情况下，照明的模拟对应于先前实际实行的照明。在简单的情况下，衍射图案可以通过逐个部分照明的近似的傅里叶变换来计算出。计算出的衍射图案由振幅和相位信息构成。振幅替换为(光刻掩模的相同照明的部分的)测量的衍射图案的根，并且相位被维持。通过逆傅里叶变换(或逆模拟)获得光刻掩模的结构的新估计。该估计在光刻掩模5的区域上延伸，其中，仅该估计的一部分或部分结构对应于照明的部分或照明的部分结构。只有在该区域中，才能通过在振幅和相位方面的最近获得的估计来更新光刻掩模的结构的初始假设的近似。然后在不同部分中将该最近获得的估计照明并且重复刚描述的过程，因此全部测量的衍射图案逐步地贡献于光刻掩模的结构的整体近似21。因为光刻掩模的结构的整体估计仍然变化并且模拟的衍射图案因此仍然在振幅和相位方面变化，所以每个照明的部分通常需要以迭代的方法多次经历所描述的过程。这不断重复直到整体近似21(即，光刻掩模5要检测的区域)收敛，即，变化不超过预定义的容差值。因此从收敛的整体近似21中得到的光刻掩模5的结构是检测方法的结果。在所描述的方法中，相位不能通过测量直接校正，而是仅逐渐地设定至校正值。整体近似21由用于在分配到光刻掩模5的相应的空间坐标x、y处的所有计算出的部分结构的“振幅/相位”的数值对构成。在该情况下，振幅值对应于在光刻掩模的有限频带的近场中的光的强度的平方根。在这种情况下，相位值对应于在光刻掩模5的有限频带的近场中的光的相位。这些数值产生光刻掩模5的结构信息。使用相干衍射成像(cdi)的方法实现相应部分的物体结构的计算并实现组合以形成整体近似21。这样的方法从2012年第20卷第17期的《光学快讯(opticsexpress)》上由d.f.gardner等人发表的专业文献《使用离轴孔径的照明的高数值孔径反射模式相干衍射显微镜(highnumericalaperturereflectionmodecoherentdiffractionmicroscopyusingoff-axisaperturedillumination)》的已知。迭代傅里叶变换算法的基本原理可以在以下专业文献中找到：2017年第4卷第7期的《光学设计(optica)》上由a.maiden等人发表的《对叠层成像迭代引擎的进一步改进(furtherimprovementstotheptychographicaliterativeengine)》，以及2004年第93卷第2期的《物理综述快报(phyrevlett)》上由h.m.l.faulkner等人发表的《可移动孔径无透镜传输显微镜：新型相位取回算法(movableaperturelenslesstransmissionmicroscopy：anovelphaseretrievalalgorithm)》。在结构检测中使用衍射图像记录的进一步参考是2013年第21卷第19期的《光学快讯》上由b.zhang等人发表的《在透射几何体中的全场桌上型euv相干衍射成像(fullfieldtabletopeuvcoherentdiffractiveimaginginatransmissiongeometry)》的专业文献。重构16a可以是叠层成像重构(ptychographicreconstruction)。图3以示例性方式示出了规则网格的形式的迭代起始值16，其中，振幅沿着网格的行和列为1并且在由此定界的网格场的区域中为0。相邻行或列之间的距离小于1μm。物场3以1.5μmx1.5μm的面积来照明。图4示出了重构的部分结构22的振幅值作为重构16a的中间步骤。图5示出了重构16a的强度误差，作为重构图像21和物体结构的空间像表示之间的差异。强度误差在最大照明强度的 /-1％范围内。观察重构部分结构22，每一处的强度误差都小于3x10-3，并且甚至主要小于1x10-3。图3至5的x/y缩放符合关于彼此的比例。从原始物体结构中得出的迭代起始值16可以在重构16a的迭代期间促进、改进或加速收敛。使用原始物体结构17重构的物体结构22和/或23可以是例如无法充分照明的结构部分。图6至8再次示出了在与图3至5不同的起始值的情况下的迭代起始值(图6)、重构的部分结构(图7)和重构的强度误差(图8)。与图3至5相比，图6至8中的光阑7a具有不同的设置。再次，物场3以2.5μmx2.5μm的范围来照明。在x/y平面中的直径方面，根据图7的重构的部分结构23大于根据图4的重构的部分结构22。出现的是，显著改进重构并且重构误差可以减少到10-3的区域中，即0.1％或更低。与图1相比，图9示出了计量系统2，设计为以反射的方式测量物体5。与上文已经参考图1至图8并且特别是参考图1解释的部件和功能对应的部件和功能具有相同的附图标记并且将不再详细讨论。在这种情况下，检测装置8具有用于照明光1的通道的通道开口8b，而且在此物体5的垂直照明也是可能的。中间焦点zf可以位于通道开口8b的区域中。引导到物体5的照明光由图9中的1a指示，并且由物体反射和衍射的照明光由图9中的1b表示。由于检测装置8中的通道开口8b排除的衍射图像的中央阴影可以在物体结构检测方法的范围内重构。当前第1页1 2 3 当前第1页1 2 3
技术特征：1.一种检测物体结构的方法，包括以下步骤：
-以来自至少一个优选的照明方向的至少部分相干光源(6)的照明光(1)照明(15)物体(5)的至少一个部分(3)，
-通过对在检测平面(8a)中由照明的部分(3)所衍射的照明光(1)的衍射强度进行空间分辨检测，记录照明的部分(3)的至少一个衍射图像，
-通过迭代方法从至少一个记录的衍射图像重构(16a)物体结构的至少一个部分(22；23)，在所述迭代方法中，从迭代起始值(16)开始，计算出原始物体结构(17)的迭代衍射图像，并且在每一次迭代步骤中将所述原始物体结构与所述记录的衍射图像进行比较，
-其中，通过从要检测的所述物体结构的原始物体结构开始，采取所述迭代起始值(16)，所述原始物体结构由与剩余检测方法无关的迭代起始值确定方法获得。
2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，由模拟方法获得所述迭代起始值(16)。
3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，当实行所述模拟方法时，使用对物体成像的模拟(18)。
4.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，在所述模拟(18)期间使用所述物体成像的成像参数，所述物体成像的成像参数对应于照明(15)和/或重构(16a)期间所使用的物体成像的成像参数。
5.根据权利要求1至4中任一项所述的方法，其特征在于，从测量方法出发，获得所述迭代起始值(16)。
6.根据权利要求2至4中任一项所述的方法，其特征在于，在所述模拟方法中包括对物体制造的模拟。
7.一种实行根据权利要求1至6中任一项所述的方法的设备(2)，
-包括提供所述照明光(1)的光源(6)，
-包括空间分辨检测器(8)，其布置在所述检测平面(8a)中，用于当记录所述衍射图像时检测衍射强度，
-包括掩模保持件(10)，所述掩模保持件是可移位的，以在所述光刻掩模(5)要照明的部分之间进行改变。
技术总结当检测物体结构时，以来自至少一个优选的照明方向的至少部分相干光源的照明光，最初照明物体的至少一个部分。通过对在检测平面中由所照明的部分衍射的照明光的衍射强度进行空间分辨检测，记录所照明的部分的至少一个衍射图像。使用迭代方法，从至少一个记录的衍射图像重构物体结构的至少一个部分。在此，从迭代起始值开始，计算出原始物体结构的迭代衍射图像，并且在每一次迭代步骤中将所述原始物体结构与所记录的衍射图像进行比较。通过从要检测的物体结构的原始物体结构开始，采取迭代起始值，原始物体结构由与剩余检测方法无关的迭代起始值确定方法获得。这产生了其中以给定准确度将物体结构的检测设计成不敏感的方法。
技术研发人员：B.M.穆特;D.塞德尔;C.休斯曼;U.马特杰卡
受保护的技术使用者：卡尔蔡司SMT有限责任公司
技术研发日：2020.09.11
技术公布日：2021.03.12
