本发明涉及一种环形运动抛光机。
背景技术：
抛光机又被称为研磨机，通过动力机构带动抛光盘刷快速转动从而达到抛光的效果，而金属抛光是金属原件加工中的一个步骤，可以使金属表面的光洁度提高，具体抛光效果好坏受抛光抛光组件的结构很大的影响。
技术实现要素：
本发明要解决的技术问题是提供一种环形运动抛光机。
为了解决上述技术问题，本发明采用的技术方案是：一种环形运动抛光机，包括设置有环形导轨的机架、滑动设置于所述环形导轨上的多个行走装置、设置于所述机架上用于驱动多个所述行走装置沿所述环形导轨移动的行走驱动机构、设置于所述行走装置上的抛光组件，
每个所述行走装置包括滑动设置于所述环形导轨上的行走架、固定在所述行走架上打磨轴垂直向下的打磨电机，所述抛光组件安装于所述打磨轴上，
所述机架上具有控制座，所述环形导轨围设于所述控制座的周围，所述控制座上部固定有引入电流的集电环，每个所述打磨电机通过相应的弹簧线缆与所述集电环电连接，
所述抛光组件下方设置有用于输送抛光件的输送带。
在某些实施方式中，所述打磨轴上固定有轴承座，所述抛光组件包括抛光盘座、安装在所述抛光盘座上的抛光盘本体、固定在所述抛光盘座上的抛光轴承，所述抛光盘本体的中心线与所述抛光轴承的中心线相重合，所述抛光轴承安装在所述轴承座上，所述轴承座的轴心线与所述抛光轴承的轴心线相平行。
在某些实施方式中，所述抛光盘座的周边部与所述行走架之间设置有抛光避震结构。
在某些实施方式中，所述抛光避震结构包括固定在所述行走架端部的抛光避震架、沿着边缘部连接在所述抛光盘座与所述抛光避震架之间的多个抛光避震簧，所述抛光避震架中部具有穿孔，所述打磨轴穿过所述穿孔向下伸出。
在某些实施方式中，多个所述抛光避震簧依次沿着正倾斜、反倾斜地设置，从而使得任意相邻的两个所述抛光避震簧呈正“八”字或反“八”字设置。
在某些实施方式中，所述抛光盘本体为打磨盘或清渣盘。
在某些实施方式中，所述打磨电机通过多个避震橡胶间接固定在所述行走架上。
在某些实施方式中，所述环形导轨包括位于上部的上环轨，与位于下部的下环轨，所述行走架包括行走主体、位于所述行走主体上部的行走上座、位于所述行走主体下部的行走下座，所述上环轨与所述下环轨位于所述行走上座与所述行走下座之间，所述打磨电机安装固定设置在所述行走上座、所述行走主体以及所述行走下座之间，所述行走上座上固定有轴心线平行于水平面的上限位滚轮、还固定有轴心线分别垂直于水平面且位于所述上限位滚轮两侧的上内限位滚轮与上外限位滚轮，所述上外限位滚轮、所述上内限位滚轮与所述上限位滚轮分别抵在所述上环轨的外侧壁、内侧壁与顶壁上，所述行走下座上固定有轴心线平行于水平面的下限位滚轮、还固定有轴心线分别垂直于水平面且位于所述下限位滚轮两侧的下外限位滚轮与下内限位滚轮，所述下外限位滚轮、所述下内限位滚轮与所述下限位滚轮分别抵在所述下环轨的外侧壁、内侧壁与顶壁上。
在某些实施方式中，所述行走驱动机构包括绕在所述环形导轨上的行走传动带、轴心线沿铅垂方向延伸的至少两个与所述行走传动带内齿相啮合的行走带轮、行走电机、设置于所述行走带轮与所述行走电机之间的行走传动机构，所述行走主体上安装有与所述行走传动带能啮合配合的啮板。
本发明的范围，并不限于上述技术特征的特定组合而成的技术方案，同时也应涵盖由上述技术特征或其等同特征进行任意组合而形成的其它技术方案。例如上述特征与本申请中公开的（但不限于）具有类似功能的技术特征进行互相替换而形成的技术方案等。
由于上述技术方案运用，本发明与现有技术相比具有下列优点：本发明提供一种环形运动抛光机，通过行走带轮驱动行走工作带移动，同步带动所有行走装置环形移动，每个设置于相应行走装置打磨轴上的抛光组件在集电环的控制下各自自转，由于每个行走装置均设置有各自的打磨电机，使得打磨头的转速较快，对下方输送带上的工件抛光研磨，研磨强度高，抛光效果更均匀更好。
附图说明
附图1为环形运动抛光机透视图；
附图2为环形运动抛光机立面图；
附图3为环形导轨透视图；
附图4为环形导轨立面图；
附图5为环形导轨横剖图；
附图6为环形导轨剖面图；
附图7为行走装置立面图；
附图8为行走装置剖面图；
附图9为打磨电机、抛光组件及抛光避震结构透视图；
附图10为打磨电机、抛光组件及抛光避震结构立面图；
附图11为避震橡胶示意图；
其中:1、机架;11、环形导轨;11a、上环轨;11b、下环轨;12、控制座；13、集电环；2、行走装置;21、行走架;211、行走上座；211a、上限位滚轮；211b、上外限位滚轮；211c、上内限位滚轮；212、行走下座;212a、下限位滚轮；212b、下外限位滚轮；212c、下内限位滚轮；213、行走主体；3、打磨电机；31、轴承座；32、弹簧线缆；4、抛光组件；41、抛光盘座;42、抛光盘本体；43、抛光轴承；5、抛光避震结构；51、抛光避震架；52、抛光避震簧；53、避震橡胶；6、行走驱动机构;61、行走带轮；62、行走传动带；7、输送带。
具体实施方式
如各附图所示，一种环形运动抛光机，包括设置有环形导轨11的机架1、滑动设置于所述环形导轨11上的十五个行走装置2、设置于所述机架1上用于同步驱动十五个所述行走装置2沿所述环形导轨11移动的行走驱动机构6、设置于每个所述行走装置2上的抛光组件4。
每个所述行走装置2包括滑动设置于所述环形导轨11上的行走架21、固定在所述行走架21上打磨轴垂直向下的打磨电机3，所述抛光组件4安装于所述打磨轴上。所述打磨电机3通过多个避震橡胶53间接固定在所述行走架21上。
所述机架1上具有控制座12，所述环形导轨11围设于所述控制座12的周围，所述控制座12上部固定有引入电流的集电环13，每个所述打磨电机3通过相应的弹簧线缆32与所述集电环13电连接，弹簧线缆为可伸缩材质，打磨电机向集电环反馈过电信号实现多个行走装置的集中控制，每个行走装置设置单独的打磨电机，控制直接方便，使得打磨轴的转速较快，对下方输送带上的工件抛光研磨，研磨强度高，抛光效果更均匀更好，同时实现了智能化。
所述抛光组件4下方设置有用于输送抛光件的输送带7。
为了打磨效果均匀，所述打磨轴上固定有轴承座31，所述抛光组件4包括抛光盘座41、安装在所述抛光盘座41上的抛光盘本体42、固定在所述抛光盘座41上的抛光轴承43，所述抛光盘本体42的中心线与所述抛光轴承43的中心线相重合，所述抛光轴承43安装在所述轴承座31上，所述轴承座31的轴心线与所述抛光轴承43的轴心线相平行。所述抛光盘本体42可以为打磨盘或清渣盘。根据不同工作需要选择使用。通过对抛光轴承的偏心设置，使得打磨头在抛光打磨工程中，在接触中产生震动，从而避免与工件接触中在一个点上过度打磨形成螺旋纹，使得抛光效果更均匀。
所述抛光盘座41的周边部与所述行走架21之间设置有抛光避震结构5。
所述抛光避震结构5包括固定在所述行走架21端部的抛光避震架51、沿着边缘部连接在所述抛光盘座41与所述抛光避震架51之间的多个抛光避震簧52，所述抛光避震架51中部具有穿孔，所述打磨轴穿过所述穿孔向下伸出。
多个所述抛光避震簧52依次沿着正倾斜、反倾斜地设置，从而使得任意相邻的两个所述抛光避震簧52呈正“八”字或反“八”字设置。设置用于稳定的抛光避震簧，限制了抛光盘的转动，使得抛光更加均匀。
所述环形导轨11包括位于上部的上环轨11a，与位于下部的下环轨11b，所述行走架21包括行走主体213、位于所述行走主体213上部的行走上座211、位于所述行走主体213下部的行走下座212，所述上环轨11a与所述下环轨11b位于所述行走上座211与所述行走下座212之间，所述打磨电机3安装固定设置在所述行走上座211、所述行走主体213以及所述行走下座212之间，所述行走上座211上固定有轴心线平行于水平面的上限位滚轮211a、还固定有轴心线分别垂直于水平面且位于所述上限位滚轮211a两侧的上内限位滚轮211c与上外限位滚轮211b，所述上外限位滚轮211b、所述上内限位滚轮211c与所述上限位滚轮211a分别抵在所述上环轨11a的外侧壁、内侧壁与顶壁上，所述行走下座212上固定有轴心线平行于水平面的下限位滚轮212a、还固定有轴心线分别垂直于水平面且位于所述下限位滚轮212a两侧的下外限位滚轮212b与下内限位滚轮212c，所述下外限位滚轮212b、所述下内限位滚轮212c与所述下限位滚轮212a分别抵在所述下环轨11b的外侧壁、内侧壁与顶壁上。
所述行走驱动机构6包括绕在所述环形导轨11上的行走传动带62、轴心线沿铅垂方向延伸的至少两个与所述行走传动带62内齿相啮合的行走带轮61、行走电机63、设置于所述行走带轮61与所述行走电机之间的行走传动机构，所述行走主体213上安装有与所述行走传动带62能啮合配合的啮板。通过行走带轮驱动行走工作带移动，同步带动所有行走装置环形移动，行走传动机构可以为齿轮传动、蜗轮蜗杆传动等等，为机械领域常用技术，不赘述。
上述实施例只为说明本发明的技术构思及特点，其目的在于让熟悉此项技术的人士能够了解本发明的内容并据以实施，并不能以此限制本发明的保护范围。凡根据本发明精神实质所作的等效变化或修饰，都应涵盖在本发明的保护范围之内。
1.一种环形运动抛光机，其特征在于：包括设置有环形导轨（11）的机架（1）、滑动设置于所述环形导轨（11）上的多个行走装置（2）、设置于所述机架（1）上用于驱动多个所述行走装置（2）沿所述环形导轨（11）移动的行走驱动机构（6）、设置于所述行走装置（2）上的抛光组件（4），
每个所述行走装置（2）包括滑动设置于所述环形导轨（11）上的行走架(21)、固定在所述行走架(21)上打磨轴垂直向下的打磨电机(3)，所述抛光组件（4）安装于所述打磨轴上，
所述机架（1）上具有控制座(12)，所述环形导轨（11）围设于所述控制座(12)的周围，所述控制座(12)上部固定有引入电流的集电环(13)，每个所述打磨电机(3)通过相应的弹簧线缆(32)与所述集电环(13)电连接，
所述抛光组件（4）下方设置有用于输送抛光件的输送带（7）。
2.根据权利要求1所述的环形运动抛光机，其特征在于：所述打磨轴上固定有轴承座(31)，所述抛光组件(4)包括抛光盘座(41)、安装在所述抛光盘座(41)上的抛光盘本体(42)、固定在所述抛光盘座(41)上的抛光轴承(43)，所述抛光盘本体(42)的中心线与所述抛光轴承(43)的中心线相重合，所述抛光轴承(43)安装在所述轴承座(31)上，所述轴承座(31)的轴心线与所述抛光轴承(43)的轴心线相平行。
3.根据权利要求2所述的环形运动抛光机，其特征在于：所述抛光盘座（41）的周边部与所述行走架（21）之间设置有抛光避震结构（5）。
4.根据权利要求3所述的环形运动抛光机，其特征在于：所述抛光避震结构（5）包括固定在所述行走架（21）端部的抛光避震架（51）、沿着边缘部连接在所述抛光盘座（41）与所述抛光避震架（51）之间的多个抛光避震簧（52），所述抛光避震架（51）中部具有穿孔，所述打磨轴穿过所述穿孔向下伸出。
5.根据权利要求4所述的环形运动抛光机，其特征在于：多个所述抛光避震簧（52）依次沿着正倾斜、反倾斜地设置，从而使得任意相邻的两个所述抛光避震簧（52）呈正“八”字或反“八”字设置。
6.根据权利要求5所述的环形运动抛光机，其特征在于：所述抛光盘本体（42）为打磨盘或清渣盘。
7.根据权利要求5所述的环形运动抛光机，其特征在于：所述打磨电机（3）通过多个避震橡胶（53）间接固定在所述行走架（21）上。
8.根据权利要求7所述的环形运动抛光机，其特征在于：所述环形导轨（11）包括位于上部的上环轨（11a），与位于下部的下环轨(11b)，所述行走架(21)包括行走主体(213)、位于所述行走主体(213)上部的行走上座(211)、位于所述行走主体(213)下部的行走下座(212)，所述上环轨(11a)与所述下环轨(11b)位于所述行走上座(211)与所述行走下座(212)之间，所述打磨电机(3)安装固定设置在所述行走上座(211)、所述行走主体(213)以及所述行走下座(212)之间，所述行走上座(211)上固定有轴心线平行于水平面的上限位滚轮(211a)、还固定有轴心线分别垂直于水平面且位于所述上限位滚轮(211a)两侧的上内限位滚轮（211c）与上外限位滚轮（211b），所述上外限位滚轮（211b）、所述上内限位滚轮（211c）与所述上限位滚轮(211a)分别抵在所述上环轨（11a）的外侧壁、内侧壁与顶壁上，所述行走下座（212）上固定有轴心线平行于水平面的下限位滚轮（212a）、还固定有轴心线分别垂直于水平面且位于所述下限位滚轮（212a）两侧的下外限位滚轮（212b）与下内限位滚轮（212c），所述下外限位滚轮（212b）、所述下内限位滚轮（212c）与所述下限位滚轮（212a）分别抵在所述下环轨（11b）的外侧壁、内侧壁与顶壁上。
9.根据权利要求8所述的环形运动抛光机，其特征在于：所述行走驱动机构（6）包括绕在所述环形导轨（11）上的行走传动带（62）、轴心线沿铅垂方向延伸的至少两个与所述行走传动带（62）内齿相啮合的行走带轮（61）、行走电机（63）、设置于所述行走带轮（61）与所述行走电机之间的行走传动机构，所述行走主体（213）上安装有与所述行走传动带（62）能啮合配合的啮板。
技术总结