本实用新型涉及电源emi处理技术领域，具体来说，涉及一种立式uu型共差模一体组合结构。
背景技术：
常规uu型以立式双槽绕组结构大多数是双槽绕线，在双槽共模电感与差模电感分两个零件所占空间比较大，同时两个零件间的间隔普遍均在3mm以下，绝缘效果不佳，如果出现组装差异或公差匹配等问题，则难以承受3000v的高压。而本实用新型共差模一体电感解决了共模差模干扰信号由一个零件同时处理，能有效减小电源板空间及成品总重量，降低成本，达到emi抑制的功能效果，非常适合一些对于emi空间有要求的场合。
针对相关技术中的问题，目前尚未提出有效的解决方案。
技术实现要素：
针对相关技术中的问题，本实用新型提出一种立式uu型共差模一体组合结构，以克服现有相关技术所存在的上述技术问题。
为此，本实用新型采用的具体技术方案如下：
一种立式uu型共差模一体组合结构，包括骨架，所述骨架上设有若干均匀分布的凹槽，所述凹槽上均缠绕设有与其相匹配的电感绕组，所述骨架内的中部开设有安装槽，且所述骨架的两侧对称设有与所述安装槽相匹配的磁芯一和磁芯二，所述骨架的顶端中部开设有凹槽，所述凹槽内设有与其相匹配的镍片，所述镍片为h型结构，所述镍片的两端均设有限位槽，所述限位槽与所述磁芯一和所述磁芯二相匹配，所述磁芯一和所述磁芯二的顶端设有横向设置的安装板，所述安装板为u型结构。
优选的，所述凹槽的数量为四组，且所述凹槽的间距大于3.2mm。
优选的，所述骨架的底端设有若干均匀分布的端子。
优选的，所述磁芯一和所述磁芯二均为u型结构。
本实用新型的有益效果为：采用这种四槽结构可以将绕组隔离，能有效的起到降低绕组间的分布电容干扰，增加阻抗的作用，同时中间增加一片镍片能有效的增加差模电感，非常适合一些需要滤除共模与差模干扰电路要求的场合。此方案可减少电路中的零件，达到减轻整机的重量。
附图说明
为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1是根据本实用新型实施例的一种立式uu型共差模一体组合结构的爆炸图；
图2是根据本实用新型实施例的一种立式uu型共差模一体组合结构的结构示意图。
图中：
1、骨架；2、凹槽；3、电感绕组；4、安装槽；5、磁芯一；6、磁芯二；7、凹槽；8、镍片；9、限位槽；10、安装板；11、端子。
具体实施方式
为进一步说明各实施例，本实用新型提供有附图，这些附图为本实用新型揭露内容的一部分，其主要用以说明实施例，并可配合说明书的相关描述来解释实施例的运作原理，配合参考这些内容，本领域普通技术人员应能理解其他可能的实施方式以及本实用新型的优点，图中的组件并未按比例绘制，而类似的组件符号通常用来表示类似的组件。
根据本实用新型的实施例，提供了一种立式uu型共差模一体组合结构。
实施例一；
如图1-2所示，根据本实用新型实施例的立式uu型共差模一体组合结构，包括骨架1，所述骨架1上设有若干均匀分布的凹槽2，所述凹槽2上均缠绕设有与其相匹配的电感绕组3，所述骨架1内的中部开设有安装槽4，且所述骨架1的两侧对称设有与所述安装槽4相匹配的磁芯一5和磁芯二6，所述骨架1的顶端中部开设有凹槽7，所述凹槽7内设有与其相匹配的镍片8，所述镍片8为h型结构，所述镍片8的两端均设有限位槽9，所述限位槽9与所述磁芯一5和所述磁芯二6相匹配，所述磁芯一5和所述磁芯二6的顶端设有横向设置的安装板10，所述安装板10为u型结构。
实施例二；
如图1-2所示，所述凹槽2的数量为四组，且所述凹槽2的间距大于3.2mm，所述骨架1的底端设有若干均匀分布的端子11，所述磁芯一5和所述磁芯二6均为u型结构。从上述的设计不难看出，能有效的起到降低绕组间的分布电容干扰，增加阻抗的作用。
为了方便理解本实用新型的上述技术方案，以下就本实用新型在实际过程中的工作原理或者操作方式进行详细说明。
在实际应用时，采用先装镍片再装磁芯方式，两绕组分四槽绕制，减小线圈的分布电容可提高线圈阻抗，中间增加镍片提高差模电感，常适合一些需要滤除共模与差模干扰电路要求的场合。此方案可减少电路中的零件，达到减轻整机的重量。
综上所述，借助于本实用新型的上述技术方案，采用这种四槽结构可以将绕组隔离，能有效的起到降低绕组间的分布电容干扰，增加阻抗的作用，同时中间增加一片镍片能有效的增加差模电感，非常适合一些需要滤除共模与差模干扰电路要求的场合，此方案可减少电路中的零件，达到减轻整机的重量。
以上所述仅为本实用新型的较佳实施例而已，并不用以限制本实用新型，凡在本实用新型的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。
1.一种立式uu型共差模一体组合结构，其特征在于，包括骨架(1)，所述骨架(1)上设有若干均匀分布的凹槽(2)，所述凹槽(2)上均缠绕设有与其相匹配的电感绕组(3)，所述骨架(1)内的中部开设有安装槽(4)，且所述骨架(1)的两侧对称设有与所述安装槽(4)相匹配的磁芯一(5)和磁芯二(6)，所述骨架(1)的顶端中部开设有凹槽(7)，所述凹槽(7)内设有与其相匹配的镍片(8)，所述镍片(8)为h型结构，所述镍片(8)的两端均设有限位槽(9)，所述限位槽(9)与所述磁芯一(5)和所述磁芯二(6)相匹配，所述磁芯一(5)和所述磁芯二(6)的顶端设有横向设置的安装板(10)，所述安装板(10)为u型结构。
2.根据权利要求1所述的一种立式uu型共差模一体组合结构，其特征在于，所述凹槽(2)的数量为四组，且所述凹槽(2)的间距大于3.2mm。
3.根据权利要求1所述的一种立式uu型共差模一体组合结构，其特征在于，所述骨架(1)的底端设有若干均匀分布的端子(11)。
4.根据权利要求1所述的一种立式uu型共差模一体组合结构，其特征在于，所述磁芯一(5)和所述磁芯二(6)均为u型结构。
技术总结