本实用新型涉及一种用于切割坩埚的排气工装，属于加工工装技术领域。
背景技术：
化学气相沉积(以下简称为cvd)是指化学气体或蒸汽在基质表面反应合成涂层或纳米材料的方法，是半导体工业中应用最为广泛的用来沉积多种材料的技术，包括大范围的绝缘材料，大多数金属材料和金属合金材料。目前cvd技术领域中定制化坩埚种类多，规格也是多种多样，其中坩埚切割的工装制备属于本领域中的一个难点，这是由于坩埚端面是封闭的，且坩埚是层结构易损坏，工装和内衬要同时安装进坩埚内，坩埚内气体无法排出，致使坩埚不能与工装紧密贴合，机床切割时容易发生晃动，进而导致坩埚的切割合格率低。
技术实现要素：
针对现有技术的不足，本实用新型提供一种用于切割坩埚的排气工装，保证工装与坩埚紧密贴合，提高坩埚的切割合格率。
本实用新型的技术方案如下：
一种用于切割坩埚的排气工装，包括主体，主体为圆柱体，主体一端中心位置处设置有夹持位，夹持位为圆柱体结构，夹持位直径小于主体直径，主体内设有通孔，通孔贯穿主体和夹持位。
优选的，通孔设置于主体的中心位置，保证通孔不会被内衬遮挡，保持排气通畅。
优选的，主体直径为10-300mm，高度为10-500mm。
优选的，通孔直径为3-70mm。
工装使用时，将主体和内衬一起安装进坩埚内，坩埚内的压缩气体随通孔排出，工装与坩埚紧密贴合，然后将夹持位夹持在机床上，进行稳定切割。
本实用新型的有益效果在于：
1、本实用新型通过通孔排出坩埚内产生的压缩气体，保证工装与坩埚紧密贴合，提高坩埚的切割合格率。
2、本实用新型设有夹持位，方便将工装夹持到机床上。
附图说明
图1为本实用新型的主视图；
图2为本实用新型的剖视图；
其中：1、主体；2、通孔；3、夹持位。
具体实施方式
下面通过实施例并结合附图对本实用新型做进一步说明，但不限于此。
实施例1：
如图1-2所示，本实施例提供一种用于切割坩埚的排气工装，包括主体1，主体1为圆柱体，主体1一端中心位置处设置有夹持位3，保证切割出坩埚的同心度，夹持位3为圆柱体结构，夹持位3直径小于主体直径，主体1内设有通孔2，通孔2贯穿主体1和夹持位3，保证气体的通畅排出，主体1直径为10mm，高度为10mm，通孔直径为3mm。
工装使用时，将主体1和内衬一起安装进坩埚内，坩埚内的压缩气体随通孔排出，工装与坩埚紧密贴合，然后将夹持位夹持在机床上，进行稳定切割，保障产品质量。
实施例2：
一种用于切割坩埚的排气工装，结构如实施例1所述，不同之处在于，主体1直径为120mm，高度为270mm，通孔2的直径为15mm，夹持位3直径为80mm，长度80mm。
实施例3：
一种用于切割坩埚的排气工装，结构如实施例2所述，不同之处在于，通孔2设置于主体1的中心位置，保证通孔2不会被内衬遮挡，保持排气通畅，通孔2直径为40mm，减轻了工装重量，方便固定安装，加强气流的排出。
实施例4：
一种用于切割坩埚的排气工装，结构如实施例1所述，不同之处在于，主体1直径为10mm，高度为22mm，通孔2的直径为5mm，夹持位3的直径9mm，长度为30mm。
实施例5：
一种用于切割坩埚的排气工装，结构如实施例1所述，不同之处在于，主体1直径为300mm，高度为200mm，通孔2直径为50mm，夹持位3的直径为100mm，长度为80mm。
实施例6：
一种用于切割坩埚的排气工装，结构如实施例1所述，不同之处在于，主体1直径为300mm，高度为500mm，通孔2直径为70mm。
1.一种用于切割坩埚的排气工装，其特征在于，包括主体，主体为圆柱体，主体一端中心位置处设置有夹持位，夹持位为圆柱体结构，夹持位直径小于主体直径，主体内设有通孔，通孔贯穿主体和夹持位。
2.如权利要求1所述的用于切割坩埚的排气工装，其特征在于，通孔设置于主体的中心位置。
3.如权利要求1所述的用于切割坩埚的排气工装，其特征在于，主体直径为10-300mm，高度为10-500mm。
4.如权利要求1所述的用于切割坩埚的排气工装，其特征在于，通孔直径为3-70mm。
技术总结