本实用新型实施例涉及显示技术领域，尤其涉及一种显示面板及显示装置。
背景技术：
有机发光二极管(organiclightemittingdiode，oled)显示面板是一种自发光显示面板，oled显示面板由于具有轻薄、高亮度、宽视角、高响应速度以及宽使用温度范围等优点而越来越多地被应用于各种高性能显示领域中。
现有的oled显示面板存在耐弯折性较差的问题。
技术实现要素：
本实用新型提供一种显示面板及显示装置，以提高显示面板的耐弯折性。
第一方面，本实用新型实施例提供了一种显示面板，包括：
基板、设置于基板上的有机发光结构以及设置于所述有机发光结构远离所述基板一侧的光取出层；
还包括薄膜封装层，所述薄膜封装层设置于所述光取出层远离所述基板的表面；所述薄膜封装层包括与所述光取出层接触的第一无机层，所述第一无机层至少包括依次层叠设置的第一子无机层、第二子无机层和第三子无机层，所述第一子无机层与所述光取出层接触，所述第一子无机层的折射率小于所述第二子无机层和所述第三子无机层的折射率，且所述第一子无机层的折射率小于所述光取出层的折射率。
可选的，所述第一子无机层的折射率为1.45-1.5。
可选的，所述第一子无机层采用的材料包括氧化硅。
可选的，所述第二子无机层采用的材料包括sinaob或sin，所述第三子无机层采用的材料包括sincod，其中，a、b、c和d为正整数，且a/b＞c/d。
可选的，0.6≤a/b≤1.5，0.2≤c/d<0.6。
可选的，所述薄膜封装层还包括有机层和第二无机层，所述有机层设置于所述第一无机层和所述第二无机层之间，且所述第二无机层层设置于所述有机层远离所述光取出层的一侧。
可选的，所述第二无机层采用的材料包括sin。
可选的，所述第一子无机层的厚度范围为10微米-200微米，所述第二子无机层的厚度范围为500微米-1200微米，所述第三子无机层的厚度范围为50微米-200微米。
可选的，所述有机发光结构包括第一电极、第二电极以及设置于所述第一电极和所述第二电极之间的发光功能层；所述第一电极设置于所述发光功能层邻近所述光取出层的一侧。
第二方面，本实用新型实施例还提供了一种显示装置，包括本实用新型任意实施例所述的显示面板。
本实用新型实施例去除光取出层与薄膜封装层之间的lif层，保证显示面板具有较高的耐弯折性。同时设置薄膜封装层的第一无机层包括第一子无机层、第二子无机层和第三子无机层，第一子无机层的折射率小于第二子无机层和第三子无机层的折射率，且第一子无机层的折射率小于光取出层的折射率，使得第一子无机层与光取出层具有较大的折射率差异，使得第一子无机层与光取出层之间的反射界面具有较强的反射作用，保证调节光取出层的厚度可以调节显示面板的视角及亮度衰减的作用，保证显示面板具有较好的显示效果。
附图说明
图1是本实施例提供的一种显示面板的示意图；
图2是本实施例提供的一种显示装置的示意图。
具体实施方式
下面结合附图和实施例对本实用新型作进一步的详细说明。可以理解的是，此处所描述的具体实施例仅仅用于解释本实用新型，而非对本实用新型的限定。另外还需要说明的是，为了便于描述，附图中仅示出了与本实用新型相关的部分而非全部结构。
正如背景技术中提到的现有的显示面板存在耐弯折性较差的问题，发明人经过研究发现出现这种问题的原因在于显示面板中存在易碎的膜层，例如lif层，导致显示面板经多次弯折后容易出现某些膜层破碎，影响显示面板的显示效果。
基于上述问题，本申请提供了一种显示面板，图1是本实施例提供的一种显示面板的示意图，参考图1，该显示面板包括：
基板10、设置于基板10上的有机发光结构20以及设置于有机发光结构20远离基板10一侧的光取出层30；
还包括薄膜封装层40，薄膜封装层40设置于光取出层30远离基板10的表面；薄膜封装层40包括与光取出层30接触的第一无机层41，第一无机层41至少包括依次层叠设置的第一子无机层411、第二子无机层412和第三子无机层413，第一子无机层411与光取出层30接触，第一子无机层411的折射率小于第二子无机层412和第三子无机层413的折射率，且第一子无机层411的折射率小于光取出层30的折射率。
其中，基板10是驱动有机发光结构20发光的阵列基板，基板10包括显示区和非显示区，显示区实现显示面板的画面显示，非显示区对应的区域不呈现画面。基板10可包括衬底、缓冲层以及薄膜晶体管(thin-filmtransistor，tft)。
有机发光结构20形成在tft上，有机发光结构20和tft均位于基板10的显示区内。有机发光结构20通常包括第一电极21、第二电极22以及设置于第一电极21和第二电极22之间的发光功能层23；第一电极21设置于发光功能层23邻近光取出层30的一侧。第二电极22(阳极)通过接触孔电连接(或结合)到tft的源电极或漏电极。如果在第一电极21和第二电极22之间施加电压，则发光功能层23发射可见光，从而实现能被使用者识别的图像。其中，发光功能层23可以包括电子注入层、电子传输层、有机发光层、空穴传输层和空穴注入层等膜层。光取出层30用于调节显示面板的出光率。薄膜封装层40用于保护有发光结构20以及显示面板中其它膜层免受湿气和氧气的影响。
具体的，现有技术中光取出层30和薄膜封装层40之间设置有lif层，发明人通过研究发现lif层材料脆且易碎，在数十万的弯折次数下，该膜层可能会出现断裂破碎，易造成膜层损伤及剥离，导致显示面板的耐弯折性能较差。本实施例去除光取出层30与薄膜封装层40之间的lif层，保证显示面板具有较高的耐弯折性。同时设置薄膜封装层40的第一无机层41包括第一子无机层411、第二子无机层412和第三子无机层413，第一子无机层411的折射率小于第二子无机层412和第三子无机层413的折射率，且第一子无机层411的折射率小于光取出层30的折射率，使得第一子无机层411与光取出层30具有较大的折射率差异，使得第一子无机层411与光取出层30之间的反射界面具有较强的反射作用，保证调节光取出层30的厚度可以调节显示面板的视角及亮度衰减的作用，保证显示面板具有较好的显示效果。
可选的，第一子无机层411的折射率为1.45-1.5。
具体的，光取出层30的折射率一般为1.95左右，通过设置第一子无机层411的折射率为1.45-1.5，保证了第一子无机层411与光取出层30具有较大的折射率差异，使得第一子无机层411与光取出层30之间的反射界面具有较强的反射作用，保证调节光取出层30的厚度可以调节显示面板的视角及亮度衰减的作用，保证显示面板具有较好的显示效果。
可选的，第一子无机层411采用的材料包括氧化硅。
具体的，由于氧化硅具有较好的水氧阻隔性，设置第一子无机层411采用的材料包括氧化硅可以保证薄膜封装层40具有较好的水氧阻隔性能。
可选的，第二子无机层412采用的材料包括sinaob或sin，第三子无机层413采用的材料包括sincod，其中，a、b、c和d为正整数，且a/b＞c/d。
具体的，氮氧化硅中氧含量越高，有机材料在氮氧化硅材料表面的接触流平性越好，在氮氧化硅材料表面形成的有机层的平坦度越高。通过设置第三子无机层413采用sincod，氮氧比c/d采用较小的值，在保证第三子无机层413能够给较好的阻隔水氧的同时，保证第三子无机层413表面形成有机层时，有机层具有较高的平坦度。
此外，氮氧化硅中氮含量越高，氮氧化硅材料的阻水阻氧特性越好，通过设置第二子无机层412采用sinaob，氮氧比a/b采用较大的值，或者第二子无机层412采用sin，保证第二子无机层412具有较好的阻水阻氧特性，保证第一无机层41具有较好的阻水阻氧特性，从而保证薄膜封装层40具有较好的水氧阻隔性能。
本实施例通过设置第一无机层41包括第一子无机层411、第二子无机层412和第三子无机层413，第一子无机层411采用氧化硅材料，保证第一子无机层411的折射率与光取出层30的折射率具有较大的差异，保证光取出层30具有较高的调光作用，第二子无机层412采用氮化硅或氮氧比较高的氮氧化硅保证第二子无机层412具有较好的阻水阻氧特性，从而保证薄膜封装层40具有较好的阻水阻氧特性，保证显示面板具有较高的封装可靠性，第三子无机层413采用氮氧比较低的氮氧化硅，保证第三子无机层413具有较好的接触流平性，从而保证形成与第三子无机层413表面的有机层具有较好的平坦性。
可选的，0.6≤a/b≤1.5，0.2≤c/d<0.6。
具体的，sinaob中氮氧比太低时氮含量较少，容易导致第二子无机层422阻水阻氧性较差，影响薄膜封装层40的封装特性，sinaob中氮氧比太高时氧含量过低，制备工艺较难，通过设置0.6≤a/b≤1.5，保证第二子无机层422具有较好的阻水阻氧特性的同时降低了第二子无机层412的制备工艺难度。
sincod中氮含量过高影响有机材料在sincod材料表面的接触流平性，氮含量过低制备工艺较难，通过设置0.2≤c/d<0.6，保证第三子无机层413具有较好的接触流平性的同时，降低了第三子无机层413的制备工艺难度。
此外，可以采用化学气相沉积法制备第一子无机层411、第二子无机层412和第三子无机层413，通过调节n2/n2o气体流入量，来调节氮氧比。
可选的，薄膜封装层40还包括有机层42和第二无机层43，有机层42设置于第一无机层41和第二无机层43之间，且第二无机层43设置于有机层42远离光取出层30的一侧。
具体的，无机材料具有较好的阻水阻氧性，第一无机层41和第二无机层43用于阻挡水氧，有机材料具有较好的缓冲作用，有机层42用于缓冲第一无机层41和第二无机层43之间的应力，避免由于弯折带来应力集中。通过设置薄膜封装层40包括第一无机层、有机层42和第二无机层43，保证薄膜封装层40具有较好的阻水阻氧特性的同时，保证薄膜封装层40具有较好的耐弯折性能。
需要说明的是，本实施例仅示例性的示出薄膜封装层40包括第一无机层41、有机层42和第二无机层43三层膜层，并非对本实用新型的限定，在其他实施方式中，薄膜封装层40还可以包括多层有机层42和多层第二无机层43，有机层42和第二无机层43交替设置，例如薄膜封装层40可以包括层叠设置的第一无机层41、有机层42、第三无机层43、有机层42和第三无机层43。
可选的，第二无机层43采用的材料包括sin。
具体的，sin具有较好的阻水阻氧性能，第二无机层43采用sin，保证第二无机层43具有较好的阻水阻氧特性，从而保证薄膜封装层40具有较好的水氧阻隔性能。
可选的，第一子无机层411的厚度范围为10微米-200微米，第二子无机层412的厚度范围为500微米-1200微米，第三子无机层413的厚度范围为50微米-200微米。
具体的，第一子无机层411主要起到增强与光取出层30之间的反射的作用，其厚度太小对工艺要求太高，厚度太大不利于显示面板的轻薄化，设置第二子无机层412的厚度范围为10微米-200微米，在降低工艺难度的同时，保证显示面板具有较小的厚度，符合显示面板的轻薄化的发展趋势。
第二子无机层412主要起阻隔水氧的作用，第二子无机层412厚度太薄对水氧的阻隔作用较小，第二子无机层412的厚度太大不利于显示面板的轻薄化，设置第二子无机层412的厚度范围为500微米-1200微米，在保证第二子无机层412具有较好的阻隔水氧特性，保证显示面板具有较好的封装效果的同时，保证显示面板具有较小的厚度，符合显示面板的轻薄化的发展趋势。
第三子无机层413主要用于保证有机层42具有较高的平坦度，第三子无机层413的厚度太小对工艺要求太高，厚度太大不利于显示面板的轻薄化，设置第三子无机层413厚度范围为50微米-200微米，在降低工艺难度的同时，保证显示面板具有较小的厚度，符合显示面板的轻薄化的发展趋势。
本实施例还提供了一种显示装置，图2是本实施例提供的一种显示装置的示意图，参考图2，显示装置200包括本实用新型任意实施例所述的显示面板100。显示装置200可以为手机、平板或智能手表等柔性电子设备。
本实施例的显示装置200通过去除显示面板100中光取出层与薄膜封装层之间的lif层，保证显示面板具有较高的耐弯折性。同时设置薄膜封装层的第一无机层包括第一子无机层、第二子无机层和第三子无机层，第一子无机层的折射率小于第二子无机层和第三子无机层的折射率，且第一子无机层的折射率小于光取出层的折射率，使得第一子无机层与光取出层具有较大的折射率差异，使得第一子无机层与光取出层之间的反射界面具有较强的反射作用，保证调节光取出层的厚度可以调节显示面板的视角及亮度衰减的作用，保证显示装置200具有较好的显示效果。
注意，上述仅为本实用新型的较佳实施例及所运用技术原理。本领域技术人员会理解，本实用新型不限于这里所述的特定实施例，对本领域技术人员来说能够进行各种明显的变化、重新调整、相互结合和替代而不会脱离本实用新型的保护范围。因此，虽然通过以上实施例对本实用新型进行了较为详细的说明，但是本实用新型不仅仅限于以上实施例，在不脱离本实用新型构思的情况下，还可以包括更多其他等效实施例，而本实用新型的范围由所附的权利要求范围决定。
1.一种显示面板，其特征在于，包括：
基板、设置于基板上的有机发光结构以及设置于所述有机发光结构远离所述基板一侧的光取出层；
还包括薄膜封装层，所述薄膜封装层设置于所述光取出层远离所述基板的表面；所述薄膜封装层包括与所述光取出层接触的第一无机层，所述第一无机层至少包括依次层叠设置的第一子无机层、第二子无机层和第三子无机层，所述第一子无机层与所述光取出层接触，所述第一子无机层的折射率小于所述第二子无机层和所述第三子无机层的折射率，且所述第一子无机层的折射率小于所述光取出层的折射率。
2.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于：
所述第一子无机层的折射率为1.45-1.5。
3.根据权利要求2所述的显示面板，其特征在于：
所述第一子无机层采用的材料包括氧化硅。
4.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于：
所述第二子无机层采用的材料包括sinaob或sin，所述第三子无机层采用的材料包括sincod，其中，a、b、c和d为正整数，且a/b＞c/d。
5.根据权利要求4所述的显示面板，其特征在于：
0.6≤a/b≤1.5，0.2≤c/d<0.6。
6.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于：
所述薄膜封装层还包括有机层和第二无机层，所述有机层设置于所述第一无机层和所述第二无机层之间，且所述第二无机层层设置于所述有机层远离所述光取出层的一侧。
7.根据权利要求6所述的显示面板，其特征在于：
所述第二无机层采用的材料包括sin。
8.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于：
所述第一子无机层的厚度范围为10微米-200微米，所述第二子无机层的厚度范围为500微米-1200微米，所述第三子无机层的厚度范围为50微米-200微米。
9.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于：
所述有机发光结构包括第一电极、第二电极以及设置于所述第一电极和所述第二电极之间的发光功能层；所述第一电极设置于所述发光功能层邻近所述光取出层的一侧。
10.一种显示装置，其特征在于，包括权利要求1-9任一项所述的显示面板。
技术总结