本实用新型涉及纳米晶片加工技术领域，尤其涉及一种高性能纳米晶材料加工系统。
背景技术：
金属在制备的过程中，如果在它的凝固过程中，用一个超快的冷却速度冷却，这个时候原子在杂乱无序的状态，还来不及重新排列就会瞬间被冻结，这时候形成的结构就是非晶态。纳米晶是在非晶态的基础上，通过特殊的热处理，让它形成晶核并长大，但要控制晶粒大小在纳米级别，不要形成完全的晶体，这时形成的结构就是纳米晶。
磁性材料是电子电力领域中一种重要的功能材料，可以实现能量的转换存储等特殊的功能，所以被广泛地应用于汽车、电子器件等行业中。其中，软磁材料因具有低矫顽力、高磁导率的特点受到广泛关注。纳米晶和钴基非晶、铁氧体相比，它具有饱和磁感高，可以减小磁性器件体积。磁导率高，损耗小，矫顽力小，可以降低磁性器件损耗，因此，纳米晶合金是高频电力电子应用中的最佳软磁材料。
现有的纳米晶片一般具有多层结构，其加工方法工艺不够精细，容易导致纳米晶片的断裂。对纳米晶片的加工、运输、使用都产生一定的影响，良品率很低。多层的结构，一把采用一层胶一层晶片的结构，饱和磁感应强度没有更进一步增高，同时制作步骤复杂，实施困难，在实际应用中，比如无线充电，半导体材料等，通常需要对纳米晶带材进行绝缘处理，过程复杂，且不易控制。另外一种方式则需要对隔磁片结构进行精确控制，结构复杂，并且需要对纳米晶进行碎片化处理，容易导致后期产品性能不稳定，所以纳米晶的结构问题，加工问题，绝缘问题以及饱和磁感应强度问题，已经成为了研究重点，急需解决，同时很少有一种对纳米晶的结构、性能、加工、应用结合考虑的研究，同时对于次品只是进行了废弃，不进行进一步处理，浪费了资源。而且现有的制作系统和方法也制约了纳米晶材料的发展。不能快速高效的制作纳米晶材料。因此，越来越需要研究一种高性能纳米晶材料加工系统和加工方法，改进现有的纳米的结构，把常规的多层结构进行结构变化，变成新型多体结构；增加隔磁的功能以及改变隔磁的加工方法，保证加工简单，可行，同时提高隔磁效果；提高饱和磁感应强度以及处理手段，保证纳米晶更高的饱和磁感应强度。保证纳米晶了高性能，提高其在高频电力电子领域的应用，有利于在无线充电领域的广泛应用。纳米晶在结构、性能、加工、应用的结合，同时，对次品或者废品进行回收再利用，有利于研发成本的降低，减少了研发的时间。
技术实现要素：
本实用新型的目的是为了解决现有技术中存在的缺点，而提出的一种高性能纳米晶材料加工系统。
为了实现上述目的，本实用新型采用了如下技术方案：一种高性能纳米晶材料加工系统，该加工系统包括主控设备、纳米晶合成设备、结构加工设备、防磁加工设备、分离设备、材料检测设备、成品检测设备、氮气保护设备所述主控设备分别与纳米晶合成设备、结构加工设备、防磁加工设备、氮气保护设备、材料检测设备、成品检测设备以及分离设备连接。
作为上述技术方案的进一步描述：
所述纳米晶合成设备分别与结构加工设备、氮气保护设备、材料检测设备、分离设备相连接。
作为上述技术方案的进一步描述：
所述结构加工设备分别与成品检测设备、分离设备、防磁加工设备相连。
作为上述技术方案的进一步描述：
所述防磁加工设备与分离设备相连。
本实用新型具有如下有益效果：
1、本实用新型采用了一种高性能纳米晶材料加工系统，该系统可以改进现有的纳米晶材料结构，把常规的多层结构进行结构变化，变成新型多体结构；增加隔磁的功能，保证加工简单，可行，同时提高隔磁效果，提高饱和磁感应强度以及处理手段，保证纳米晶更高的饱和磁感应强度，保证纳米晶了高性能，提高其在高频电力电子领域的应用，有利于在无线充电领域的广泛应用，纳米晶在结构、性能、加工、应用的结合，同时，对次品或者废品进行回收再利用，同时新型的纳米晶材料制作系统，有利于研发成本的降低，减少了研发的时间。
2、本实用新型采用了一种高性能纳米晶材料加工系统，集成了智能的加工方法和控制方式，保证了纳米晶材料的加工及合成的智能化，提高了合成的成品率，减少了劳动力，保证了加工的速度，同时可以按照需求加工，有利于降地研发成本。
附图说明
图1为本实用新型提出的一种高性能纳米晶材料加工系统的结构示意图。
图例说明：
1、主控设备；2、纳米晶合成设备；3、结构加工设备；4、防磁加工设备；5、分离设备；6、材料检测设备；7、成品检测设备；8、氮气保护设备。
具体实施方式
下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。
在本实用新型的描述中，需要说明的是，术语“中心”、“上”、“下”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制；术语“第一”、“第二”、“第三”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性，此外，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本实用新型中的具体含义。
参照图1，本实用新型提供的一种实施例：一种高性能纳米晶材料加工系统，该加工系统包括主控设备1、纳米晶合成设备2、结构加工设备3、防磁加工设备4、分离设备5、材料检测设备6、成品检测设备7、氮气保护设备8，主控设备1分别与纳米晶合成设备2、结构加工设备3、防磁加工设备4、氮气保护设备8、材料检测设备6、成品检测设备7以及分离设备5连接，主控设备1用于控制整个纳米晶材料的制作、多体结构的合成、防磁材料的加工，以及各种保护和数据的检测等，保证了高性能纳米晶体材料的质量和成品率，提升了纳米晶体的制作速度，增加了设备的智能化，主控设备1内端集成了单层新型纳米晶材料、新型结构纳米晶材料以及防磁纳米晶材料的加工方法和系统控制方式，保证了纳米晶材料的加工及合成的智能化，提高了合成的成品率，减少了劳动力，保证了加工的速度，同时可以按照需求加工，有利于降地研发成本；纳米晶合成设备2用于合成新型高性能的纳米晶单层材料，为纳米晶的结构加工做准备，为纳米晶的结构加工做准备，保证了纳米晶材料合成的精度，提高了纳米晶的质量，确保了安全性，有利于批量生产，减少了研发的时间；结构加工设备3用于新型结构纳米晶的加工，降低了操作难度，提高了良品率高，减少了纳米晶的厚度，减少人力成本；防磁加工设备4用于对纳米材料进行防磁加工处理，保证其在半导体，手机等领域的应用，提高了对隔磁片结构进行精确控制，结构复杂，有利于对纳米晶进行碎片化处理，提高了后期产品性能的稳定；氮气保护设备8用于对纳米材料加工，及结构加工和防磁制作时的保护，提高了加工的可靠性，保证了加工过程的安全性；分离设备5用于分离被检测出是残次品或者是不合格的成品，重新分解，回收，利用再加工，节约了研发的成本；材料检测设备6及成品检测设备7用于对新型纳米晶材料及成品进行检测，保证了材料的合格率，提高了多层晶体材料及防磁纳米晶的成品率。
纳米晶合成设备2分别与结构加工设备3、氮气保护设备8、材料检测设备6、分离设备5相连接，结构加工设备3分别与成品检测设备7、分离设备5、防磁加工设备4相连，防磁加工设备4与分离设备5相连。
工作原理：工作时首先将系统初始化，即各个设备都要进行初始化状态比如数据归零，然后通过主控设备1设定要进行的制作步骤，系统可以根据要求，制作出纳米晶材料，新型结构纳米晶以及防磁纳米晶，如果只制作新型的纳米晶材料，则只需要纳米晶合成设备2工作，纳米晶合成设备2加工出的新型的纳米晶材料经过材料检测设备6检测，合格则定义为成品，或者进行到结构加工设备3备用，如果不符合要求，则进入分离设备5，把材料分离出来，继续进入纳米晶合成设备2作为原料；当需要制作新型结构的纳米晶材料时，结构加工设备3工作将新型的纳米晶材料加工成新型结构的纳米晶材料，再经过成品检测设备7检测，合格则定义为成品，或者进入到防磁加工设备4中备用，不合格则进入分离设备5，把材料分离出来，继续进入纳米晶合成设备2作为原料当需要制作防磁纳米晶材料时，防磁加工设备4将新型结构的纳米晶材料加工成纳米晶隔磁片，并对其进行检测，合格则定义为成品，不合格则通入分离设备5中把材料分离出来，继续进入纳米晶合成设备2作为原料。
最后应说明的是：以上所述仅为本实用新型的优选实施例而已，并不用于限制本实用新型，尽管参照前述实施例对本实用新型进行了详细的说明，对于本领域的技术人员来说，其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换，凡在本实用新型的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。
1.一种高性能纳米晶材料加工系统，其特征在于：该加工系统包括主控设备(1)、纳米晶合成设备(2)、结构加工设备(3)、防磁加工设备(4)、分离设备(5)、材料检测设备(6)、成品检测设备(7)、氮气保护设备(8)，所述主控设备(1)分别与纳米晶合成设备(2)、结构加工设备(3)、防磁加工设备(4)、氮气保护设备(8)、材料检测设备(6)、成品检测设备(7)以及分离设备(5)连接。
2.根据权利要求1所述的一种高性能纳米晶材料加工系统，其特征在于：所述纳米晶合成设备(2)分别与结构加工设备(3)、氮气保护设备(8)、材料检测设备(6)、分离设备(5)相连接。
3.根据权利要求1所述的一种高性能纳米晶材料加工系统，其特征在于：所述结构加工设备(3)分别与成品检测设备(7)、分离设备(5)、防磁加工设备(4)相连。
4.根据权利要求1所述的一种高性能纳米晶材料加工系统，其特征在于：所述防磁加工设备(4)与分离设备(5)相连。
技术总结