本发明涉及一种平滑釉面砖及其生产工艺。
背景技术：
中国近年来房地产业的空前发展，紧紧围绕着房产伴生的建筑墙、地瓷砖市场需求巨大。随着中国陶瓷生产工艺和技术的迅猛发展，瓷砖市场个性化产品突出，产品发展开始趋向高端。现在中国瓷砖企业在瞄准高端市场，强调调整产品结构和提高产品附加值的同时，还兼顾行业的整体利益，通过努力提高产品技术含量、加大自主创新、培育自主品牌等措施，实现可持续发展，随着个人收入和欣赏品位的提高，中高端瓷砖产品需求不断扩大。另外随着基础设施改造、居民住房建设的投资日益增加、伴随gdp的稳步增长，普通民众的收入也不断增加，且开始讲究装饰住房，瓷砖等建材商品需求日益上升，未来瓷砖市场前景广阔。
镜面亮光釉面砖因表面反光效果好、营造干净明亮效果佳，加上色彩图案丰富、清洁方便等优点，在装饰市场越来越受消费者追捧。
目前市面上的镜面亮光釉面砖因是采用低吸水率生料釉一次烧成的生产工艺，所以亮光釉釉面始终会有细毛孔及个别大针孔或坯泡，而且目前窑炉烧成时间较短，坯体原料成分改变余地不大的前提下都不利于釉面质量以及平滑度的改善。
技术实现要素：
本发明所要解决的技术问题是克服现有技术的不足，提供了一种表面平整光滑的平滑釉面砖及其生产工艺。
本发明中的平滑釉面砖，包括砖体，所述砖体外依次施喷有高温底釉以及面釉，所述高温底釉按百分比算，包含以下组分：钾长石37%-50%，硅酸锆1%-8%，高岭土10%-15%，石英13%-18%，烧滑石1%-5%，黑泥粉10%-13%，氧化铝3%-8%；所述面釉按百分比算，包含以下组分：钾长石40%-55%，方解石18%-25%，烧滑石7%-13%，硅酸锆5%-17%，石英1%-10%，，黑泥粉8%-10%，氧化铝1%-5%。
进一步地，所述底釉按百分比算，包含以下组分：锂瓷石34%，钾长石7%，硅酸锆9%，高岭土7%，石英16%，烧滑石4%，黑泥粉9%，氧化铝9%，碳酸钡5%；所述表面防滑点釉按百分比算，包含以下组分：锂瓷石27%，钾长石16%，硅酸锆8%，高岭土13%，石英11%，烧滑石4%，黑泥粉9%，氧化铝12%。
本发明中用于生产上述平滑釉面砖的工艺，包括以下步骤：
a.将高温底釉的组分原料进行球磨过筛以及除铁，得到底釉浆；
b.将面釉的组分原料进行球磨过筛以及除铁，得到面釉浆；
c.将步骤a以及步骤b所得底釉浆以及面釉浆进行调试；
d．控制砖体坯体的吸水率；
e.对砖坯体施喷完成调试的底釉；
f.对步骤c完成底釉施喷的砖坯体施喷完成调试的面釉；
g.将完成面釉施釉的砖坯体进行烧制。
本发明的有益效果在于：本发明中利用高温底釉阻隔坯体高温反应产生气体向釉中排入而引起釉面针孔缺陷，减少坯本身排放气体量，保持釉面的平整，底釉层的平整同时保证面釉的平整光滑。
具体实施方式
本发明中的平滑釉面砖，包括砖体，所述砖体外依次施喷有高温底釉以及面釉，所述高温底釉按百分比算，包含以下组分：钾长石37%-50%，硅酸锆1%-8%，高岭土10%-15%，石英13%-18%，烧滑石1%-5%，黑泥粉10%-13%，氧化铝3%-8%；所述面釉按百分比算，包含以下组分：钾长石40%-55%，方解石18%-25%，烧滑石7%-13%，硅酸锆5%-17%，石英1%-10%，，黑泥粉8%-10%，氧化铝1%-5%。
在本具体实施例中，所述底釉按百分比算，包含以下组分：锂瓷石34%，钾长石7%，硅酸锆9%，高岭土7%，石英16%，烧滑石4%，黑泥粉9%，氧化铝9%，碳酸钡5%；所述表面防滑点釉按百分比算，包含以下组分：锂瓷石27%，钾长石16%，硅酸锆8%，高岭土13%，石英11%，烧滑石4%，黑泥粉9%，氧化铝12%。
本发明中用于生产上述平滑釉面砖的工艺，包括以下步骤：
a.将高温底釉的组分原料进行球磨过筛以及除铁，得到底釉浆；
b.将面釉的组分原料进行球磨过筛以及除铁，得到面釉浆；
c.将步骤a以及步骤b所得底釉浆以及面釉浆进行调试；
d．控制砖体坯体的吸水率；
e.对砖坯体施喷完成调试的底釉；
f.对步骤c完成底釉施喷的砖坯体施喷完成调试的面釉；
g.将完成面釉施釉的砖坯体进行烧制。
在本具体实施例中，砖坯体原材料选用炎陵钾砂、衡阳钠砂以及衡南白泥等有机质、氧化铁及碳酸盐含量偏低的原材料。砖坯体的吸水率控制在0.1-0.3%范围内，面釉比重1.65-1.67g/cm³，釉量4.0-4.5g/砖片，底釉比重1.38-1.40g/cm³，釉量2.2-2.5g/砖片，其中砖片的规格为45x95cm规格。
本发明适用于平滑釉面砖的生产加工领域。
1.一种平滑釉面砖，包括砖体，其特征在于，所述砖体外依次施喷有高温底釉以及面釉，所述高温底釉按百分比算，包含以下组分：钾长石37%-50%，硅酸锆1%-8%，高岭土10%-15%，石英13%-18%，烧滑石1%-5%，黑泥粉10%-13%，氧化铝3%-8%；所述面釉按百分比算，包含以下组分：钾长石40%-55%，方解石18%-25%，烧滑石7%-13%，硅酸锆5%-17%，石英1%-10%，，黑泥粉8%-10%，氧化铝1%-5%。
2.根据权利要求1所述的一种平滑釉面砖，其特征在于，所述高温底釉按百分比算，包含以下组分：钾长石45%，硅酸锆5%，高岭土13%，石英15%，烧滑石3%，黑泥粉12%，氧化铝7%；所述面釉按百分比算，包含以下组分：钾长石48%，方解石20%，烧滑石9%，硅酸锆9%，石英3%，黑泥粉9%，氧化铝2%。
3.一种用于生产权利要求1或2所述的一种平滑釉面砖的工艺，其特征在于，包括以下步骤：
a.将高温底釉的组分原料进行球磨过筛以及除铁，得到底釉浆；
b.将面釉的组分原料进行球磨过筛以及除铁，得到面釉浆；
c.将步骤a以及步骤b所得底釉浆以及面釉浆进行调试；
d．控制砖体坯体的吸水率；
e.对砖坯体施喷完成调试的底釉；
f.对步骤c完成底釉施喷的砖坯体施喷完成调试的面釉；
g.将完成面釉施釉的砖坯体进行烧制。
技术总结