本发明涉及玻璃生产
技术领域：
，具体涉及一种耐高温低辐射镀膜玻璃及其制造方法。
背景技术：
：镀膜玻璃因其具有高密度的化学特性，还具有光泽度高、抗氧化、耐酸碱、抗紫外线等优点，漆面镀膜后，还能将玻璃与外界隔绝开来，起到了很好的保护作用，因此，镀膜玻璃广受欢迎，被应用在各个领域。然而，镀膜玻璃的表面容易划破、磨损，影响其使用；并且随着应用场景的变化，镀膜玻璃在高温/低温处理时，性质也容易发生变化；此外，随着近年来各行各业的发展，随着镀膜玻璃在多个行业的应用，对其性能也提出了更高的要求，这也就要求镀膜玻璃的结构及制造方法要与时俱进，不断地进行更新，以便更好地应用及推广。技术实现要素：针对上述存在的问题，本发明的目的是提供一种耐高温、低辐射、结构简单、制作简便的镀膜玻璃，以及其制造方法。为实现本发明的目的，采用如下技术方案：一种耐高温低辐射镀膜玻璃，包括玻璃基板以及自下而上依次设置在玻璃基板表面的第一介质层、至少一个功能层、第二介质层和介质保护层，所述功能层包括自下而上依次设置的第一耐高温阻燃膜层、第一防护膜层、低辐射功能膜层、第二防护膜层、第二耐高温阻燃膜层，所述第一介质层与相邻功能层的第一耐高温阻燃膜层连接，所述第二介质层与相邻功能层的第二耐高温阻燃膜层连接，相邻的所述功能层之间通过中间介质层连接。优选的，所述第一介质层/第二介质层/中间介质层为tiox层。优选的，所述介质保护层为氮化硅锆层。优选的，所述介质保护层中还含有cr3 和cr6 ，cr3 和cr6 可以增强保护层的稳定性，增强产品的环境适应能力。优选的，所述第一耐高温阻燃膜层和第二耐高温阻燃膜层为掺杂了zrb2的锌铝氧化物层，提高了玻璃的耐高温性能和强度。优选的，所述第一防护膜层和第二防护膜层为nicrox层，起到对低辐射功能膜层的保护，防止其氧化。优选的，所述低辐射功能膜层为包括nicr、ag、agcu或zno中一种或多种材料的膜层。优选的，所述玻璃基板的厚度为5-12mm；所述第一介质层的厚度为8-25nm；所述第二介质层的厚度为25-50nm；所述介质保护层的厚度为15-35nm；所述第一耐高温阻燃膜层的厚度为8-18nm；所述第一防护膜层的厚度为1-6nm；所述低辐射功能膜层的厚度为6-12nm；所述第二防护膜层的厚度为2-12nm；所述第二耐高温阻燃膜层的厚度为30-60nm。为达上述目的，本发明还提供一种耐高温低辐射镀膜玻璃的制造方法，包括以下步骤：步骤s1：选材及裁切：选择厚度为5-12mm的玻璃基板，按照预定尺寸裁切成一定大小的玻璃片；步骤s2：清洗：用有机溶剂对玻璃基板的表面进行润湿、渗透及超声清洗，然后除去有机溶剂；步骤s3：漂洗：添加纯水，对玻璃基板的表面进行超声冲洗，使步骤s2清洗后残留在玻璃基板表面的有机溶剂溶解、稀释和去除；步骤s4：脱水：将步骤s3漂洗过的玻璃基板烘干，得到洁净的玻璃基板以备用；步骤s5：镀膜：按照溅射层的排列顺序，采用磁控溅射沉积方式，依次在步骤s4得到的干燥后的玻璃基板表面自下而上沉积各镀膜层，即得到耐高温低辐射镀膜玻璃。具体的，步骤s5所述的镀膜过程具体包括以下步骤：步骤s51：将玻璃基板送入镀膜室进行镀膜，设置第一磁控溅射镀膜设备的功率为20-60kw，在玻璃基板上溅射第一层厚度为10nm的第一介质层，即形成tio2层；步骤s52：设置第二磁控溅射镀膜设备的功率为20-45kw，在玻璃基板上溅射第二层厚度为15nm的第一耐高温阻燃膜层，即形成zrb2掺杂的锌铝氧化物层；步骤s53：设置第三磁控溅射镀膜设备的功率为4-5kw，在玻璃基板上溅射第三层厚度为1nm的第一防护膜层，即形成nicrox层；步骤s54：设置第四磁控溅射镀膜设备的功率为5-8kw，在玻璃基板上溅射第四层厚度为10nm的低辐射功能膜层，即形成金属银层；步骤s55：设置第五磁控溅射镀膜设备的功率为5-6kw，在玻璃基板上溅射第五层厚度为3nm的第二防护膜层，即形成nicrox层；步骤s56：设置第六磁控溅射镀膜设备的功率为20-45kw，在玻璃基板上溅射第六层厚度为40nm的第二耐高温阻燃膜层，即形成zrb2掺杂的锌铝氧化物层；步骤s57：设置第七磁控溅射镀膜设备的功率为20-60kw，在玻璃基板上溅射第七层厚度为25nm的第二介质层，即形成tio2层；步骤s58：设置第八磁控溅射镀膜设备的功率为5-12kw，在玻璃基板上溅射第八层厚度为20nm的介质保护层，即形成氮化硅锆层，最终得到耐高温低辐射镀膜玻璃。与现有技术相比，本发明的有益效果是：本发明制备的耐高温低辐射镀膜玻璃，将钛的氧化物作为第一介质层、第二介质层和中间介质层，能增加玻璃可见光的透光性能；设置多层功能层，且功能层内均包含低辐射功能膜层，能显著降低红外线的辐射率，并且在各低辐射功能膜层的两面均设置防护膜层，起到对低辐射功能膜层的保护，防止其氧化，还设置了耐高温阻燃膜层，提高了玻璃的耐高温性能和强度；在玻璃的最外层设置介质保护层，能增强玻璃的稳定性，增强产品的环境适应能力，有效地提高玻璃的实用性；本发明采用磁控溅射沉积方式制备耐高温低辐射镀膜玻璃，整体制备工艺简单，有利于大批量生产及应用，具有实用价值。附图说明图1为本发明一种耐高温低辐射镀膜玻璃的整体结构示意图；图2为本发明一种耐高温低辐射镀膜玻璃的制造方法的整体流程图；图3为本发明中镀膜过程流程图；图中，1-玻璃基板，2-第一介质层，3-功能层，4-第二介质层，5-介质保护层，6-第一耐高温阻燃膜层，7-第一防护膜层，8-低辐射功能膜层，9-第二防护膜层，10-二耐高温阻燃膜层，11-中间介质层。具体实施方式下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。具体实施例1图1为本发明一种耐高温低辐射镀膜玻璃的整体结构示意图，从图中可以看出，本发明的一种耐高温低辐射镀膜玻璃，包括玻璃基板1以及自下而上依次设置在玻璃基板1表面的第一介质层2、两个功能层3、第二介质层4和介质保护层5，该功能层3包括自下而上依次设置的第一耐高温阻燃膜层6、第一防护膜层7、低辐射功能膜层8、第二防护膜层9、第二耐高温阻燃膜层10，且第一介质层2与相邻功能层3的第一耐高温阻燃膜层6连接，第二介质层4与相邻功能层3的第二耐高温阻燃膜层10连接，相邻的功能层3之间通过中间介质层11连接；其中，第一介质层2/第二介质层4/中间介质层11为tiox层，设置钛的氧化物能增加玻璃可见光的透光性能；介质保护层5为氮化硅锆层，且还含有cr3 和cr6 ，能增强玻璃的稳定性，增强产品的环境适应能力，有效地提高玻璃的实用性；第一耐高温阻燃膜层6和第二耐高温阻燃膜层10为掺杂了zrb2的锌铝氧化物层，提高了玻璃的耐高温性能和强度；第一防护膜层7和第二防护膜层9为nicrox层，起到对低辐射功能膜层的保护，防止其氧化；低辐射功能膜层8为包括金属银膜层，能显著降低红外线的辐射率；在本实施例中，玻璃基板1的厚度为5mm；第一介质层2的厚度为8nm；第二介质层4的厚度为25nm；介质保护层5的厚度为15nm；第一耐高温阻燃膜层6的厚度为8nm；第一防护膜层7的厚度为1nm；低辐射功能膜层8的厚度为6nm；第二防护膜层9的厚度为2nm；第二耐高温阻燃膜层10的厚度为30nm。上述耐高温低辐射镀膜玻璃的制造方法，图2为本发明一种耐高温低辐射镀膜玻璃的制造方法的整体流程图，图3为本发明中镀膜过程流程图，从中可以看出，包括以下步骤：步骤s1：选材及裁切：选择厚度为5mm的玻璃基板1，按照预定尺寸裁切成一定大小的玻璃片。步骤s2：清洗：用有机溶剂对玻璃基板1的表面进行润湿、渗透及超声清洗，然后除去有机溶剂。步骤s3：漂洗：添加纯水，对玻璃基板1的表面进行超声冲洗，使步骤s2清洗后残留在玻璃基板表面的有机溶剂溶解、稀释和去除。步骤s4：脱水：将步骤s3漂洗过的玻璃基板1烘干，得到洁净的玻璃基板1以备用。步骤s5：镀膜：按照溅射层的排列顺序，采用磁控溅射沉积方式，依次在步骤s4得到的干燥后的玻璃基板1表面自下而上沉积各镀膜层，即得到耐高温低辐射镀膜玻璃。在本步骤中，具体包括以下步骤：步骤s51：将玻璃基板1送入镀膜室进行镀膜，设置第一磁控溅射镀膜设备的功率为20kw，在玻璃基板1上溅射第一层厚度为8nm的第一介质层2，即形成tio2层；步骤s52：设置第二磁控溅射镀膜设备的功率为20kw，在玻璃基板1上溅射第二层厚度为8nm的第一耐高温阻燃膜层6，即形成zrb2掺杂的锌铝氧化物层；步骤s53：设置第三磁控溅射镀膜设备的功率为4kw，在玻璃基板1上溅射第三层厚度为1nm的第一防护膜层7，即形成nicrox层；步骤s54：设置第四磁控溅射镀膜设备的功率为5kw，在玻璃基板1上溅射第四层厚度为6nm的低辐射功能膜层8，即形成金属银层；步骤s55：设置第五磁控溅射镀膜设备的功率为5kw，在玻璃基板1上溅射第五层厚度为2nm的第二防护膜层9，即形成nicrox层；步骤s56：设置第六磁控溅射镀膜设备的功率为20kw，在玻璃基板1上溅射第六层厚度为30nm的第二耐高温阻燃膜层10，即形成zrb2掺杂的锌铝氧化物层；步骤s57：设置第七磁控溅射镀膜设备的功率为20kw，在玻璃基板1上溅射第七层厚度为25nm的第二介质层4，即形成tio2层；步骤s58：设置第八磁控溅射镀膜设备的功率为5kw，在玻璃基板1上溅射第八层厚度为15nm的介质保护层5，即形成氮化硅锆层，最终得到耐高温低辐射镀膜玻璃。具体实施例2图1为本发明一种耐高温低辐射镀膜玻璃的整体结构示意图，从图中可以看出，本发明的一种耐高温低辐射镀膜玻璃，包括玻璃基板1以及自下而上依次设置在玻璃基板1表面的第一介质层2、两个一个功能层3、第二介质层4和介质保护层5，该功能层3包括自下而上依次设置的第一耐高温阻燃膜层6、第一防护膜层7、低辐射功能膜层8、第二防护膜层9、第二耐高温阻燃膜层10，且第一介质层2与相邻功能层3的第一耐高温阻燃膜层6连接，第二介质层4与相邻功能层3的第二耐高温阻燃膜层10连接，相邻的功能层3之间通过中间介质层11连接；其中，第一介质层2/第二介质层4/中间介质层11为tiox层，设置钛的氧化物能增加玻璃可见光的透光性能；介质保护层5为氮化硅锆层，且还含有cr3 和cr6 ，能增强玻璃的稳定性，增强产品的环境适应能力，有效地提高玻璃的实用性；第一耐高温阻燃膜层6和第二耐高温阻燃膜层10为掺杂了zrb2的锌铝氧化物层，提高了玻璃的耐高温性能和强度；第一防护膜层7和第二防护膜层9为nicrox层，起到对低辐射功能膜层的保护，防止其氧化；低辐射功能膜层8为包括agcu和zno膜层，能显著降低红外线的辐射率；在本实施例中，玻璃基板1的厚度为12mm；第一介质层2的厚度为25nm；第二介质层4的厚度为50nm；介质保护层5的厚度为35nm；第一耐高温阻燃膜层6的厚度为18nm；第一防护膜层7的厚度为6nm；低辐射功能膜层8的厚度为12nm；第二防护膜层9的厚度为12nm；第二耐高温阻燃膜层10的厚度为60nm。上述耐高温低辐射镀膜玻璃的制造方法，图2为本发明一种耐高温低辐射镀膜玻璃的制造方法的整体流程图，图3为本发明中镀膜过程流程图，从中可以看出，包括以下步骤：步骤s1：选材及裁切：选择厚度为12mm的玻璃基板1，按照预定尺寸裁切成一定大小的玻璃片。步骤s2：清洗：用有机溶剂对玻璃基板1的表面进行润湿、渗透及超声清洗，然后除去有机溶剂。步骤s3：漂洗：添加纯水，对玻璃基板1的表面进行超声冲洗，使步骤s2清洗后残留在玻璃基板表面的有机溶剂溶解、稀释和去除。步骤s4：脱水：将步骤s3漂洗过的玻璃基板1烘干，得到洁净的玻璃基板1以备用。步骤s5：镀膜：按照溅射层的排列顺序，采用磁控溅射沉积方式，依次在步骤s4得到的干燥后的玻璃基板1表面自下而上沉积各镀膜层，即得到耐高温低辐射镀膜玻璃。在本步骤中，具体包括以下步骤：步骤s51：将玻璃基板1送入镀膜室进行镀膜，设置第一磁控溅射镀膜设备的功率为60kw，在玻璃基板1上溅射第一层厚度为25nm的第一介质层2，即形成tio2层；步骤s52：设置第二磁控溅射镀膜设备的功率为45kw，在玻璃基板1上溅射第二层厚度为18nm的第一耐高温阻燃膜层6，即形成zrb2掺杂的锌铝氧化物层；步骤s53：设置第三磁控溅射镀膜设备的功率为5kw，在玻璃基板1上溅射第三层厚度为6nm的第一防护膜层7，即形成nicrox层；步骤s54：设置第四磁控溅射镀膜设备的功率为8kw，在玻璃基板1上溅射第四层厚度为12nm的低辐射功能膜层8，即形成金属银层；步骤s55：设置第五磁控溅射镀膜设备的功率为6kw，在玻璃基板1上溅射第五层厚度为12nm的第二防护膜层9，即形成nicrox层；步骤s56：设置第六磁控溅射镀膜设备的功率为45kw，在玻璃基板1上溅射第六层厚度为60nm的第二耐高温阻燃膜层10，即形成zrb2掺杂的锌铝氧化物层；步骤s57：设置第七磁控溅射镀膜设备的功率为60kw，在玻璃基板1上溅射第七层厚度为50nm的第二介质层4，即形成tio2层；步骤s58：设置第八磁控溅射镀膜设备的功率为12kw，在玻璃基板1上溅射第八层厚度为35nm的介质保护层5，即形成氮化硅锆层，最终得到耐高温低辐射镀膜玻璃。具体实施例3图1为本发明一种耐高温低辐射镀膜玻璃的整体结构示意图，从图中可以看出，本发明的一种耐高温低辐射镀膜玻璃，包括玻璃基板1以及自下而上依次设置在玻璃基板1表面的第一介质层2、两个一个功能层3、第二介质层4和介质保护层5，该功能层3包括自下而上依次设置的第一耐高温阻燃膜层6、第一防护膜层7、低辐射功能膜层8、第二防护膜层9、第二耐高温阻燃膜层10，且第一介质层2与相邻功能层3的第一耐高温阻燃膜层6连接，第二介质层4与相邻功能层3的第二耐高温阻燃膜层10连接，相邻的功能层3之间通过中间介质层11连接；其中，第一介质层2/第二介质层4/中间介质层11为tiox层，设置钛的氧化物能增加玻璃可见光的透光性能；介质保护层5为氮化硅锆层，且还含有cr3 和cr6 ，能增强玻璃的稳定性，增强产品的环境适应能力，有效地提高玻璃的实用性；第一耐高温阻燃膜层6和第二耐高温阻燃膜层10为掺杂了zrb2的锌铝氧化物层，提高了玻璃的耐高温性能和强度；第一防护膜层7和第二防护膜层9为nicrox层，起到对低辐射功能膜层的保护，防止其氧化；低辐射功能膜层8为金属银膜层，能显著降低红外线的辐射率；在本实施例中，玻璃基板1的厚度为6mm；第一介质层2的厚度为10nm；第二介质层4的厚度为25nm；介质保护层5的厚度为20nm；第一耐高温阻燃膜层6的厚度为15nm；第一防护膜层7的厚度为1nm；低辐射功能膜层8的厚度为10nm；第二防护膜层9的厚度为3nm；第二耐高温阻燃膜层10的厚度为40nm。一种耐高温低辐射镀膜玻璃的制造方法，图2为本发明一种耐高温低辐射镀膜玻璃的制造方法的整体流程图，图3为本发明中镀膜过程流程图，从中可以看出，包括以下步骤：步骤s1：选材及裁切：选择厚度为6mm的玻璃基板1，按照预定尺寸裁切成一定大小的玻璃片。步骤s2：清洗：用有机溶剂对玻璃基板1的表面进行润湿、渗透及超声清洗，然后除去有机溶剂。步骤s3：漂洗：添加纯水，对玻璃基板1的表面进行超声冲洗，使步骤s2清洗后残留在玻璃基板表面的有机溶剂溶解、稀释和去除。步骤s4：脱水：将步骤s3漂洗过的玻璃基板1烘干，得到洁净的玻璃基板1以备用。步骤s5：镀膜：按照溅射层的排列顺序，采用磁控溅射沉积方式，依次在步骤s4得到的干燥后的玻璃基板1表面自下而上沉积各镀膜层，即得到耐高温低辐射镀膜玻璃。在本步骤中，具体包括以下步骤：步骤s51：将玻璃基板1送入镀膜室进行镀膜，设置第一磁控溅射镀膜设备的功率为50kw，在玻璃基板1上溅射第一层厚度为10nm的第一介质层2，即形成tio2层；步骤s52：设置第二磁控溅射镀膜设备的功率为30kw，在玻璃基板1上溅射第二层厚度为15nm的第一耐高温阻燃膜层6，即形成zrb2掺杂的锌铝氧化物层；步骤s53：设置第三磁控溅射镀膜设备的功率为5kw，在玻璃基板1上溅射第三层厚度为1nm的第一防护膜层7，即形成nicrox层；步骤s54：设置第四磁控溅射镀膜设备的功率为6kw，在玻璃基板1上溅射第四层厚度为10nm的低辐射功能膜层8，即形成金属银层；步骤s55：设置第五磁控溅射镀膜设备的功率为6kw，在玻璃基板1上溅射第五层厚度为3nm的第二防护膜层9，即形成nicrox层；步骤s56：设置第六磁控溅射镀膜设备的功率为35kw，在玻璃基板1上溅射第六层厚度为40nm的第二耐高温阻燃膜层10，即形成zrb2掺杂的锌铝氧化物层；步骤s57：设置第七磁控溅射镀膜设备的功率为50kw，在玻璃基板1上溅射第七层厚度为25nm的第二介质层4，即形成tio2层；步骤s58：设置第八磁控溅射镀膜设备的功率为10kw，在玻璃基板1上溅射第八层厚度为20nm的介质保护层5，即形成氮化硅锆层，最终得到耐高温低辐射镀膜玻璃。具体实施例4对实施例1-3所得到的产品进行性能测试，结果如下表所示：实施例123透光率67％69％71％传热系数1.51.61.8从表格中可以看出，本发明实施例1-3的耐高温低辐射镀膜玻璃及其采用的制造方法所得的耐高温低辐射镀膜玻璃，其透光率均大于67％，传热系数均大于1.5，所制备的镀膜玻璃高温热处理时稳定而不受损坏，具有耐高温、低辐射、高隔热、强阻隔红外线的性能。本发明与现有技术相比，能显著降低红外线的辐射率，增加玻璃可见光的透光性能，所设置的防护膜层，起到对低辐射功能膜层的保护，防止其氧化，所设置的耐高温阻燃膜层提高了玻璃的耐高温性能和强度；介质保护层能增强玻璃的稳定性，增强产品的环境适应能力，有效地提高玻璃的实用性；整体制备工艺简单，有利于大批量生产及应用，具有实用价值。以上所述，仅为本发明的具体实施方式，但本发明的保护范围并不局限于此，任何熟悉该技术的人在本发明所揭露的技术范围内，可理解想到的变换或更替，都应涵盖在本发明的包含范围之内，因此，本发明的保护范围应该以权利要求书的保护范围为准。当前第1页1 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技术特征：1.一种耐高温低辐射镀膜玻璃，其特征在于：包括玻璃基板(1)以及自下而上依次设置在玻璃基板(1)表面的第一介质层(2)、至少一个功能层(3)、第二介质层(4)和介质保护层(5)，所述功能层(3)包括自下而上依次设置的第一耐高温阻燃膜层(6)、第一防护膜层(7)、低辐射功能膜层(8)、第二防护膜层(9)、第二耐高温阻燃膜层(10)，所述第一介质层(2)与相邻功能层(3)的第一耐高温阻燃膜层(6)连接，所述第二介质层(4)与相邻功能层(3)的第二耐高温阻燃膜层(10)连接，且相邻的所述功能层(3)之间通过中间介质层(11)连接。
2.根据权利要求1所述耐高温低辐射镀膜玻璃，其特征在于：所述第一介质层(2)/第二介质层(4)/中间介质层(11)为tiox层。
3.根据权利要求1所述耐高温低辐射镀膜玻璃，其特征在于：所述介质保护层(5)为氮化硅锆层。
4.根据权利要求3所述耐高温低辐射镀膜玻璃，其特征在于：所述介质保护层(5)中还含有cr3 和cr6 。
5.根据权利要求1所述耐高温低辐射镀膜玻璃，其特征在于：所述第一耐高温阻燃膜层(6)和第二耐高温阻燃膜层(10)为掺杂了zrb2的锌铝氧化物层。
6.根据权利要求1所述耐高温低辐射镀膜玻璃，其特征在于：所述第一防护膜层(7)和第二防护膜层(9)为nicrox层。
7.根据权利要求1所述耐高温低辐射镀膜玻璃，其特征在于：所述低辐射功能膜层(8)为包括nicr、ag、agcu或zno中一种或多种材料的膜层。
8.根据权利要求1所述耐高温低辐射镀膜玻璃，其特征在于：所述玻璃基板(1)的厚度为5-12mm；所述第一介质层(2)的厚度为8-25nm；所述第二介质层(4)的厚度为25-50nm；所述介质保护层(5)的厚度为15-35nm；所述第一耐高温阻燃膜层(6)的厚度为8-18nm；所述第一防护膜层(7)的厚度为1-6nm；所述低辐射功能膜层(8)的厚度为6-12nm；所述第二防护膜层(9)的厚度为2-12nm；所述第二耐高温阻燃膜层(10)的厚度为30-60nm。
9.一种耐高温低辐射镀膜玻璃的制造方法，其特征在于：包括以下步骤：
步骤s1：选材及裁切：选择厚度为5-12mm的玻璃基板(1)，按照预定尺寸裁切成一定大小的玻璃片；
步骤s2：清洗：用有机溶剂对玻璃基板(1)的表面进行润湿、渗透及超声清洗，然后除去有机溶剂；
步骤s3：漂洗：添加纯水，对玻璃基板(1)的表面进行超声冲洗，使步骤s2清洗后残留在玻璃基板表面的有机溶剂溶解、稀释和去除；
步骤s4：脱水：将步骤s3漂洗过的玻璃基板(1)烘干，得到洁净的玻璃基板(1)以备用；
步骤s5：镀膜：按照溅射层的排列顺序，采用磁控溅射沉积方式，依次在步骤s4得到的干燥后的玻璃基板(1)表面自下而上沉积各镀膜层，即得到耐高温低辐射镀膜玻璃。
10.根据权利要求9所述耐高温低辐射镀膜玻璃的制造方法，其特征在于：步骤s5所述的镀膜过程具体包括以下步骤：
步骤s51：将玻璃基板(1)送入镀膜室进行镀膜，设置第一磁控溅射镀膜设备的功率为20-60kw，在玻璃基板(1)上溅射第一层厚度为10nm的第一介质层(2)，即形成tio2层；
步骤s52：设置第二磁控溅射镀膜设备的功率为20-45kw，在玻璃基板(1)上溅射第二层厚度为15nm的第一耐高温阻燃膜层(6)，即形成zrb2掺杂的锌铝氧化物层；
步骤s53：设置第三磁控溅射镀膜设备的功率为4-5kw，在玻璃基板(1)上溅射第三层厚度为1nm的第一防护膜层(7)，即形成nicrox层；
步骤s54：设置第四磁控溅射镀膜设备的功率为5-8kw，在玻璃基板(1)上溅射第四层厚度为10nm的低辐射功能膜层(8)，即形成金属银层；
步骤s55：设置第五磁控溅射镀膜设备的功率为5-6kw，在玻璃基板(1)上溅射第五层厚度为3nm的第二防护膜层(9)，即形成nicrox层；
步骤s56：设置第六磁控溅射镀膜设备的功率为20-45kw，在玻璃基板(1)上溅射第六层厚度为40nm的第二耐高温阻燃膜层(10)，即形成zrb2掺杂的锌铝氧化物层；
步骤s57：设置第七磁控溅射镀膜设备的功率为20-60kw，在玻璃基板(1)上溅射第七层厚度为25nm的第二介质层(4)，即形成tio2层；
步骤s58：设置第八磁控溅射镀膜设备的功率为5-12kw，在玻璃基板(1)上溅射第八层厚度为20nm的介质保护层(5)，即形成氮化硅锆层，最终得到耐高温低辐射镀膜玻璃。
技术总结本发明涉及玻璃生产技术领域，具体涉及一种耐高温低辐射镀膜玻璃，包括玻璃基板以及自下而上依次设置在玻璃基板表面的第一介质层、至少一个功能层、第二介质层和介质保护层，所述功能层包括自下而上依次设置的第一耐高温阻燃膜层、第一防护膜层、低辐射功能膜层、第二防护膜层、第二耐高温阻燃膜层，所述第一介质层与相邻功能层的第一耐高温阻燃膜层连接，所述第二介质层与相邻功能层的第二耐高温阻燃膜层连接，相邻的所述功能层之间通过中间介质层连接；所制备的镀膜玻璃能显著降低红外线的辐射率，增加可见光的透光性能，还提高了玻璃耐高温性能，本发明还提供其制造方法，整体制备工艺简单，有利于大批量生产及应用。
技术研发人员：倪植森;张少波;陈诚;杨金发;彭程;许波;钟汝梅;李俊琛;邵帅;罗丹
受保护的技术使用者：凯盛科技股份有限公司蚌埠华益分公司
技术研发日：2020.12.17
技术公布日：2021.03.12
