一种印花釉面砖及其生产工艺的制作方法

    专利2022-07-08  64

    本发明涉及一种印花釉面砖及其生产工艺。



    背景技术:

    胶辊印花是-种比较新兴的印花工艺。胶辊印花一次性投资较大,成本较高,但他的印花效果好,质感强,花色种类丰富多样,其装饰效果柔和、质朴、典雅,越来越受消费者们的青睐。胶辊印花对各方面都要求较高,生产中易出现各种问题,影响生产质量以及生产效率。



    技术实现要素:

    本发明所要解决的技术问题是克服现有技术的不足,提供了一种生产稳定、成品率高、砖面印花效果好的印花釉面砖及其生产工艺。

    本发明中的印花釉面砖包括砖坯体、喷涂在所述砖坯体外表的底釉以及印制在所述底釉上的印花层,所述砖坯体按百分比算,包含以下组分:钾长石10%-15%,钠长石10%-20%,锂辉石5%-15%,煅烧高岭土5%-15%,烧滑石1%-3%,黑泥15%-30%,混合黑泥15%-25%;所述底釉按百分比算,包含以下组分:钠长石23%-27%,方解石8%-12%,白云石8%-12%,烧滑石8%-12%,石英3%-8%,黑泥20%-30%,煅烧高岭土10%-20%。

    进一步地,所述砖坯体按百分比算,包含以下组分:钾长石13%,钠长石15%,锂辉石10%,煅烧高岭土10%,烧滑石2%,黑泥25%,混合黑泥25%;所述底釉按百分比算,包含以下组分:钠长石24%,方解石10%,白云石10%,烧滑石10%,石英6%,黑泥25%,煅烧高岭土15%。

    本发明中用于生产上述印花釉面砖的工艺,包括以下步骤:

    a.将砖坯体的各组分原料制成砖坯体;

    b.将底釉的各组分原料制成底釉浆;

    c.为所述砖坯体施喷所述底釉浆;

    d.雕刻图案制作胶辊;

    e.调配去釉粉印油,为步骤c所得砖坯体印制印花图案;

    f.烧制。

    在步骤d中,胶辊的雕刻采用45度角倾斜雕刻。

    在步骤d中,胶辊的滚筒孔径为0.25毫米。

    本发明的有益效果在于:在本发明中,通过在坯料中增加黏土类原料来增加坯体中a12o3和sio2的含量,增强坯体可塑性的同时提高了坯体的热膨胀系数;在釉料中通过白云石和滑石引入较多的mgo,既可作为无光剂,提高釉面无光效果,与印花效果更贴合,同时mgo弹性模量小、弹性好,弥补了面釉抗张强度小的弱点,使坯釉结合更好;滚筒孔径由以往0.4-0.5mm改为0.25mm,使印花效果更加清晰细致;采用45度角倾斜雕刻,使印花处厚薄均匀细腻平滑。

    具体实施方式

    本发明中的印花釉面砖包括砖坯体、喷涂在所述砖坯体外表的底釉以及印制在所述底釉上的印花层,所述砖坯体按百分比算,包含以下组分:钾长石10%-15%,钠长石10%-20%,锂辉石5%-15%,煅烧高岭土5%-15%,烧滑石1%-3%,黑泥15%-30%,混合黑泥15%-25%;所述底釉按百分比算,包含以下组分:钠长石23%-27%,方解石8%-12%,白云石8%-12%,烧滑石8%-12%,石英3%-8%,黑泥20%-30%,煅烧高岭土10%-20%。

    在本具体实施中,所述砖坯体按百分比算,包含以下组分:钾长石13%,钠长石15%,锂辉石10%,煅烧高岭土10%,烧滑石2%,黑泥25%,混合黑泥25%;所述底釉按百分比算,包含以下组分:钠长石24%,方解石10%,白云石10%,烧滑石10%,石英6%,黑泥25%,煅烧高岭土15%。

    本发明中用于生产上述印花釉面砖的工艺,包括以下步骤:

    a.将砖坯体的各组分原料制成砖坯体;

    b.将底釉的各组分原料制成底釉浆;

    c.为所述砖坯体施喷所述底釉浆;

    d.雕刻图案制作胶辊,胶辊的雕刻采用45度角倾斜雕刻,胶辊的滚筒孔径为0.25毫米;

    e.调配去釉粉印油,为步骤c所得砖坯体印制印花图案;

    f.烧制。

    在滚简印花之前要在坯体表面施-层薄薄的底釉。釉层要薄,坯体强度要大坯釉适应高,使坯体与与釉面紧密贴合,釉面不龟裂,不剥脱。当坯釉膨胀系数相等即a釉=a坯,釉层和坯体可完美结合,坯釉在烧结过程中。釉中的na2o和k2o会向坯体中扩散减少,而坯体中的a12o3和sio2也会相应的向釉中扩散,使釉的膨胀系数降低,坯的膨胀系数增大,所以在调节过程中要保证釉的热膨胀系数略低于坯的膨胀系数。通过坯料中增加黏土类原料来增加坯体中al2o3和sio2的含量,增强坯体可塑性的同时提高了坯体的热膨胀系数,当坯体中石英含量高时,转化成方石英的几率就越大,坯的膨胀系数也增大。面釉中通过白云石和滑石引入较多的mgo,既可以作为很好的无光剂,使釉面无光,增添其古朴典雅的效果,与印花效果更贴合。同时mgo弹性模量小,弹性好,弥补了其抗张强度小的弱点,使坯釉结合更好,釉层厚度保持在0.2-0.3mm之间。釉内压应力较小,也有利于坯釉结合,更能节省成本。

    本发明适用于小规格瓷砖的生产,为了使每块砖上面都呈现出较为饱满完整的花纹,孔径设计较精密,在花纹的周边形成一个淡淡的底色外框,把花纹装饰起来,更显一种立体美。滚筒孔径设计由以往的0.4-0.5改为0.25mm,极大的减小了孔径尺寸,印花效果更加清晰细致,采用45度角倾斜雕刻,相比于以往的90度角倾斜雕刻,印花处厚薄均匀细腻平滑。在印油方面去掉传统印花中的釉粉,而选用两种粘度和流速不同的印油来搭配使用,来调节印油的流速和粘度,使之与釉面完美贴合,增加印花效率,同时配合专用色料使用,调整花色,使花色丰富多样。

    本发明适用于印花釉面砖的产生制造领域。


    技术特征:

    1.一种印花釉面砖,包括砖坯体、喷涂在所述砖坯体外表的底釉以及印制在所述底釉上的印花层,其特征在于,所述砖坯体按百分比算,包含以下组分:钾长石10%-15%,钠长石10%-20%,锂辉石5%-15%,煅烧高岭土5%-15%,烧滑石1%-3%,黑泥15%-30%,混合黑泥15%-25%;所述底釉按百分比算,包含以下组分:钠长石23%-27%,方解石8%-12%,白云石8%-12%,烧滑石8%-12%,石英3%-8%,黑泥20%-30%,煅烧高岭土10%-20%。

    2.根据权利要求1所述的一种印花釉面砖,其特征在于,所述砖坯体按百分比算,包含以下组分:钾长石13%,钠长石15%,锂辉石10%,煅烧高岭土10%,烧滑石2%,黑泥25%,混合黑泥25%;所述底釉按百分比算,包含以下组分:钠长石24%,方解石10%,白云石10%,烧滑石10%,石英6%,黑泥25%,煅烧高岭土15%。

    3.一种用于生产权利要求1或2所述的一种印花釉面砖的工艺,其特征在于,包括以下步骤:

    a.将砖坯体的各组分原料制成砖坯体;

    b.将底釉的各组分原料制成底釉浆;

    c.为所述砖坯体施喷所述底釉浆;

    d.雕刻图案制作胶辊;

    e.调配去釉粉印油,为步骤c所得砖坯体印制印花图案;

    f.烧制。

    4.根据权利要求3所述的一种印花釉面砖的生产工艺,其特征在于:在步骤d中,胶辊的雕刻采用45度角倾斜雕刻。

    5.根据权利要求4所述的一种印花釉面砖的生产工艺,其特征在于:在步骤d中,胶辊的滚筒孔径为0.25毫米。

    技术总结
    本发明公开并提供了一种生产稳定、成品率高、砖面印花效果好的印花釉面砖及其生产工艺本发明中的耐污釉面砖。本发明中的印花釉面砖,包括砖坯体、喷涂在所述砖坯体外表的底釉以及印制在所述底釉上的印花层,所述砖坯体按百分比算,包含以下组分:钾长石10%‑15%,钠长石10%‑20%,锂辉石5%‑15%,煅烧高岭土5%‑15%,烧滑石1%‑3%,黑泥15%‑30%,混合黑泥15%‑25%;所述底釉按百分比算,包含以下组分:钠长石23%‑27%,方解石8%‑12%,白云石8%‑12%,烧滑石8%‑12%,石英3%‑8%,黑泥20%‑30%,煅烧高岭土10%‑20%。本发明适用于印花釉面砖的产生制造领域。

    技术研发人员:宁红军;范怀瑞;陈海涛
    受保护的技术使用者:珠海市白兔陶瓷有限公司
    技术研发日:2020.12.29
    技术公布日:2021.03.12

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