本发明涉及电子工业技术领域，具体为一种可自由调节固定喷头的半导体清洗设备。
背景技术：
电子清洗技术对电子工业，特别是对半导体工业生产是极为重要的，在半导体器件和集成电路的制造过程中，几乎每道工序都涉及到清洗，而且集成电路的集成度愈高，制造工序愈多，所需的清洗工序也愈多，可以说如果没有有效的清洗技术，便没有今日的半导体器件、集成电路和超大规模集成电路的发展：
传统的半导体清洗设备，由于喷头为固定安装的，只能对一个方向进行喷洒是清洗剂，不便于调节喷头喷洒的方向。
技术实现要素：
本发明的目的在于提供一种可自由调节固定喷头的半导体清洗设备，以解决上述背景技术中提出不便于调节喷头喷洒的方向的问题。
为实现上述目的，本发明提供如下技术方案：一种可自由调节固定喷头的半导体清洗设备，包括主体、第二固定块、第三腔体和过滤筛板，所述主体内部的顶端安装有喷洒空腔，且喷洒空腔底端的两侧均安装有喷洒头，所述喷洒空腔的一端安装有第二伺服电机，且第二伺服电机的一端安装有传动盘，所述传动盘一端的两侧安装有第二固定块，所述主体的内部设置有摆动结构，所述摆动结构包括固定杆、清扫刷、第一传动块、第二传动块、伸缩杆和第一固定块，所述伸缩杆均安装在主体内部的两侧，所述伸缩杆的一侧安装有固定杆，且固定杆的一端安装有第一传动块，所述固定杆一端的一侧安装有第一固定块，且第一固定块的外部安装有第二传动块，所述固定杆的底端安装有清扫刷，所述喷洒空腔均贯穿于固定杆内部的两侧，所述第二传动块的一侧和喷洒空腔的一端相铰接，所述主体内部的底端安装有工作台，所述主体底端的两侧均设置有第二滑槽，所述主体的底端设置有第一腔体，且第一腔体的内部设置有夹持结构，所述第一腔体的底端设置有第三腔体，且第三腔体内部的顶端设置有第二腔体，所述第二腔体内部的顶端安装有第一伺服电机，所述第三腔体内部顶端的两侧均安装有过滤筛板，所述第三腔体一侧的底端安装有水管，且水管的顶端与喷洒空腔的底端相连通，所述水管外部的一侧安装有水泵。
优选的，所述第二传动块呈“l”状设置，所述第二传动块和第一固定块活动连接。
优选的，所述夹持结构包括活动块、传动杆、第一滑槽、滑动块和夹持块，所述第一滑槽均设置在第一腔体底端的两侧，所述第一滑槽的内部均安装有滑动块，且滑动块的顶端均安装有夹持块，所述滑动块的一侧均铰接有传动杆，且相邻传动杆之间安装有活动块，所述夹持块和主体相连通。
优选的，所述滑动块底端的外径下雨第一滑槽的内径所述滑动块和第一滑槽构成滑动结构。
优选的，所述夹持块设置有两组，所述夹持块的大小相等。
优选的，所述喷洒头设置在同一水平面上，所述喷洒头关于主体的垂直中心线呈对称分布。
与现有技术相比，本发明的有益效果是：该种可自由调节固定喷头的半导体清洗设备结构合理，具有以下优点：
(1)通过在喷洒空腔的一端安装有第二伺服电机，启动第二伺服电机，会带动传动盘转动，第二固定块也会随着传动盘转动，由于第二传动块的一侧和喷洒空腔相铰接，传动盘顺时针转动时会将第二传动块推动，带动第一固定块向右运动，随之运动到第一传动块的一侧推动第一传动块向左运动，传动盘的持续性转动便会带动固定杆持续左右移动，随之带动喷洒头左右进行喷洒清扫刷即可对半导体进行清刷；
(2)通过在第二腔体内部的顶端安装有第一伺服电机，启动第一伺服电机，会带动活动块转动，随之带动传动杆的一侧想不通的方向运动，随之将滑动块带动响相反的方向运动，随之对工作台顶端的半导体进行夹持，便于后续清洗；
(3)通过在主体内部底端的两侧安装有第二滑槽，喷洒出来的清洗剂通过第二滑槽进入第一腔体内部，随后经过第一滑槽到达过滤筛板的顶端进行过滤，到达第三腔体的底端，启动水泵，可以将第三腔体内部过滤后干净的清洗剂抽入到喷洒空腔内部进行重复利用。
附图说明
图1为本发明的正视剖面结构示意图；
图2为本发明的第一腔体局部俯视剖面结构示意图；
图3为本发明的局部侧视剖面结构示意图；
图4为本发明的图1中a处局部结构示意图。
图中：1、主体；2、摆动结构；201、固定杆；202、清扫刷；203、第一传动块；204、第二传动块；205、伸缩杆；206、第一固定块；3、水泵；4、传动盘；5、第二固定块；6、夹持结构；601、活动块；602、传动杆；603、第一滑槽；604、滑动块；605、夹持块；7、工作台；8、第二滑槽；9、水管；10、第一腔体；11、第二腔体；12、第一伺服电机；13、第三腔体；14、过滤筛板；15、喷洒头；16、喷洒空腔；17、第二伺服电机。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
请参阅图1-4，本发明提供的一种实施例：一种可自由调节固定喷头的半导体清洗设备，包括主体1、第二固定块5、第三腔体13和过滤筛板14，主体1内部的顶端安装有喷洒空腔16，且喷洒空腔16底端的两侧均安装有喷洒头15，喷洒头15设置在同一水平面上，喷洒头15关于主体1的垂直中心线呈对称分布，便于清洗；
喷洒空腔16的一端安装有第二伺服电机17，且第二伺服电机17的一端安装有传动盘4，该第二伺服电机17的型号可为y90l-2，传动盘4一端的两侧安装有第二固定块5，主体1的内部设置有摆动结构2，摆动结构2包括固定杆201、清扫刷202、第一传动块203、第二传动块204、伸缩杆205和第一固定块206，伸缩杆205均安装在主体1内部的两侧，伸缩杆205的一侧安装有固定杆201，且固定杆201的一端安装有第一传动块203，固定杆201一端的一侧安装有第一固定块206，且第一固定块206的外部安装有第二传动块204，第二传动块204呈“l”状设置，第二传动块204和第一固定块206活动连接，便于传动，启动第二伺服电机17，会带动传动盘4转动，第二固定块5也会随着传动盘4转动，由于第二传动块204的一侧和喷洒空腔16相铰接，传动盘4顺时针转动时会将第二传动块204推动向右运动，随之运动到第一传动块203的一侧推动第一传动块203向左运动，传动盘4的持续性转动便会带动固定杆201持续左右移动，喷洒头15的顶端为波纹软管，固定杆201移动不会破坏波纹软管，随之带动喷洒头15左右进行喷洒，此时清扫刷202即可对半导体进行左右清刷；
固定杆201的底端安装有清扫刷202，喷洒空腔16均贯穿于固定杆201内部的两侧，第二传动块204的一侧和喷洒空腔16的一端相铰接，主体1内部的底端安装有工作台7，主体1底端的两侧均设置有第二滑槽8，主体1的底端设置有第一腔体10，且第一腔体10的内部设置有夹持结构6，夹持结构6包括活动块601、传动杆602、第一滑槽603、滑动块604和夹持块605，第一滑槽603均设置在第一腔体10底端的两侧，第一滑槽603的内部均安装有滑动块604，且滑动块604的顶端均安装有夹持块605，滑动块604的一侧均铰接有传动杆602，且相邻传动杆602之间安装有活动块601，夹持块605和主体1相连通，滑动块604底端的外径下雨第一滑槽603的内径滑动块604和第一滑槽603构成滑动结构，便于滑动，夹持块605设置有两组，夹持块605的大小相等，便于夹持，将需要清晰的半导体放到工作台7的顶端，启动第一伺服电机12，会带动活动块601转动，随之带动传动杆602的一侧想不通的方向运动，随之将滑动块604带动响相反的方向运动，随之对工作台7顶端的半导体进行夹持，便于后续清洗；
第一腔体10的底端设置有第三腔体13，且第三腔体13内部的顶端设置有第二腔体11，第二腔体11内部的顶端安装有第一伺服电机12，该第一伺服电机12的型号可为y90s-2，第三腔体13内部顶端的两侧均安装有过滤筛板14，第三腔体13一侧的底端安装有水管9，且水管9的顶端与喷洒空腔16的底端相连通，水管9外部的一侧安装有水泵3，清洗后的清洗剂通过第二滑槽8进入第一腔体10内部，随后经过第一滑槽603到达过滤筛板14的顶端进行过滤，到达第三腔体13的底端，启动水泵3，可以将第三腔体13内部过滤后干净的清洗剂抽入到喷洒空腔16内部进行重复利用。
工作原理：使用时，该装置采用外接电源，首先，将需要清晰的半导体放到工作台7的顶端，启动第一伺服电机12，会带动活动块601转动，随之带动传动杆602的一侧想不通的方向运动，随之将滑动块604带动响相反的方向运动，随之对工作台7顶端的半导体进行夹持，便于后续清洗；
之后，启动第二伺服电机17，会带动传动盘4转动，第二固定块5也会随着传动盘4转动，由于第二传动块204的一侧和喷洒空腔16相铰接，传动盘4顺时针转动时会将第二传动块204推动向右运动，随之运动到第一传动块203的一侧推动第一传动块203向左运动，传动盘4的持续性转动便会带动固定杆201持续左右移动，喷洒头15的顶端为波纹软管，固定杆201移动不会破坏波纹软管，随之带动喷洒头15左右进行喷洒，此时清扫刷202即可对半导体进行左右清刷；
最后，清洗后的清洗剂通过第二滑槽8进入第一腔体10内部，随后经过第一滑槽603到达过滤筛板14的顶端进行过滤，到达第三腔体13的底端，启动水泵3，可以将第三腔体13内部过滤后干净的清洗剂抽入到喷洒空腔16内部进行重复利用。
对于本领域技术人员而言，显然本发明不限于上述示范性实施例的细节，而且在不背离本发明的精神或基本特征的情况下，能够以其他的具体形式实现本发明。因此，无论从哪一点来看，均应将实施例看作是示范性的，而且是非限制性的，本发明的范围由所附权利要求而不是上述说明限定，因此旨在将落在权利要求的等同要件的含义和范围内的所有变化囊括在本发明内。不应将权利要求中的任何附图标记视为限制所涉及的权利要求。
1.一种可自由调节固定喷头的半导体清洗设备，包括主体(1)、第二固定块(5)、第三腔体(13)和过滤筛板(14)，其特征在于：所述主体(1)内部的顶端安装有喷洒空腔(16)，且喷洒空腔(16)底端的两侧均安装有喷洒头(15)，所述喷洒空腔(16)的一端安装有第二伺服电机(17)，且第二伺服电机(17)的一端安装有传动盘(4)，所述传动盘(4)一端的两侧安装有第二固定块(5)，所述主体(1)的内部设置有摆动结构(2)，所述摆动结构(2)包括固定杆(201)、清扫刷(202)、第一传动块(203)、第二传动块(204)、伸缩杆(205)和第一固定块(206)，所述伸缩杆(205)均安装在主体(1)内部的两侧，所述伸缩杆(205)的一侧安装有固定杆(201)，且固定杆(201)的一端安装有第一传动块(203)，所述固定杆(201)一端的一侧安装有第一固定块(206)，且第一固定块(206)的外部安装有第二传动块(204)，所述固定杆(201)的底端安装有清扫刷(202)，所述喷洒空腔(16)均贯穿于固定杆(201)内部的两侧，所述第二传动块(204)的一侧和喷洒空腔(16)的一端相铰接，所述主体(1)内部的底端安装有工作台(7)，所述主体(1)底端的两侧均设置有第二滑槽(8)，所述主体(1)的底端设置有第一腔体(10)，且第一腔体(10)的内部设置有夹持结构(6)，所述第一腔体(10)的底端设置有第三腔体(13)，且第三腔体(13)内部的顶端设置有第二腔体(11)，所述第二腔体(11)内部的顶端安装有第一伺服电机(12)，所述第三腔体(13)内部顶端的两侧均安装有过滤筛板(14)，所述第三腔体(13)一侧的底端安装有水管(9)，且水管(9)的顶端与喷洒空腔(16)的底端相连通，所述水管(9)外部的一侧安装有水泵(3)。
2.根据权利要求1所述的一种可自由调节固定喷头的半导体清洗设备，其特征在于：所述第二传动块(204)呈“l”状设置，所述第二传动块(204)和第一固定块(206)活动连接。
3.根据权利要求1所述的一种可自由调节固定喷头的半导体清洗设备，其特征在于：所述夹持结构(6)包括活动块(601)、传动杆(602)、第一滑槽(603)、滑动块(604)和夹持块(605)，所述第一滑槽(603)均设置在第一腔体(10)底端的两侧，所述第一滑槽(603)的内部均安装有滑动块(604)，且滑动块(604)的顶端均安装有夹持块(605)，所述滑动块(604)的一侧均铰接有传动杆(602)，且相邻传动杆(602)之间安装有活动块(601)，所述夹持块(605)和主体(1)相连通。
4.根据权利要求3所述的一种可自由调节固定喷头的半导体清洗设备，其特征在于：所述滑动块(604)底端的外径下雨第一滑槽(603)的内径所述滑动块(604)和第一滑槽(603)构成滑动结构。
5.根据权利要求3所述的一种可自由调节固定喷头的半导体清洗设备，其特征在于：所述夹持块(605)设置有两组，所述夹持块(605)的大小相等。
6.根据权利要求1所述的一种可自由调节固定喷头的半导体清洗设备，其特征在于：所述喷洒头(15)设置在同一水平面上，所述喷洒头(15)关于主体(1)的垂直中心线呈对称分布。
技术总结