本技术涉及半导体加工、检测领域，具体为一种扫描探针显微镜用的真空吸盘装置。
背景技术：
1、扫描探针显微镜（spm， scanning probe microscopy）广泛应用于现代工业生产和科学研究之中，是利用探针对样品表面形貌进行精密测量的设备，而真空吸盘是其必不可少的功能部件之一，一般是通过真空来吸附固定晶圆，并随着运动台在xy平面移动达到指定的位置。真空吸附原理是盘体联通真空发生源，在表面的吸附槽中行程真空负压区域，晶圆在负压作用下被吸附在吸盘表面，从而被固定。
2、目前常用的吸盘一般只能吸附一种尺寸的晶圆，不同规格尺寸的晶圆需要不同的吸盘。
技术实现思路
1、本实用新型目的在于提供一种扫描探针显微镜的真空吸盘装置，旨在满足晶圆自动化检测的需求。采取的技术方案如下：
2、一种扫描探针显微镜用的真空吸盘装置，包括真空吸盘盘体，真空吸盘盘体上设置真空吸气槽，真空吸盘盘体的正面上设置多条不连通的吸附气道，每条吸附气道上均开设吸附气孔，真空吸盘盘体的反面开设真空吸气孔，吸附气孔和真空吸气孔均连通真空吸气槽。
3、对本实用新型技术方案的优选，吸附气道为环形，吸附气道为多圈气道设计，提高吸附面积和吸附能力。
4、对本实用新型技术方案的优选，真空吸盘盘体的正面上内凹设置凹槽。置凹槽的设计目的是方便自动化拿取的机械手进入。
5、对本实用新型技术方案的优选，真空吸盘盘体采用氧化铝陶瓷材料制成，使得此吸盘具有较高的导热性能。
6、对本实用新型技术方案的优选，真空吸盘盘体周围设置安装孔，用于将真空吸盘固定。
7、对本实用新型技术方案的优选，真空吸盘盘体的正面上螺旋设置8英寸吸附气道和12英寸吸附气道，在8英寸吸附气道上设置8英寸吸附气孔，在12英寸吸附气道上设置12英寸吸附气孔，使得吸盘可以同时兼容8英寸和12英寸两种规格的晶圆的检测。
8、本实用新型与现有技术相比具有的有益效果是：
9、本实用新型的吸盘可以同时兼容8英寸和12英寸两种规格的晶圆的检测，同时可以满足机械手自动取、放晶圆的功能，同时采用多气道设计，提高吸附面积和吸附力，最后选用的材料为氧化铝陶瓷，增加导热能力和吸盘表面的平面度，从而时使得吸盘整体具有较好的性能并满足自动化测量。
1.一种扫描探针显微镜用的真空吸盘装置，包括真空吸盘盘体（1），真空吸盘盘体（1）上设置真空吸气槽（7），其特征在于：所述真空吸盘盘体（1）的正面上设置多条不连通的吸附气道（3），每条吸附气道（3）上均开设吸附气孔（4），真空吸盘盘体（1）的反面开设真空吸气孔（6），吸附气孔（4）和真空吸气孔（6）均连通真空吸气槽（7）。
2.根据权利要求1所述的扫描探针显微镜用的真空吸盘装置，其特征在于：吸附气道（3）为环形。
3.根据权利要求1所述的扫描探针显微镜用的真空吸盘装置，其特征在于：真空吸盘盘体（1）的正面上内凹设置凹槽（5）。
4.根据权利要求1所述的扫描探针显微镜用的真空吸盘装置，其特征在于：真空吸盘盘体（1）采用氧化铝陶瓷材料制成。
5.根据权利要求1所述的扫描探针显微镜用的真空吸盘装置，其特征在于：真空吸盘盘体（1）周围设置安装孔。
6.根据权利要求1所述的扫描探针显微镜用的真空吸盘装置，其特征在于：真空吸盘盘体（1）的正面上螺旋设置8英寸吸附气道和12英寸吸附气道，在8英寸吸附气道上设置8英寸吸附气孔，在12英寸吸附气道上设置12英寸吸附气孔。
