原料供给装置的制作方法

    专利2026-08-03  6


    本公开涉及原料供给装置。


    背景技术:

    1、已知有以下这样的技术:在将固体原料溶解于溶剂并向处理室内以雾状喷射之后,对处理室内加热而去除溶剂并使固体原料残留,接下来,对处理室内加热而使固体原料升华,生成对应的气体(例如,参照专利文献1、2)。

    2、现有技术文献

    3、专利文献

    4、专利文献1:日本特开2004-115831号公报

    5、专利文献2:日本特开2009-170800号公报


    技术实现思路

    1、发明要解决的问题

    2、本公开提供一种能够在使固体原料升华而向处理容器供给时以大流量进行供给的技术。

    3、用于解决问题的方案

    4、本公开的一技术方案的原料供给装置由使固体原料溶解于溶剂而得到的溶液或使固体原料分散于分散介质而得到的分散体生成反应性气体,其中,该原料供给装置具有:容器,其具有形成内部空间的第1壁面;喷雾喷嘴,其向所述内部空间喷雾所述溶液或所述分散体;以及壁构造体,其设于所述内部空间,具有沿铅垂方向延伸的第2壁面。

    5、发明的效果

    6、根据本公开,能够在使固体原料升华而向处理容器供给时以大流量进行供给。



    技术特征:

    1.一种原料供给装置,其由使固体原料溶解于溶剂而得到的溶液或使固体原料分散于分散介质而得到的分散体生成反应性气体,其中,

    2.根据权利要求1所述的原料供给装置,其中,

    3.根据权利要求1所述的原料供给装置,其中,

    4.根据权利要求1所述的原料供给装置,其中,

    5.根据权利要求4所述的原料供给装置,其中,

    6.根据权利要求4或5所述的原料供给装置,其中,

    7.根据权利要求4或5所述的原料供给装置,其中,

    8.根据权利要求1所述的原料供给装置,其中,

    9.根据权利要求8所述的原料供给装置,其中,

    10.根据权利要求8或9所述的原料供给装置,其中,

    11.根据权利要求8或9所述的原料供给装置,其中,

    12.根据权利要求8或9所述的原料供给装置,其中,

    13.根据权利要求8或9所述的原料供给装置,其中,

    14.根据权利要求13所述的原料供给装置,其中,

    15.一种原料供给装置,其由使固体原料溶解于溶剂而得到的溶液或使固体原料分散于分散介质而得到的分散体生成反应性气体,其中,


    技术总结
    本公开的一形态的原料供给装置由使固体原料溶解于溶剂而得到的溶液或使固体原料分散于分散介质而得到的分散体生成反应性气体,其中,该原料供给装置具有:容器,其具有形成内部空间的第1壁面;喷雾喷嘴,其向所述内部空间喷雾所述溶液或所述分散体;以及壁构造体,其设于所述内部空间,具有沿铅垂方向延伸的第2壁面。

    技术研发人员:小森荣一
    受保护的技术使用者:东京毅力科创株式会社
    技术研发日:
    技术公布日:2024/4/29
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